KR970077316A - 플라즈마 에칭 시스템 - Google Patents
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Abstract
웨이퍼를 원하는 형상으로 에칭시키기 위한 플라즈마 에칭 시스템에 관하여 기재하고 있다. 이는, 플라즈마 상태로 존재하는 반응 가스의 에칭 작용에 의하여 웨이퍼를 원하는 형상으로 에칭시키는 반응이 이루어지는 챔버와, 상기 챔버에 혼합 가스를 공급하기 위한 제1저장 용기와, 상기 제1저장 용기에 산소를 공급하기 위한 제2저장 용기로 이루어져 있으며, 상기 제1저장 용기로부터 상기 챔버에 공급된 혼합 가스는 메탄올과 산소로 이루어져 있다. 본 발명에 따르면, 진공 챔버내에 공급되는 메탄올이 산소와 적절한 혼합 비율로 혼합된 상태로 유지되어 있으므로 산소의 분압에 의하여 상기 진공 챔버내의 진공 상태가 변하여도 메탄올과 산소로 이루어진 혼합 가스가 일정한 혼합 비율로 유지되어 있으므로 웨이퍼를 원하는 형상으로 에칭시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 플라즈마 에칭 시스템을 도시한 구성도이다.
Claims (2)
- 플라즈마 상태로 존재하는 반응 가스의 에칭 작용에 의하여 웨이퍼를 원하는 형상으로 에칭시키는 반응이 이루어지는 챔버와 상기 챔버에 혼합 가스를 공급하기 위한 제1저장 용기와 상기 제1저장 용기에 산소를 공급하기 위한 제2저장 용기로 이루어져 있으며, 상기 제1저장 용기로부터 상기 챔버에 공급된 혼합 가스는 메탄올과 산소로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 에칭 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 제1저장 용기에는 메탄올이 저장되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 에칭 시스템.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960018228A KR970077316A (ko) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | 플라즈마 에칭 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960018228A KR970077316A (ko) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | 플라즈마 에칭 시스템 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970077316A true KR970077316A (ko) | 1997-12-12 |
Family
ID=66283996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960018228A KR970077316A (ko) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | 플라즈마 에칭 시스템 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970077316A (ko) |
-
1996
- 1996-05-28 KR KR1019960018228A patent/KR970077316A/ko not_active Application Discontinuation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |