KR970015631A - 폴리알킬실록산의 정제방법 및 이의 제품 - Google Patents
폴리알킬실록산의 정제방법 및 이의 제품 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970015631A KR970015631A KR1019960037458A KR19960037458A KR970015631A KR 970015631 A KR970015631 A KR 970015631A KR 1019960037458 A KR1019960037458 A KR 1019960037458A KR 19960037458 A KR19960037458 A KR 19960037458A KR 970015631 A KR970015631 A KR 970015631A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polyalkylsiloxane
- boiling point
- composition
- purified
- ppm
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 29
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 8
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract 4
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims description 4
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 6
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N Dodecamethylcyclohexasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005376 alkyl siloxane group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
- C03B2207/32—Non-halide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/81—Constructional details of the feed line, e.g. heating, insulation, material, manifolds, filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/87—Controlling the temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/88—Controlling the pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/89—Controlling the liquid level in or supply to the tank
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/90—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from solid glass precursors, i.e. by sublimation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
- C03C2203/27—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides the alkoxides containing other organic groups, e.g. alkyl groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 대기조건하에서 250℃ 이하의 끓는점을 가지며, 전체 농도가 14ppm 이하에서 250℃을 초과하는 끓는점을 갖는 실록산 및 실란올-말단 실록산을 포함하는 높은 끓는점 불순물을 함유하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 대기조건하에서 250℃ 이하의 끓는점을 가지며, 전체 농도가 14ppm 이하에서 250℃을 초과하는 끓는점을 갖는 높은 끓는점 불순물을 함유하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 제조하기 위해 효과적인 조건하에서 적어도 14ppm 이하에서 250℃을 초과하는 끓는점을 갖는 높은 끓는점 불순물을 함유하는 출발물질인 폴리알킬실록산을 증류시켜 대기조건하에서 250℃ 이하의 끓는점을 갖는 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 바람직한 일실시예에 있어서, 낮은 끓는점 성분(실란올 및 바람직하게 헥사메틸시클로트리실록산)은 약 100ppm 이하로 감소된다. 본 발명은 또한 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 전환시켜 용융된 실리카 유지를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 시료인 옥타메틸시클로테트라실록산내에 고분자량의 높은 끓는점 불순물의 두가지 형태의 분포를 나타내는 겔투과 크로마토그래픽 트레이스이다.
제2도는 덩어리의 용융된 실리카를 제조하기 위한 장치 및 공정을 나타낸 개략도이다.
제3도는 광도파관 제조에 유용한 제1증발기를 개략적으로 도시한 사시도이다.
제4도는 광도파관 제조에 유용한 제2증발기를 개략적으로 도시한 도면이다.
제5도는 광도파관 제조에 유용한 제3증발기를 개략적으로 도시한 단면도이다.
제6A도 및 제6B도는 다공성 블랭크 또는 예형을 제조하기 위해 회전맨드럴상에 실리카 수트(soot)를 침전시키는 장치 및 공정을 도시한 개략도이다.
제7도는 다공성 블랭크를 비-다공성 바디로 완전 경화시키기 위해 헬륨 및 염소 분위기에서 소결되는 히팅 챔버를 개략적으로 도시한 도면이다.
제8도는 실리콘-함유 화합물용 수직 증발기를 개략적으로 도시한 단면도이다.
Claims (21)
- 250℃ 이하의 대기조건하에서 끓는점을 가지며, 전체 농도가 14ppm 이하로 250℃을 초과하는 끓는점을 갖는 실록산 및 실란올-말단 실록산을 포함하는 높은 끓는점 불순물을 함유하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물에 높은 끓는점 불순물의 농도가 약 6ppm 이하, 약 2ppm 이하, 또는 약 0.25ppm 이하임을 특징으로 하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 조성물이 약 250그램/몰 이하의 분자량을 갖는 헥사메틸시클로트리실록산 및 실란올을 약 100ppm 이하로 포함하는 것을 특징으로 하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물이 헥사메틸시클로트리실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 폴리메틸시클로실록산을 포함하는 것을 특징으로 하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물이 헥사메틸디실록산 또는 폴리메틸하이드록시시클로실록산을 포함하며, 상기 폴리메틸시클로실록산이 옥타메틸시클로테트라실록산을 포함하는 것을 특징으로 하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 제5항에 있어서, 상기 높은 끓는점 불순물이 약 900그램/몰 이상의 평균분자량을 갖는 두가지 형태의 분포의 성분들을 포함하는 것을 특징으로 하는 정제된 폴리알킬실록산 조성물.
- 적어도 14ppm의 전체 농도로 250℃을 초과하는 끓는점을 갖는 실록산 및 실란올-말단 실록산을 포함하는 높은 끓는점 불순물을 함유하는 출발물질인 폴리알킬실록산을 제공하는 단계; 및 대기조건하에서 250℃ 이하의 끓는점, 및 14ppm 이하의 전체 농도로 높은 끓는점 불순물을 갖는 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 제조하는데 효과적인 조건하에서 출발물질인 상기 폴리알킬실록산을 증류시키는 단계로 이루어진 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 따른 폴리알킬실록산의 정제방법.
- 제7항에 있어서, 상기 출발물질인 폴리알킬실록산에서 높은 끓는점 불순물의 전체 농도가 약 200ppm 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 출발물질인 폴리알킬실록산이 실란올을 포함하는 약 250그램/몰 이하의 분자량을 갖는 특정 농도의 낮은 끓는점 분순물을 함유하고; 및 상기 낮은 끓는점 불순물의 농도가 상기 증류단계 동안 감소됨을 특징으로 하는 방법.
- 제7항, 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 증류단계가 실질적인 대기압, 또는 감압된 진공상태, 또는 상기 출발물질인 폴리알킬실록산 증기압이 상기 증류단계의 전체압을 초과하는 온도에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 출발물질인 폴리알킬실록산을 제공하는 단계가; 폴리알킬실록산 및 실란올을 함유한 혼합물을 증류시켜 상기 혼합물로부터 대부분의 실란올을 분리시킴으로써 폴리알킬실록산 증류액을 제조하는 단계; 및 상기 폴리알킬실록산 증류액을 탄소필터 및 분자체 베드에 통과시켜 상기 출발물질인 폴리알킬실록산을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 용융 실리카 유리로 전화시키는 단계를 포함하는 가공방법.
- 제12항에 있어서, 상기 폴리알킬실록산 조성물이 약 250그램/몰 이하의 분자량을 갖는 100ppm 이하의 헥사메틸시클로트리실록산 및 실란올을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 출발물질인 폴리알킬실록산을 제공하는 단계가; 폴리알킬실록산 및 실란올을 함유한 혼합물을 증류시켜 상기 혼합물로부터 대부분의 실란올을 분리시키므로써 폴리알킬실록산 증류액을 제조하는 단계; 및 상기 폴리알킬실록산 증류액을 탄소필터 및 분자체 벤드에 통과시켜 상기 출발물질인 폴리알킬실록산을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 전환 단계가; 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 함유하는 가스 스트림을 제공하는 단계; 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 미세분말의 무정형 수트로 전환시키기 위해 상기 가스 스트림을 산화시키는 단계, 선택적으로 산소 존재하에서 상기 가스 스트림을 연소 버너 프레임을 통과시키는 단계, 다공성 물질을 제조하기 위해 기판상에 상기 수트를 침전시키는 단계; 선택적으로 상기 수트를 회전 맨드럴상에 포집하는 단계; 및 고형물을 제조하는데 효과적인 조건하에서, 선택적으로 헬륨 및 염소를 함유한 매질에서 상기 다공성 물질을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 가스 스트림을 제공하는 단계가 산화성 가스, 가연성 가스, 불활성 가스 및 이의 혼합물 및/또는 수소, 질소, 산소 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 운반체 가스에서 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물을 분무시키거나 증발시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 고형물이 상기 공형물을 가열시키는 단계, 및 상기 가열된 고형물로부터 광섬유를 인발시키는 단계를 더욱 포함하는 공정에 의해 광섬유를 제조하는데 사용됨을 특징으로 하는 방법.
- 제15항, 제16항, 또는 제17항에 있어서, 상기 정제된 폴리알킬실록산 조성물이 P2O5로 전환될 수 있는 화합물 및/또는 ⅠA족, ⅠB족, ⅡB족, ⅢA족, ⅢB족, ⅣA족, ⅣB족, ⅤA족, 회토류 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 금속성분을 갖는 금속 산화물과 혼합됨을 특징으로 하는 방법.
- 제15항, 제16항, 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 산화, 침전 및 열처리단계가 동시에 수행됨을 특징으로 하는 방법.
- 제15항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법이 다른 다공성 물질을 제조하기 위해 고형물에 부가적인 수트를 적용시키는 단계; 상기 다른 다공성 물질을 제2고형물로 전환시키기에 효과적인 조건하에서 열처리시키는 단계; 및 광도파관 부품을 제조하기에 효과적인 조건하에서 제2고형층을 처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 고형물이 상기 고형물을 가열시키는 단계, 및 상기 가열된 고형물로부터 광섬유를 인발시키는 단계를 더욱 포함하는 공정에 의해 광섬유를 제조하는데 사용됨을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US311695P | 1995-09-01 | 1995-09-01 | |
| US60/003,116 | 1995-09-01 | ||
| US08/574,961 | 1995-12-19 | ||
| US08/574,961 US5703191A (en) | 1995-09-01 | 1995-12-19 | Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970015631A true KR970015631A (ko) | 1997-04-28 |
| KR100500122B1 KR100500122B1 (ko) | 2005-11-03 |
Family
ID=26671346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960037458A KR100500122B1 (ko) | 1995-09-01 | 1996-08-31 | 폴리알킬실록산의정제방법및이의제품 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5703191A (ko) |
| EP (1) | EP0760373B1 (ko) |
| JP (1) | JPH09156947A (ko) |
| KR (1) | KR100500122B1 (ko) |
| CN (1) | CN1152079C (ko) |
| AU (1) | AU714751B2 (ko) |
| CA (1) | CA2181329A1 (ko) |
| DE (1) | DE69630563D1 (ko) |
| RU (1) | RU2161166C2 (ko) |
| TW (1) | TW440579B (ko) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU718737B2 (en) | 1995-12-19 | 2000-04-20 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming fused silica by combustion of liquid reactants |
| US5879649A (en) * | 1995-12-19 | 1999-03-09 | Corning Incorporated | Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products |
| ID22906A (id) * | 1997-04-18 | 1999-12-16 | Corning Inc | Proses untuk memurnikan siloksana |
| US5979185A (en) * | 1997-07-16 | 1999-11-09 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming silica by combustion of liquid reactants using a heater |
| AU727914B2 (en) * | 1997-07-21 | 2001-01-04 | Corning Incorporated | Method and apparatus for producing low flow rates of feedstock vapors |
| JP3794664B2 (ja) | 1998-07-29 | 2006-07-05 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス部材及びその製造方法、並びにエキシマレーザ用光学部品 |
| AU1340701A (en) | 1999-12-16 | 2001-06-25 | Corning Incorporated | Optical gain fibers |
| US6418756B1 (en) | 2000-01-28 | 2002-07-16 | Corning Incorporated | Method of making planar waveguides using low flow rates of feedstock vapors from a gas and liquid mixture |
| ATE370105T1 (de) * | 2002-06-28 | 2007-09-15 | Prysmian Cavi Sistemi Energia | Verfahren und vorrichtung zum verdampfen eines flüssigen vorlaüfers beim herstellen einer glasvorform |
| US20120276291A1 (en) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | Bird Chester D | Methods and Apparatuses for Reducing Gelation of Glass Precursor Materials During Vaporization |
| US8840858B2 (en) * | 2011-07-06 | 2014-09-23 | Corning Incorporated | Apparatus for mixing vaporized precursor and gas and method therefor |
| DE102011119341A1 (de) * | 2011-11-25 | 2013-05-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas nach der Sootmethode |
| DE102011119374A1 (de) * | 2011-11-25 | 2013-05-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas |
| DE102011119339A1 (de) | 2011-11-25 | 2013-05-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Zerstäubungsverfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas |
| DE102011119373A1 (de) * | 2011-11-25 | 2013-05-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas |
| DE102011121190A1 (de) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | OMCTS-Verdampfungsverfahren |
| DE102013202256B3 (de) * | 2013-02-12 | 2014-07-17 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Titan-dotiertem synthetischen Quarzglas und dessen Verwendung |
| RU2572786C2 (ru) * | 2013-11-25 | 2016-01-20 | Общество с ограниченной ответственностью "Весто" | Способ получения циклосилоксанов и низкомолекулярного полидиметилсилоксана |
| EP3002262B1 (de) | 2014-10-01 | 2018-06-27 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas mittels einer polymerisierbaren Polyalkylsiloxanverbindung |
| EP3034476A1 (de) * | 2014-12-16 | 2016-06-22 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas unter verwendung einer reinigungsvorrichtung |
| EP3059212A1 (de) * | 2015-02-18 | 2016-08-24 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von quarzglas aus einer polymerisierbaren polyalkylsiloxanverbindung mit membranfilter als reinigungsvorrichtung |
| WO2018014934A1 (en) * | 2016-07-18 | 2018-01-25 | Prysmian S.P.A. | Method for manufacturing silicon dioxide preforms employed in the production of optical fibers |
| JP2018193279A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法、ガラス母材の製造方法及びガラス微粒子堆積体 |
| EP3434653A1 (de) | 2017-07-24 | 2019-01-30 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Einsatz von einer polyalkylsiloxanverbindung mit geringem siloxanolgehalt für die herstellung von synthetischem quarzglas |
| CN109143504B (zh) * | 2018-09-03 | 2020-05-15 | 广州宽带主干网络有限公司 | 一种光纤线路保护方法 |
| CN109384809B (zh) * | 2018-10-11 | 2021-03-26 | 山东东岳有机硅材料股份有限公司 | 一种去除二甲基硅氧烷环体中线性硅氧烷的方法 |
| CN109373196A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-02-22 | 上海正帆科技股份有限公司 | 一种八甲基环四硅氧烷的输送及汽化系统和方法 |
| CN110372743B (zh) * | 2019-07-26 | 2021-12-21 | 合盛硅业（泸州）有限公司 | 一种硅橡胶聚合副产物回收处理系统及其处理方法 |
| CN112028466B (zh) * | 2020-09-01 | 2021-08-31 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种用于制备光纤预制棒的有机硅原料蒸发装置 |
| JP7449842B2 (ja) * | 2020-11-02 | 2024-03-14 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| JP7428632B2 (ja) * | 2020-12-14 | 2024-02-06 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2272342A (en) * | 1934-08-27 | 1942-02-10 | Corning Glass Works | Method of making a transparent article of silica |
| US2269059A (en) * | 1938-05-14 | 1942-01-06 | Corning Glass Works | Method of preparing finely comminuted oxides |
| US2239551A (en) * | 1939-04-22 | 1941-04-22 | Corning Glass Works | Method of making sealing glasses and seals for quartz lamps |
| BE438752A (ko) * | 1939-04-22 | |||
| US3117838A (en) * | 1957-08-02 | 1964-01-14 | Int Standard Electric Corp | Manufacture of silica |
| US3416890A (en) * | 1965-12-16 | 1968-12-17 | Owens Illinois Inc | Process of producing oxides of metals and metalloids |
| DE1667044C3 (de) * | 1967-04-13 | 1981-01-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Oxide aus Halogeniden |
| US3698936A (en) * | 1969-12-19 | 1972-10-17 | Texas Instruments Inc | Production of very high purity metal oxide articles |
| US3666414A (en) * | 1971-03-15 | 1972-05-30 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Method of producing transparent or opaque fused silica or glass with a high silicon content |
| US4096160A (en) * | 1976-04-21 | 1978-06-20 | General Electric Company | Continuous devolatilization of silanol-terminated silicone polymer |
| US4156689A (en) * | 1978-02-13 | 1979-05-29 | General Electric Company | Purification of hydrosilanes and siloxanes |
| JPS54117491A (en) * | 1978-03-06 | 1979-09-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of octamethyl-cyclotetrasiloxane |
| JPS54145642A (en) * | 1978-05-09 | 1979-11-14 | Tokushiyu Muki Zairiyou Kenkiy | Method of manufacturing heat resisting semiiinorganic compound |
| US4501602A (en) * | 1982-09-15 | 1985-02-26 | Corning Glass Works | Process for making sintered glasses and ceramics |
| US4491604A (en) * | 1982-12-27 | 1985-01-01 | Lesk Israel A | Silicon deposition process |
| JPS6090838A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光伝送用石英ガラス母材の製造方法 |
| US4689420A (en) * | 1985-11-19 | 1987-08-25 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of cyclopolydiorganosiloxanes |
| US4810673A (en) * | 1986-09-18 | 1989-03-07 | Texas Instruments Incorporated | Oxide deposition method |
| US4824985A (en) * | 1987-06-11 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Novel route to Ca8 Si4 O12 Cl8, alkoxycyclotetrasiloxanes, aryloxycyclotetrasiloxanes, alkylcyclotetrasiloxanes and arylcyclotetrasiloxanes from wollastonite (Ca SiO3) |
| GB8905966D0 (en) * | 1989-03-15 | 1989-04-26 | Tsl Group Plc | Improved vitreous silica products |
| US5078092A (en) * | 1989-12-22 | 1992-01-07 | Corning Incorporated | Flash vaporizer system for use in manufacturing optical waveguide fiber |
