KR970060240A - 불휘발성 반도체 메모리 장치 - Google Patents
불휘발성 반도체 메모리 장치 Download PDFInfo
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Abstract
3개의 비트라인을 공유하면서도 종래와 동일한 셀 면적을 유지할 수 있는 3-bit shared 플레쉬 메모리 셀이 개시된다. 본 발명은 특정 셀을 선택하기 위한 복수 개의 스트링 선택 트랜지스터들, 데이타 기억을 위한 복수 개의 메모리 셀 트랜지스터들, 및 대기상태 시의 불량(fail) 구제를 위한 접지 선택(Ground Selection) 트랜지스터들이 비트라인과 접지전압단 사이에 서로 직렬회로로 구성되어 하나의 단위 스트링(string)을 구성하며, 상기 이웃한 3개의 단위 스트링들은 하나의 비트라인 콘택을 공유하고, 동일한 스트링 선택라인을 통해 상기 각 단위 스트링들에 연결되는 각각의 스트링 선택트랜지스터의 문턱 전압은 서로 다른 3개의 값이 반복되어 형성된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제7도는 본 발명에 의한 낸드형 플레쉬 메모리 셀의 평면도.
제8도는 제7도의 등가 회로도.
Claims (4)
- 특정 셀을 선택하기 위한 복수 개의 스트링 선택 트랜지스터들, 데이타 기억을 위한 복수 개의 메모리 셀 트랜지스터들, 및 대기상태 시의 불량(fail) 구제를 위한 접지 선택(Ground Swlection) 트랜지스터들이 비트라인과 접지전압단 사이에 서로 직렬회로로 구성되어 하나의 단위 스트링(string)을 구성하며, 상기 이웃한 3개의 단위 스트링들은 하나의 비트라인 콘택을 공유하고, 동일한 스트링 선택라인을 통해 상기 각 단위 스트링들에 연결되는 각각의 스트링 선택트랜지스터의 문턱 전압은 서로 다른 3개의 값이 반복되어 형성되는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 동일한 스트링 선택라인을 통해 하나의 비트라인 콘택에 연결되는 각기 다른 문턱 전압을 갖는 3개의 스트링 트랜지스터들 가운데 2개의 스트링은 상·하가 서로 다른 문턱전압 값을 가지며, 하나의 스트링은 상·하가 같은 문턱전압 값을 갖도록 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.
- 제1항에 있어서, 특정 셀을 선택하기 위하여 상기 스트링 선택라인에 인가되는 전압은 서로 다른 3개의 문턱 전압을 갖는 스트링 선택 트랜지스터를 선택적으로 턴-온 시키기 위한 3개의 레벨로 구성되는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.
- 특정 셀을 선택하기 위한 복수 개의 스트링 선택 트랜지스터들, 데이타 기억을 위한 복수 개의 메모리 셀 트랜지스터들, 및 대기상태 시의 불량(fail) 구제를 위한 접지 선택(Ground Selection) 트랜지스터들이 비트라인과 접지전압단 사이에 서로 직렬회로로 구성되어 하나의 단위 스트링(string)을 구성하며, 상기 이웃한 3개의 단위 스트링들은 하나의 비트라인 콘택을 공유하고, 동일한 스트링 선택라인을 통해 상기 각 단위 스트링들에 연결되는 각각의 스트링 선택트랜지스터의 문턱 전압은 하나의 '+' 값인 증가형(enhancement)와, '-'값인 두 개의 공핍형(depletion)으로 구성되어 상기 2개의 공핍형 및 1개의 증가형 트랜지스터가 반복적으로 구성되고, 상기 하나의 단위 스트링을 비트 라인 콘택과 연결시키는 3개의 직렬연결된 스트링 선택 트랜지스터의 문턱전압들도 2개의 공핍형과 하나의 증가형으로 구성되나 하나의 비트 라인 콘택과 동일한 스트링 선택라인을 통해 연결되는 이웃한 스트링 선택 트랜지스터의 문턱전압들의 조합과는 다르게 구성되는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960001292A KR100190014B1 (ko) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019960001292A KR100190014B1 (ko) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR970060240A true KR970060240A (ko) | 1997-08-12 |
KR100190014B1 KR100190014B1 (ko) | 1999-06-01 |
Family
ID=19449870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019960001292A KR100190014B1 (ko) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100190014B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100789736B1 (ko) * | 2007-03-09 | 2008-01-03 | 엘지전자 주식회사 | 후드 겸용 전자레인지 도어지지장치 |
US8698057B2 (en) | 2007-01-26 | 2014-04-15 | Lg Electronics Inc. | Ventilation hooded microwave oven and cooling system for the same |
-
1996
- 1996-01-22 KR KR1019960001292A patent/KR100190014B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8698057B2 (en) | 2007-01-26 | 2014-04-15 | Lg Electronics Inc. | Ventilation hooded microwave oven and cooling system for the same |
KR100789736B1 (ko) * | 2007-03-09 | 2008-01-03 | 엘지전자 주식회사 | 후드 겸용 전자레인지 도어지지장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100190014B1 (ko) | 1999-06-01 |
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