KR970067590A - 하전빔 노광 시스템 및 하전빔 노광 방법 - Google Patents

하전빔 노광 시스템 및 하전빔 노광 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따라, 전류밀도 측정기를 사용하지 않고 애퍼처를 형상화하는 NA에 따라 하전빔의 전류밀도를 조정할 수 있는 하전 빔 노광 시스템이 제공된다. 이 시스템은 제1애퍼처 마스크상에 형성된 제1애퍼처와 제2애퍼처 마스크상에 형성된 제2애퍼처를 포함한다. 전류밀도 측정기는 하전빔의 전류밀도를 조정한다. 제2애퍼처 선택기는 제2애퍼처중의 하나를 선택한다. 노광시간 측정기는 하전빔에 시편을 노광시키는 시간을 조정한다. 전류 검출기는 하전빔에 의해 발생된 전류를 검출한다. 수정 데이타 발생기는 전류를 예비설정치 이하로 제한하기 위해 수정 데이터를 발생한다. 하전빔은 제1애퍼처의 형상을 갖는 제1애퍼처를 통과한다. 제1애퍼처의 형상을 갖는 하전빔을 제1애퍼처와 제2애퍼처의 선택된 하나와의 복합 형상을 갖도록 제2애퍼처 중의 선택된 하나를 통과한다. 복합 형상을 갖는 하전된 빔은 시편위에 방사되어 복합 형상의 영상을 형성한다.

Description

하전빔 노광 시스템 및 하전빔 노광 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 제1실시예에 따른 전자 빔 노광 시스템의 구성을 보여주는 개략도.

Claims (7)

  1. 하전빔 노광 시스템(charged-beam exposure system)에 있어서, 하전빔을 방출하는 하전빔 공급원과; 하전빔을 제1형상으로 형상화하기 위한 제1애퍼처를 갖는 제1애퍼처(aperture) 마스크와; 하전빔을 제2형상으로 선택적으로 형상화하기 위한 제2애퍼처를 갖는 제2애퍼처 마스크와; 하전빔의 전류밀도를 조정하기 위한 전류밀도 측정기와; 제2애퍼처중에서 하나를 선택하기 위한 제2애퍼처 선택기와; 시편을 하전빔에 노광시키는 시간을 조정하기 위한 노광시간 측정기와; 하전빔에 의해 발생된 전류를 검출하는 전류 검출기; 및 전류밀도 수정 데이터와 노광 시간 수정 데이터를 발생하는 수정 데이터 발생기를 포함하고, 하전빔은 제1형상으로 형상화된 제1애퍼처에 방사되고, 상기 제1형상으로 형성화된 하전빔이 제2형상들 중의 하나에 해당하는 것으로 형상화될 제2애퍼처중에서 선택된 것에 더 방사됨으로써, 하전빔을 제1애퍼처와 제2애퍼처의 복합형상에서 선택된 것으로 형상화하고, 상기 복합 형상으로 형상화된 하전빔은 시편위에 복합 형상의 영상을 형성하도록 시편에 방사되고, 전류검출기에 의해 검출된 전류의 값이 예비설정(preset)값을 초과하면, 수정 데이터 발생기는, 하전빔의 전류밀도는 그 예비설정치 이하로 감소되고 시편의 노광시간은 증가되어 실질적으로 노광량을 변화시키지 않도록 하는 방법으로, 전류밀도 수정 데이터와 노광시간 수정 데이터를 발생하고, 상기 전류밀도 측정기는 전류밀도 수정 데이터에 따라 하전빔의 전류밀도를 조정하고, 상기 노광시간 측정기는 노광시간 수정 데이터에 따라 시편의 노광시간을 조정하는 것을 특징으로 하는 하전빔 노광 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 검출기로서 패러데이 컵이 사용되고, 그 페러데이 컵은 제2애퍼처 중에서 선택된 하나를 통과하는 하전빔이 만나는 곳에 위치한 것을 특징으로 하는 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 검출기로서 전류계가 사용되고, 그 전류계는 상기 제2애퍼처 마스크에 의해 하전빔의 산란된 성분에 의해서 발생된 전류를 검출하는 것을 특징으로 하는 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 검출기로서 전류계가 사용되고, 그 전류계는 제2애퍼처의 선택된 하나로 흐르는 전류를 검출하는 것을 특징으로 하는 시스템.
  5. 하전빔 노광 방법에 있어서, 하전빔은 제1형상으로 형상화될 제1애퍼처 마스크 상에 형성된 제1애퍼처로 방사되고, 제1형상과 함께하전빔은 다음에 제2형상으로 형상화될 제2애퍼처 상에 형성된 제2애퍼처 중의 선택된 하나에 방사됨으로써, 하전빔을 상기 제1애퍼처와 상기 제2애퍼처 중에서 선택된 하나의 복합 형상으로 형상화하고, 복합 형상을 갖는 상기 하전빔은 시편에 방사됨으로써, 시편 위로 복합형상을 이전하는, 하전빔 노광 방법으로서, (a) 시편의 노광 전에 하전빔에 의해 발생된 전류를 검출하는 단계와, (b) 검출된 전류의 값을 예비설정치와 비교하는 단계와, (c) 검출된 전류의 값이 예비설정치를 초과하면, 하전빔의 전류밀도가 그 예비설정치 이하로 감소되고 시편의 노광시간이 증가되어 노광량이 변화되지 않게 유지하도록 하는 방법으로, 전류밀도 수정 데이터와 노광시간 수정 데이터를 발생하는 단계와, (d) 전류밀도 수정 데이터와 노광시간 수정 데이터에 따라서 하전빔의 전류밀도와 시편의 노광시간을 수정하는 단계. 및 (e) 수정된 노광시간을 위한 수정된 전류밀도에서 시편에 하전빔을 방사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하전빔 노광 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 단계 (a) 내지 단계 (d)는, 제2형상의 각각에 대해 시편에 제1노광을 하기 바로 전에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 단계 (a) 내지 단계 (d)는, 제2형상의 모두에 대해 시편의 노광을 시작하기 전에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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