KR970060429A - 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 - Google Patents
현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970060429A KR970060429A KR1019960001432A KR19960001432A KR970060429A KR 970060429 A KR970060429 A KR 970060429A KR 1019960001432 A KR1019960001432 A KR 1019960001432A KR 19960001432 A KR19960001432 A KR 19960001432A KR 970060429 A KR970060429 A KR 970060429A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wafer
- inspection
- developing
- semiconductor
- same
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
동일한 위치에서 웨이퍼에 대한 현상과 검사를 할 수 있도록 현상장치와 검사 장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법에 관한 것이다. 본 발명은, 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있으며, 최초의 현상공정이 완료된 웨이퍼를 바로 감사장치로 로딩하여 웨이퍼 검사를 수행한다. 따라서, 공정시간의 로스가 감소하며, 작업공수가 줄어드는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 현상장치와 검사장치 사이의 작업관계를 나타내는 개략적인 블럭도이다.
Claims (4)
- 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비.
- 제1항에 있어서, 상기 현상장치는 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼를 한 장씩 로딩하여 현상공정을 수행하는 것임을 특징으로 하는 상기 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비.
- 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있는 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비에서의 웨이퍼 현상 및 검사방법에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 최초의 웨이퍼를 꺼내 상기 현상장치에 로딩하여 현상공정을 수행하는 단계; 및 상기 최초의 웨이퍼와 동일한 방법으로 후속하는 웨이퍼에 대하여 현상공정이 진행되는 동안에 상기 최초의 웨이퍼를 상기 검사장치에 로딩하여 검사공정을 수행하는 단계; 를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 현상 및 검사방법.
- 제3항에 있어서, 상기 검사공정을 완료한 최초의 웨이퍼는 다른 후속되는 웨이퍼에 대한 현상공정이 진행되는 동안에 검사공정을 완료하여 다시 원래의 웨이퍼 캐리어로 언로딩되는 것을 특징으로 하는 상기 웨이퍼 현상 및 검사방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970060429A true KR970060429A (ko) | 1997-08-12 |
Family
ID=66219050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970060429A (ko) |
-
1996
- 1996-01-23 KR KR1019960001432A patent/KR970060429A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0810066A3 (en) | Automated wafer lapping system | |
| TW358997B (en) | Method and apparatus for performing operative testing on an IC | |
| KR960002620A (ko) | 웨이퍼 및 기판 처리 장치 및 처리 방법, 웨이퍼 및 기판 이동 적재 장치 | |
| ID17230A (id) | Metode memproses lapisan bawah | |
| KR960009094A (ko) | 웨이퍼 이송장치 및 방법 | |
| KR970060429A (ko) | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 | |
| JPH1167855A (ja) | ウエハテスト用搬送装置及びそのウエハテスト方法 | |
| KR930007486B1 (ko) | 반도체장치의 직류전류 · 전압특성의 측정방법 | |
| KR970053352A (ko) | 반도체 웨이퍼의 로딩/언로딩 방법 | |
| JPH03264417A (ja) | タイヤ検査装置に於けるタイヤ搬送方法 | |
| US20030201001A1 (en) | Wet cleaning device | |
| KR970067533A (ko) | 웨이퍼의 처리방법 및 장치 | |
| KR970063420A (ko) | 사진 공정의 웨이퍼 전처리 방법 | |
| KR960039246A (ko) | 반도체 검사장치 및 그를 이용한 검사방법 | |
| KR100502406B1 (ko) | 반도체소자 제조용 유브이테이프 제거장치 및 제거방법 | |
| KR970072369A (ko) | 검사장치와 포밍장치를 일체화한 검사/포밍장치 | |
| KR950030233A (ko) | 포토레지스트 제거방법 | |
| JPH0456243A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2000164654A (ja) | ウェハのバーンイン試験方法及びその装置 | |
| KR970063540A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
| KR970022352A (ko) | 반도체 장치의 다중 테스트 구조를 갖는 핸들러 | |
| JPH0667407A (ja) | レチクル・マスク表面の異物の比較検査方法 | |
| JPH0529191A (ja) | 半導体露光装置の処理方法 | |
| KR950027984A (ko) | 감광막 제거 방법 | |
| KR970077073A (ko) | 반도체 제조공정의 웨이퍼 오염방지 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |