KR970030232A - 감광제 도포 방법 - Google Patents

감광제 도포 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970030232A
KR970030232A KR1019950043625A KR19950043625A KR970030232A KR 970030232 A KR970030232 A KR 970030232A KR 1019950043625 A KR1019950043625 A KR 1019950043625A KR 19950043625 A KR19950043625 A KR 19950043625A KR 970030232 A KR970030232 A KR 970030232A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
photosensitive agent
rotating
rpm
thickness
Prior art date
Application number
KR1019950043625A
Other languages
English (en)
Inventor
최동순
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김주용, 현대전자산업 주식회사 filed Critical 김주용
Priority to KR1019950043625A priority Critical patent/KR970030232A/ko
Publication of KR970030232A publication Critical patent/KR970030232A/ko

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 감광제 도포 방법에 있어서; 도포기에 웨이퍼를 로딩하고 웨이퍼를 1000~2000 RPM으로 회전시키는 제1단계; 감광제를 웨이퍼에 공급하면서 웨이퍼를 500~36000 RPM으로 회전시키는 제2단계; 감광제의 공급을 멈추고 웨이퍼를 1000~2000RPM으로 회전시키는 제3단계; 및 원하는 감광제 두께를 얻도록 웨이퍼를 회전시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광제 도포 방법에 관한 것으로, 웨이퍼상에 도포되는 감광제의 두게 균일도를 향상시킨다. 특히, 점도가 높은 감광제를 도포할 시 웨이퍼 중심에서의 두께가 커지는 것을 방지하는 효과가 크다.

Description

감광제 도포 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (3)

  1. 감광제 도포 방법에 있어서; 도포기에 웨이퍼fmf로딩하고 웨이퍼를 1000~2000RPM으로 회전시키는 제1단계; 감광제를 웨이퍼에 공급하면서 웨이퍼를 500~36000 RPM으로 회전시키는 제2단계; 감광제의 공급을 멈추고 웨이퍼를 1000~2000RPM으로 회전시키는 제3단계; 및 원하는 감광제 두께를 얻도록 웨이퍼를 회전시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광제 도포 방법.
  2. 제1항에 있어서; 상기 제2 단계에서의 감광제를 4~8cc로 공급하는 것을 특징으로 하는 감광제 도포 방법.
  3. 제1항에 있어서; 상기 제3단계는 3~5 초 동안 실시하는 것을 특징으로 하는 감광제 도포 방법.
KR1019950043625A 1995-11-24 1995-11-24 감광제 도포 방법 KR970030232A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950043625A KR970030232A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 감광제 도포 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950043625A KR970030232A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 감광제 도포 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970030232A true KR970030232A (ko) 1997-06-26

Family

ID=66588398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950043625A KR970030232A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 감광제 도포 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR970030232A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100359249B1 (ko) * 1999-12-30 2002-11-04 아남반도체 주식회사 반사방지막의 기포 제거 방법
KR100559218B1 (ko) * 1999-06-28 2006-03-15 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조방법
KR101395576B1 (ko) * 2012-01-16 2014-05-16 주식회사 씨엔디플러스 비접촉 웨이퍼 가공방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100559218B1 (ko) * 1999-06-28 2006-03-15 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조방법
KR100359249B1 (ko) * 1999-12-30 2002-11-04 아남반도체 주식회사 반사방지막의 기포 제거 방법
KR101395576B1 (ko) * 2012-01-16 2014-05-16 주식회사 씨엔디플러스 비접촉 웨이퍼 가공방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950006970A (ko) 웨이퍼 및 판형태의 물체에 액상의 화학약품을 회전도포하기 위한 장치 및 방법
PT941072E (pt) Metodo e aparelho para o revestimento de substratos para utilizacao farmaceutica
ATE213254T1 (de) Imprägnierte auftragsspitze
KR950030213A (ko) 도포장치 및 도포방법
DE69729902D1 (de) Photolack-Entwicklungsverfahren, das eine zusätzliche Anwendung der Entwicklerflüssigkeit einschliesst
AR017789A1 (es) Un proceso para revestir hilo de coser, un hilo de coser revestido con dicho proceso, un aparato para revestir dicho hilo de coser con dicho proceso y unsistema que comprende dicho aparato y una fuente de radiacion
FI960579A (fi) Päällysteen levityslaite päällystysnesteen asettamiseksi liikkuvalle pinnalle
KR970030232A (ko) 감광제 도포 방법
TW371780B (en) Apparatus for spreading resist on substrate and method for spreading the same
ATE187755T1 (de) Oberflächebehandlung
YU85701A (sh) Uređaj i metod za delimično polaganje površinskog zaštitnog sloja i dišuće-aktivna folija sa delimičnim površinskim zaštitnim slojem
AUPO578997A0 (en) Hydrophobic film
BR9917129A (pt) Método e aparelho para formar um padrão decorativo em um aplicador de revestimento lìquido
KR970051911A (ko) 회전식 도포기(Spin Coater)의 배출 감광액 회수 장치
JPS60140350A (ja) 現像装置
KR960035710A (ko) 음극선관용 필르밍막 형성방법
JPS5247836A (en) Spin coater
TW344854B (en) Dihydropyrane for priming wafer and the method using the same
JP2001319851A (ja) フォトレジスト塗布方法
JPS6443370A (en) Spin coating device and spin coating method
TW246739B (en) Method of controlling critical dimension
TW348368B (en) Coating pattern formation
JPS5317648A (en) Process of coating inorganic paint
JPS52127170A (en) Mask for patterning
KR970052699A (ko) 씨엠피(cmp)를 이용한 박막 평탄화방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination