KR970063559A - 가스 분산기 및 플라즈마 처리장치 - Google Patents

가스 분산기 및 플라즈마 처리장치 Download PDF

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Abstract

반응가스를 플리즈마화하여 필름 형성과 에칭을 플라즈마 가스로 수행하게 되는, 대향전극 중의 하나로서의 기능을 가진 가스 분산기를 제공한다. 그 가스 분산기는 그의 중앙부의 리세스 부와 그 리세스 부에 가스를 도입하는 관통공을 가진 기체, 방사방향에 가스를 도입하는, 그 리세스 부에 마련된 가스 분배판, 및 가스 분배 판에 의해 도입되는 가스를 분산하는 환상의 가스 분산 부재로 이루어져 있다.

Description

가스 분산기 및 플라즈마 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 제1 실시의 형태에 관계되는 플라즈마 CVD장치의 전체 구성에 대하여 보이는 측면도이다.

Claims (23)

  1. 플라즈마 처리 장치로서, (a) 반응가스를 분산하며, 제1의 전극의 대용이 되는, 가스 분산기; (b) 처리할 기판이 재치되며 환상으로 배열된 재치부를 가진, 상기 가스 분산기를 면하는 상태로 회전하는 재치대; (c) 상기 재치부 아래에 배치되어, 상기 재치부에 재치된 기판에 대해 공통으로 제2의 전극의 대용이 되는 단일의 도전판; 및 (d) 상기 반응가스를 플라즈마화하게 전력을 공급하고, 상기 제1의 전극과 상기 제2의 전극중의 하나에 접속되고 있는, 고주파 전력공급장치로 이루어지는 플라즈마 처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 판에 재치돼 있는 상기 기판에 바이어스 전입을 공급하며, 상기 제2의 전극에 접속되고 있는 AC 전력 공급장치를 더 함유하는 플라즈마 처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 재치부 아래와 상기 재치부에 재치된 상기 기판에 공통하여 마련돼 있는 단일의 히터를 더 포함하는 플라즈마 처리장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 단일의 도전판과 상기 단일의 히터가 상기 재치대에 묻혀 있는 플라즈마 처리장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 단일의 도전판과 상기 히터가 그들 간에 배치된 상기 절연물질에 의하여 상호 절연돼 있는 플라즈마 처리장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 테이블과 그리고 상기 재치부에 대응하는 위치들에 따로따로 묻혀 있는 복수의 히터를 더 포함하는, 플라즈마 처리장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 도전판이 상기 테이블에 묻혀 있고, 상기 도전판과 상기 복수의 히터가 그들간에 배치된 상기 절연물질의 의하여 절연돼 있는 플라즈마 처리장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 가스 분산기가 상기 반응가스를 도입하는 가스도입구와 상기 테이블의 상기 재치부에 대향하는 가스 분산구를 가지며, 상기 가스도입구와 상기 가스분산구를 잇고 코일상(狀)의 배관부를 부분적으로 가지고 있는 도전성 가스배관이 더 마련돼 있는, 플라즈마 처리장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 가스 분산기와 상기 테이블을 받으며 압력이 감소될 수 있는 처리실과, 상기 재치대에 고정되어 상기 처리실의 외측에 연장하며, 상기 플라즈마 처리장치의 상기 외측에 회전가능하게 지지돼 있는 회전축을 더 함유하는 플라즈마 처리장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 가스 분산기가 상기 반응가스를 도입하는 가스도입구와, 상기 테이블의 상시 재치부에 대향하도록 배열돼 있는 환상의 가스 분산구, 및 상기 환상의 가스 분산구를 상기 가스 도입구에 연결하는 가스 흐름 경로를 더 함유하는 플라즈마 처리장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 환상의 가스분산구가 복수의 가스 분산구멍을 가지고 있는 플라즈마 처리장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 가스 분산기가, 상호 결리돼 있는 복수의 가스도입구와, 상기 테이블의 상기 재치부에 대향하도록 환상으로 배열돼 있는 복수의 가스 분산구, 및 상호 격리돼 있으며 상기 각각의 가스분산구를 상기 각각의 가스 도입구에 잇는 복수의 가스 흐름 경로를 더 포함하고 있는 플라즈마 처리장치.
