KR970030299A - 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치 및 그 구동방법 - Google Patents
진공시스템의 가스 공급라인 보호장치 및 그 구동방법Info
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Abstract
진공장치가 대기에 노출되면 보호용 밸브가 열려 가스 공급라인에 N2가스가 공급되어서 불순물의 유입 및 발생을 방지하는 진공시스템의 가스 공급라인의 보호장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은, 진공반응실과, 반응실 차단밸브 사이에 센서가 장착되어서 압력을 센싱하는 센싱수단, 압력감지신호(P)와 밸브개폐상태신호(V1, V2)와 가스량 체크신호(G)를 출력하는 설정변수측정수단; 상기 압력감지신호(P)와 밸브 개폐상태신호(V1, V2)와 가스량 체크신호(G)를 조합하여 진공반응실이 대기에 노출에 따른 제어신호를 출력하는 장치제어수단, 질소가스공급 제어신호를 출력하는 구동수단 및 진공반응실의 가스공급라인으로 질소가스를 유입시키는 질소공급수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 본 발명에 의해서 가스 공급라인이 진공장치의 점검 및 보수 수리시 진공 반응실 내부가 대기압상태로 전환되었을 때 N2가스를 주입하여 진공장치에 재동작시 생산되는 제품의 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 가스 공급라인 보호장치의 블럭도이다.
제3도는 본 발명에 의한 보호용 밸브 구동 제어의 흐름도이다.
Claims (6)
- 복수개의 라인을 통하여 유입되는 가스가 유량조절기와 가스공급밸브를 통과하여 진공반응실에서 반도체장치 제조를 위한 화학적 공정에 이용된 후 반응실 차단밸브를 통과하여 배기되도록 구성된 반도체 설비의 진공시스템 가스 공급 및 배기라인 보호장치에 있어서, 상기 진공반응실과 상기 반응실 차단밸브 사이에 센서가 장착되어서 진공반응실 내부의 압력을 센싱하는 센싱수단; 상기 센싱수단의 센싱신호와 상기 가스공급밸브 및 반응실 차단밸브의 개폐신호, 상기 각 유량조절기의 가스흐름 체크신호가 입력됨에 따라 신호 변환된 압력감지신호(P)와 밸브 개폐상태신호(V1, V2)와 가스량 체크신호(G)를 출력하는 설정변수측정수단; 상기 압력감지신호(P)와 밸브개폐상태신호(V1, V2)와 가스량 체크신호(G)를 조합하여 상기 진공반응실이 대기에 노출된 상태이면 제어신호를 출력하는 장치제어 수단; 상기 장치제어 수단의 제어신호가 입력되면 질소가스공급 제어신호를 출력하는 구동수단; 및 상기 질소가스공급 신호가 구동수단으로부터 인가되면 상기 진공반응실로 반응가스를 공급하는 공급라인으로 질소가스를 유입시키는 질소가스 공급수단; 을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치.
- 제1항에 있어서, 상기 센싱수단은 상기 진공반응실의 내부 압력에 비례하는 전기적 신호를 출력하는 압력센서임을 특징으로 하는 상기 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치.
- 제1항에 있어서, 상기 센싱수단은 상기 진공반응실의 내부압력이 일정압 이상이면 센싱신호를 출력하는 진공센서임을 특징으로 하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치.
- 제1항에 있어서, 상기 질소가스 공급수단은 가스공급밸브와 상기 진공반응실사이의 반응 가스 공급라인상으로 질소가스가 유입되도록 구성되고, 질소가스 공급라인상에 밸브가 구성됨으로써, 상기 밸브는 상기 구동수단으로부터 인가되는 질소가스 공급신호에 의하여 개폐되도록 구성됨을 특징으로 하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치.
- 복수개의 라인을 통하여 유입되는 가스가 유량조절기와 가스공급밸브를 통과하여 진공반응실로 공급되고, 질소가스 공급수단이 진공반응실에 연결된 가스 공급라인에 접속되며, 상기 진공반응실의 압력을 체크하는 센서를 구비하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치에 구동방법에 있어서, 상기 센서의 센싱에 의하여 상기 진공반응실 내부의 압력이 특정 압력이상 상승시 상기 가스공급밸브의 동작과 상기 반응실 차단밸브의 개폐상태 및 상기 유량조절기의 가스량을 확인하는 확인단계; 및 상기 확인단계에서 진공반응실이 개방된 것으로 판단되면 상기 질소가스를 상기 가스공급라인으로 유입시키는 단계; 를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치의 구동방법.
- 제5항에 있어서, 상기 확인단계는, 현재 진공반응실 내부가 일정압 이상인지 판단하는 압력판단단계; 및 상기 압력판단단계에서 상기 일정압 이상이면 가스공급밸브와 반응실 차단밸브 및 반응가스 공급량을 체크하는 단계; 를 조합하여 구성됨을 특징으로 하는 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치의 구동방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950042899A KR0156311B1 (ko) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치 및 그 구동 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950042899A KR0156311B1 (ko) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치 및 그 구동 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970030299A true KR970030299A (ko) | 1997-06-26 |
KR0156311B1 KR0156311B1 (ko) | 1998-12-01 |
Family
ID=19435186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950042899A KR0156311B1 (ko) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 진공시스템의 가스 공급라인 보호장치 및 그 구동 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0156311B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102268652B1 (ko) * | 2014-07-08 | 2021-06-24 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
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1995
- 1995-11-22 KR KR1019950042899A patent/KR0156311B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR0156311B1 (ko) | 1998-12-01 |
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