KR970060429A - 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 - Google Patents
현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 Download PDFInfo
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Abstract
동일한 위치에서 웨이퍼에 대한 현상과 검사를 할 수 있도록 현상장치와 검사 장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법에 관한 것이다. 본 발명은, 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있으며, 최초의 현상공정이 완료된 웨이퍼를 바로 감사장치로 로딩하여 웨이퍼 검사를 수행한다. 따라서, 공정시간의 로스가 감소하며, 작업공수가 줄어드는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 현상장치와 검사장치 사이의 작업관계를 나타내는 개략적인 블럭도이다.
Claims (4)
- 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비.
- 제1항에 있어서, 상기 현상장치는 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼를 한 장씩 로딩하여 현상공정을 수행하는 것임을 특징으로 하는 상기 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비.
- 동일위치의 웨이퍼 캐리어로부터 반도체 웨이퍼에 대한 현상장치와 검사장치에 각기 웨이퍼를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 상기 현상장치와 검사장치가 서로 근접하여 설치되어 있는 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비에서의 웨이퍼 현상 및 검사방법에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 최초의 웨이퍼를 꺼내 상기 현상장치에 로딩하여 현상공정을 수행하는 단계; 및 상기 최초의 웨이퍼와 동일한 방법으로 후속하는 웨이퍼에 대하여 현상공정이 진행되는 동안에 상기 최초의 웨이퍼를 상기 검사장치에 로딩하여 검사공정을 수행하는 단계; 를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 현상 및 검사방법.
- 제3항에 있어서, 상기 검사공정을 완료한 최초의 웨이퍼는 다른 후속되는 웨이퍼에 대한 현상공정이 진행되는 동안에 검사공정을 완료하여 다시 원래의 웨이퍼 캐리어로 언로딩되는 것을 특징으로 하는 상기 웨이퍼 현상 및 검사방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR970060429A true KR970060429A (ko) | 1997-08-12 |
Family
ID=66219050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019960001432A KR970060429A (ko) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 현상장치와 검사장치가 일체화된 반도체설비 및 이를 이용한 웨이퍼 현상 및 검사방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR970060429A (ko) |
-
1996
- 1996-01-23 KR KR1019960001432A patent/KR970060429A/ko not_active Application Discontinuation
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