KR970072021A - 기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법 - Google Patents

기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법 Download PDF

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Abstract

1. 청구범위에 속한 기술분야
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판에 레지스트를 도포하여 현상하는 기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판을 유지한 스핀척 및 컵을 효율좋게 회전시키고, 스루풋의 향상 및 제품수율의 향상을 도모하여, 장치의 소형화 및 제품수율의 향상을 도모한다.
3. 발명의 해결방법 및 요지
본 발명의 기판의 레지스트 처리장치는, 기판을 수평유지하는 스핀척과, 이 스핀척을 가변으로 회전시키는 제1모터와, 스핀척에 유지된 기판의 윗면에 레지스트액을 뿌리는 노즐과, 기판을 내고들이기 위한 상부 개구 및 스핀척의 구동축이 지나는 하부개구를 구비하고, 스핀회전하는 기판으로부터 원심분리된 액체를 받도록 스핀척에 유지된 기판을 둘러싸는 컵과, 컵의 상부개구에 씌워져서 기판 주위의 처리 스페이스를 규정하는 개폐덮개와, 컵을 스핀척과 독립적으로 가변으로 회전시키는 제2모터와, 서로 떨어진 상태에 있는 컵과 스핀척이 상호 접촉할 때까지 적어도 한쪽을 상대적으로 이동시키는 승강 실린더와, 이 승강 실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵과 시핀척과의 상호 접촉 부분을 기체밀폐적으로 시일하는 O-링을 구비하며, 승강실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵의 하부개구가 스핀척에 의해 막혀서 기체 밀폐적인 처리 스페이스가 형성되고, 이 기체 밀폐적인 처리 스페이스를 유지하면서 제1 및 제2모터에 의해 스핀척 및 컵을 동기회전시킨다.
4. 발명의 중요한 용도
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판 레지스트 처리에 이용한다.

Description

기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 실시형태에 관한 기판의 레지스트 처리장치를 나타낸 블록 단면도.

Claims (27)

  1. 기판을 수평 유지하는 스핀척과, 이 스핀척을 가변으로 회전시키는 제1회전구동수단과, 상기 스핀척에 유지된 기판의 윗면에 레지스트액을 뿌리는 노즐수단과, 기판을 내고들이기 위한 상부개구 및 상기 스핀척의 구동축이 지나는 하부개구를 구비하고, 스핀전하는 기판으로부터 원심 분리된 액체를 받도록 상기 스핀척에 유지된 기판을 둘러싸는 컵과, 상기 컵의 상부개구에 씌워져서 기판 주위의 처리 스페이스를 규정하는 개폐덮개와, 상기 컵을 상기 스핀척과는 독립하여 가변으로 회전시키는 제2회전 구동수단과, 서로 떨어진 상태에 있는 상기 컵과 상기 스핀척이 상호 접촉할 때까지 적어도 한쪽을 상대적으로 이동시키는 이동수단과, 이 이동수단에 의해 상기 컵과 상기 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 상기 컵과 상기 스핀척과의 상호 접촉부분을기체 밀폐적으로 시일하는 시일수단을 구비하며, 상기 이동수단에 의해 상기 컵과 상기 스핀척이 상호 접촉되었을 때에, 상기 컵의 하부개구가 상기 스핀척에 의해 막혀서 기체 밀폐적인 처리 스페이스가 형성되고, 이 기체 밀폐적인 처리 스페이스를 유지하면서 상기 제1및 제2회전구동수단에 의해 상기 스핀척 및 상기 컵을 동기 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2회전구동수단의 회전수를 각각 검출하는 회전수 검출수단과, 이들의 검출회전수에 의거하여 상기 스핀척의 회전동작 및 상기 컵의 회전동작을 각각 피드백 제어하는 제어수단을 더욱 가지는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제어수단은, 제1 및 제2회전구동수단의 기동에서 정상회전속도에 도달하기 까지의 가속도를 각각 제어함과 동시에, 제1 및 제2회전구동수단의 정상 회전속도로부터 정지에 이르기 까지의 감속도를 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 이동수단 및 상기 노즐수단의 동작을 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 개폐덮개를 상기 컵에 씌우거나 상기 컵으로부터 떼어내거나 하는 개폐구동수단을 더욱 가지며, 이 개폐구동수단의 동작은 상기 제어수단에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 시일수단은, 상기 스핀척에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 컵의 하부개구의 직경은, 상기 스핀척의 직경보다도 작은 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 노즐수단은, 레지스트 처리용의 액체를 기판에 뿌리는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  9. 기판을 수평 유지하는 스핀척과, 이 스핀척에 유지된 기판의 윗면에 레지스트액을 뿌리는 노즐수단과, 상기 스핀척을 가변으로 회전시키는 회전구동수단과, 기판을 내고들이기 위한 상부개구와 상기 스핀척의 구동축을 지나는 하부개구를 구비하고, 스핀회전하는 기판으로부터 원심 분리된 액체를 받도록 상기 스핀척에 유지된 기판을 둘러싸는 컵과, 상기 컵의 상부개구에 씌어져서 기판주위의 처리 스페이스를 규정하는 개폐덮개와, 서로 떨어진 상태에 있는 상기 컵과 상기 스핀척이 상호 접촉할 때까지 적어도 한쪽을 상대적으로 이동시키는 이동수단과, 이 이동수단에 의해 상기 컵과 상기 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 양자의 접촉부분을 기체밀폐적으로 시일하는 시일수단과, 상기 스핀척에 설치된 제1걸어맞춤부재와, 이 제1걸어맞춤부재에 걸어맞추어지도록 상기 컵에 설치된 제2걸어맞춤부재를 구비하고, 상기 이동수단에 의해 상기 컵과 상기 스핀척이 상호 접촉되었을 때에, 상기 제1걸어맞춤부재가 상기 제2걸어맞춤부재에 걸어맞춤됨과 동시에, 상기 컵의 하부개구가 상기 스핀척에 의해 막혀서 기체 밀페적인 처리 스페이스가 형성되고, 이 기체 밀폐적인 처리 스페이스를 유지하면서 상기 회전구동수단에 의해 상기 스핀척 및 상기 컵을 동기회전시키는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 회전구동수단의 회전수를 검출하는 회전수 검출수단과, 이 검출회전수에 의거하여 상기 스핀척 및 컵의 회전동작을 피드백 제어하는 제어수단을 더욱 가지는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 회전구동수단의 기동에서 정상회전속도에 도달하기 까지의 가속도를 각각 제어함과 동시에, 상기 회전구동수단의 정상회전속도로부터 정지에 이르기 까지의 감속도를 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 이동수단 및 상기 노즐수단의 동작을 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 개폐덮개를 상기 컵에 씌우거나 상기 컵으로부터 떼어내거나 하는 개폐구동수단을 더욱 가지며, 이 개폐구동수단의 동작은 상기 제어수단에 의해서 제어되는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  14. 제9항에 있어서, 상기 시일수단은, 상기 스핀척에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  15. 제9항에 있어서, 상기 컵의 하부개구의 직경은, 상기 스핀척 컵의 직경보다도 작은 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  16. 제9항에 있어서, 상기 노즐 수단은, 레지스트 처리용의 액체를 기판에 부리는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리장치.
  17. 기판을 스핀척으로 회전시켜서 레지스트액을 기판으로 공급하고, 기판으로부터 원심 분리된 액체를 컵으로 받는 기판의 레지스트 처리방법으로서, (a) 기판을 스핀척으로 실질적으로 수평으로 유지하는 공정과, (b) 기판의 윗면에 레지스트액을 공급하는 공정과, (c) 스핀척과 함께 기판의 회전을 개시함과 동시에, 컵의 회전을 개시하는 공정과, (d) 스핀척의 회전수를 검출하는 공정과, (e) 컵의 회전수를 검출하는 공정과, (f) 컵의 검출회전수가 스핀척의 검출회전수와 같아지도록, 컵 및 스핀척 중 적어도 한쪽을 구동제어하는 공정과, (g) 컵의 검출회전수와 스핀척의 검출회전수가 일치했을 때에, 컵 및 스핀척의 적어도 한쪽을 근접이동시킴으로써, 컵 및 스핀척을 상호 기체 밀폐적으로 접촉시켜서 양자를 일체화시키는 공정과, (h) 컵 및 스핀척을 동기회전 시켜서 상기 액체를 기체 밀폐 분위기에서 기판 윗면에 확산시키는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 공정(c)에서는, 스핀척 및 컵을 동시에 회전 개시하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  19. 제17항에 있어서, 상기 공정(c)에서는, 컵의 회전을 개시한 후에 스핀척의 회전을 개시하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  20. 제17항에 있어서, 상기 공정(c)에서는, 기동으로부터 일정한 목표 회전속도에 도달할 때까지의 사이에서, 스핀척 및 컵의 회전가속도를 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  21. 제17항에 있어서, 상기 공정(h) 후에, 컵과 스핀척을 상호 접촉시킨 상태에서 양자를 동기감속시키고, 또한 동시에 정지시키는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  22. 제17항에 있어서, 상기 공정(b) 전에 기판에 레지스트 처리용의 액체를 뿌리는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  23. 기판을 스핀척으로 회전시켜서 레지스트액을 기판으로 공급하고, 기판으로부터 원심 분리된 액체를 컵으로 받는 기판의 레지스트 처리방법으로서, (A) 기판을 스핀척으로 실질적으로 수평으로 유지하는 공정과, (B) 스핀척 위의 기판의 윗면에 레지스트액을 공급하는 공정과, (C) 스핀척을 제1가속도로 기동하여 제1목표회전속도까지 회전시키고, 상기 액체를 기판 윗면에 확산시키는 제1확산공정과, (D) 스핀척의 회전을 정지시키는 공정과, (E) 컵 및 스핀척의 적어도 한쪽 근접이동시킴으로써 컵 및 스핀척을 상호 기체밀폐적으로 걸어맞춤시켜서 양자를 일체화하고, 스핀척 위의 기판을 둘러싸는 스페이스를 기체밀폐 상태로 하는 공정과, (F) 컵 및 스핀척을 상기 제1가속도보다도 작은 제2가속도로 제2목표회전속도까지 동기회전시키고, 기체밀폐 분위기하에서 상기 액체를 기판 윗면에서 더욱 확산시키는 제2확산공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
  24. 제23항에 있어서, 상기 제1확산공정(C) 의 제1목표회전속도는, 상기 제2확산공정(F)의 제2목표회전속도와 같은 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  25. 제23항에 있어서, 상기 제1확산공정(C)의 제1목표회전속도는, 상기 제2확산공정(F)의 제2목표회전속도보다도 작은 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  26. 제23항에 있어서, 상기 공정(F) 후에, 컵과 스핀척을 걸어맞춤시킨 상태로 양자를 동기감속시키고, 또한 동시에 정지시키는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
  27. 제23항에 있어서, 상기 공정(B) 전에 기판에 레지스트처리용의 액체를 뿌리는 것을 특징으로 하는 기판의 레지스트 처리방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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