KR970077282A - 반도체 기판 세정 용액 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 기판 세정 용액에 관한 것이다. 하기 식(Ⅰ)로 표시되는 불화암모늄, 불산 및 탈이온수를 포함하는 세정 용액을 이용하면, 현상 공정 후에 표면에 남아 있는 유기 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.
RNH3F ( I )
여기에서, R은 C2∼C18탄화수소임.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (3)
- 하기 식( I )로 표시되는 불화암모늄, 불산 및 탈이온수를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판 세정용액.RNH3F ( I )여기에서, R은 C2∼C18탄화수소임.
- 제1항에 있어서, 상기 불화암모늄의 함유량은 상기 불산 1몰에 대하여 2내지 7몰인 것을 특징으로 하는 반도체 기판 세정 용액.
- 제1항에 있어서, 상기 탈이온수는 상기 불화암모늄 및 불산의 총중량에 대하여 100중량% 이하인 것을 특징으로 하는 반도체 기판 세정 용액.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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ID=19460081
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|---|---|---|---|---|
| US6369008B1 (en) | 1999-09-20 | 2002-04-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cleaning solutions for removing contaminants from the surfaces of semiconductor substrates and cleaning methods using the same |
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1996
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| KR100338764B1 (ko) * | 1999-09-20 | 2002-05-30 | 윤종용 | 반도체 기판의 오염 물질을 제거하기 위한 세정액 및 이를 이용한 세정방법 |
| KR100554515B1 (ko) * | 2003-02-27 | 2006-03-03 | 삼성전자주식회사 | 세정액 및 이를 이용한 기판의 세정방법 |
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| KR100190042B1 (ko) | 1999-06-01 |
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