  13. 제14항에 있어서, 상기 가스분산구들의 각각이 복수의 가스분산 구멍을 가지고 있는 플라즈마 처리장치.
  14. 플라즈마 처리장치에 있어서의 제1의 전극의 대용이 되는 가스 분산기로서, (a) 가스 분산구; (b) 상기 가스 분산기의 중앙부에 가스를 도입하며, 상기 가스 도입구에 연결되는 제1의 가스 흐름 경로; (c) 상기 제1의 가스 흐름 경로에 접속되고, 상기 가스를 상기 중앙부에 방사방향으로 분할하며, 다음 상기 일단 분할한 가스를 상기 중앙부와 상기 중앙부와 상기 주변부 사이의 중간부의 상기 가스 분산기의 주변부에 향해 재분할하는 제2의 가스 흐름 경로; 및 (d) 상기 재분할 가스를 분산하며 상기 제2의 가스 흐름 경로에 접속된 환상의 가스 분산구로 이루어지는 가스 분산기.
  15. 가스 분산기로사, (a) 가스 도입구를 거친 기체와, 기체의 중앙부의 리세스 부 및 상기 가스 도입구를 상기 리세스 부에 잇는 제1의 가스 흐름 경로; (b) 상기 리세스 부에 마련되어, 상기 기체와 가스 분배판과의 사이의 제2의 가스 흐름 경로 로 작용하는 극간을 형성하는 가스 분배판; 및 (c) 상기 가스를 분산하며, 상기 가스 분배판과 상기 환상의 가스 분산부재와의 사이의 상기 제2의 가스 흐름 경로의 또 다른 부분으로 작용하는 또 다른 극간을 형성하는 환상의 가스 분산 부재로 이루어지는 가스 분산기.
  16. 제15항에 있어서, 상기 환상의 가스 분산 부재가 그의 외측 주변부에서 상기 기체를 접촉하며 상기 가스 분배판을 경유하여 그의 내측 주변부에서 상기 기체를 접촉하는 가스 분산기.
  17. 제15항에 있어서, 상기 환상의 가스 분산 부재가 복수의, 환상의 지역에 분배되는 가스 분산 구멍을 가지고 있는 가스 분산기.
  18. 플라즈마 처리장치로서, (a) 가스 분산기는 (1) 가스도입구를 가진 기체와, 그 기체의 중앙부의 리세스 및 상기 가스도입구를 상기 리세스 부에 잇는 제1의 흐름 경로, (2) 상기 리세스 부에 마련되어, 상기 기체와 상기 가스 분배판과의 사이의 제2의 가스 흐름 경로로서 작용하는 극간을 형성하는 가스 분배판, 및 (3) 상기 가스를 분산하며, 상기 가스 분배판과 환상의 가스 분산 부재와의 사이의 상기 제2의 가스 흐름 경로의 또 다른 부분으로서 작용하는 또 다른 극간을 형성하는 환상의 가스 분산 부재가 마련되고; 또 (b) 재치대는 제2의 전극으로서 작용하고, 처리할 기판들을 재치하는 복수의 재치부를 가지며, 상기 재치부들은 상기 가스 분산 부재에 대향하여 배열되고 있는 플라즈마 처리장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 가스 분산기의 가스 분산 부재가 그의 외측 주변부에서 상기 기체를 접촉하며 그의 내측 주변부에서 상기 가스 분배판을 경유하여 상기 기체를 접촉하는 플라즈마 처리장치.
  20. 제18항에 있어서, 상기 가스 분산기의 환상의 가스 분산 부재가 복수의, 상기 재치대의 상기 재치부에 측면을 면하는 상태에 배열돼 있는, 가스 분산 구멍들을 가지고 있는 플라즈마 처리장치.
  21. 제18항에 있어서, 상기 환상의 가스 분산 부재를 상기 가스 분산기와 함께 환상의 방향에 따라 회전하는 회전 수단을 더 함유하는, 플라즈마 처리장치.
  22. 제18항에 있어서, 상기 가스를 플라즈마화하게 상기 가스 분산기에 접속된 고주파 전원을 더 함유하는, 플라즈마 처리장치.
  23. 제18항에 있어서, 상기 재치대에 재치되는 상기 기판에 바이어스 전압을 적용하게 상기 재치대에 접속된 AC 전원을 더 함유하는, 플라즈마 처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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