KR970050208A - 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법 - Google Patents
아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 박막 자기 헤드의 제조 방법에 관한 것으로 상기 제조 방법은 소정의 경사면을 갖는 세라믹 기판을 준비하는 단계와, 상기 세라믹 기판상에 하부 자성층을 형성하는 단계와, 상기 하부 자성층상에자기 갭층을 형성하는 단계와, 상기 자기 갭층사에 상부 자성층을 형성하는 단계로 이루어지며 이에 의해서 자기 코어의 선단부가 자기 기록 매체에 형성된 비디오 트랙에 대하여 소정의 아지무스 각으로 경사져 있는 박막 자기 헤드를 용이하게 제공한다.
선택도:제4도
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 제조 방법을 나타낸 흐름도,
제4도는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 자기 코어 선단부를 도시한 단면도.
Claims (4)
- 소정의 경사면을 갖는 세라믹 기판(31)을 준비하는 단계와, 상기 세라믹 기판(31)상에 하부 자성층(33)을 형성하는 단계와, 상기 하부 자성층(33)상에 자기 갭층(34)을 형성하는 단계와, 상기 자기 갭층(34)상에 상부 자성층(35)을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 세라믹 기판(31)상에 형성된 소정의 경사면은 자기 코어의 선단부에만 형성되는 것을 특징으로 하는 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법.
- 제2하에 있어서, 상기 세라믹 기판(31)상에 형성된 소정의 경사면은 이온 빔 식각 공정에 의한 경사 식각 방식에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 자기 코어의 후방부에 적층되는 다수의 층은 평행한 표면 상태로 제공되는 것을 특징으로 하는 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950064326A KR970050208A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950064326A KR970050208A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970050208A true KR970050208A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66623472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950064326A KR970050208A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 아지무스형 박막 자기 헤드의 제조 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970050208A (ko) |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR1019950064326A patent/KR970050208A/ko not_active Application Discontinuation
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