KR970022565A - 빈도체소자 제조용 노광장치 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
본 발명은 반도체소자의 제조공정에 관한 것으로, 특히 사진공정에 사용되는 노광장치에 관한 것이다. 종래에 노광장비에 사용되어 왔던 고리조명은 통상적인 조명방법에 비하여 가려진 면적(차단영역)에 비례하여 광의 강도가 저하되는 것이 단점으로 지적되어 왔다. 본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 반도체소자의 제조공정중 입사광의 세기를 높이기 위하여 사용되는 조리개를 이용한 노광장비에 있어서, 상기 조리개에 광차단 영역에 광의 직진성분을 제거하여 일정한 각도로 전사되도록 하는 조리개수단을 포함하여, 변형조명의 단점인 강도저하를 보완하고 향상을 시킬 수 있으며 양산공정에 적용시 큰 효과를 기대할 수 있도록 한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도는 본 발명 노광장치의 개략도이고,
제1B도는 본 발명의 조리개의 구조도이다.
Claims (3)
- 반도체소자의 제조공정중 입사광의 세기를 높이기 위하여 사용되는 고리조명을 위한 조리개를 이용한 노광장비에 있어서, 상기 조리개의 광차단 영역에 광의 직진성분을 제거하여 일정한 각도로 전사되도록 하는 조리개수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 조리개 수단은 소정 크기의 무크롬 위상 변환 격자로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 노광장치.
- 제2항에 있어서, 상기 무크롬 위상 변환 격자의 표면에 부가적으로 반사를 차단하는 무반사코팅을 형성한 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 노광장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950037282A KR970022565A (ko) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 빈도체소자 제조용 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950037282A KR970022565A (ko) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 빈도체소자 제조용 노광장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970022565A true KR970022565A (ko) | 1997-05-30 |
Family
ID=66584538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950037282A KR970022565A (ko) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 빈도체소자 제조용 노광장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970022565A (ko) |
-
1995
- 1995-10-26 KR KR1019950037282A patent/KR970022565A/ko not_active Application Discontinuation
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