| US5152819A (en) * | 1990-08-16 | 1992-10-06 | Corning Incorporated | Method of making fused silica |
| US5043002A (en) * | 1990-08-16 | 1991-08-27 | Corning Incorporated | Method of making fused silica by decomposing siloxanes |
| US5125946A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-30 | Corning Incorporated | Manufacturing method for planar optical waveguides |
| US5253319A (en) * | 1992-02-24 | 1993-10-12 | Corning Incorporated | Planar optical waveguides with planar optical elements |
| JPH0687871A (ja) * | 1992-09-09 | 1994-03-29 | Tokuyama Soda Co Ltd | 環状シロキサンの精製方法 |
| NL9201854A (nl) * | 1992-10-26 | 1994-05-16 | Franciscus Petrus Maria Nooren | Werkwijze en inrichting voor het zuiveren van vloeibaar materiaal, in het bijzonder polysiloxaan alsmede toepassing van het gezuiverde vloeibare materiaal. |
| JP2971686B2 (ja) * | 1992-11-30 | 1999-11-08 | 信越石英株式会社 | 耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法 |
| EP0641799A3 (en) * | 1993-08-02 | 1997-09-17 | Dow Corning | High purity alkyl siloxanes and process for their preparation. |
| DE69408919T2 (de) * | 1993-08-18 | 1998-10-01 | Shinetsu Chemical Co | Verfahren zur Herstellung von Polydimethylsiloxanen |
| US5356451A (en) * | 1993-12-20 | 1994-10-18 | Corning Incorporated | Method and apparatus for vaporization of liquid reactants |
| US5516870A (en) * | 1995-05-03 | 1996-05-14 | Dow Corning Corporation | Methods of making polysiloxanes |
-
1995
- 1995-12-19 US US08/574,961 patent/US5703191A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-07-16 CA CA002181329A patent/CA2181329A1/en not_active Abandoned
- 1996-08-16 EP EP96113176A patent/EP0760373B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-16 DE DE69630563T patent/DE69630563D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-22 AU AU62199/96A patent/AU714751B2/en not_active Ceased
- 1996-08-30 JP JP8246826A patent/JPH09156947A/ja active Pending
- 1996-08-30 RU RU96117011/04A patent/RU2161166C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1996-08-30 CN CNB96109608XA patent/CN1152079C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-31 KR KR1019960037458A patent/KR100500122B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-09-09 TW TW085111136A patent/TW440579B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU6219996A (en) | 1997-03-06 |
| DE69630563D1 (de) | 2003-12-11 |
| JPH09156947A (ja) | 1997-06-17 |
| EP0760373A3 (en) | 1998-03-11 |
| EP0760373A2 (en) | 1997-03-05 |
| AU714751B2 (en) | 2000-01-13 |
| CN1153795A (zh) | 1997-07-09 |
| EP0760373B1 (en) | 2003-11-05 |
| CA2181329A1 (en) | 1997-03-02 |
| CN1152079C (zh) | 2004-06-02 |
| RU2161166C2 (ru) | 2000-12-27 |
| US5703191A (en) | 1997-12-30 |
| MX9603820A (es) | 1997-09-30 |
| KR100500122B1 (ko) | 2005-11-03 |
| TW440579B (en) | 2001-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970015631A (ko) | 폴리알킬실록산의 정제방법 및 이의 제품 | |
| RU96117011A (ru) | Способ очистки полиалкилсилоксанов и получаемый при этом продукт | |
| JP3233298B2 (ja) | 高純度溶融シリカガラスの非多孔質物体を作成する方法 | |
| US5735921A (en) | Method of reducing laser-induced optical damage in silica | |
| US5879649A (en) | Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products | |
| KR101504377B1 (ko) | 저 ｏｈ, ｏｄ 수준을 갖는 융합 실리카 및 그 제조방법 | |
| US5616159A (en) | Method of forming high purity fused silica having high resistance to optical damage | |
| CA2037102C (en) | Method of making fused silica | |
| EP0622340A1 (en) | Improvement in the method for the preparation of a synthetic silica glass body | |
| US5766291A (en) | Method for producing heat-resistant synthetic quartz glass | |
| JPH0686469B2 (ja) | 環状ポリ（シロキサン）の製造方法 | |
| JP3818603B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| CA1207150A (en) | Method for drying oxide glasses | |
| TW200400370A (en) | Lower-loss base material for optical fibres and manufacturing method thereof | |
| JPH03109223A (ja) | 石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPH0420853B2 (ko) | ||
| JP6769893B2 (ja) | Ｏｈ基拡散抑制能を有する石英ガラス材料及びその製造方法 | |
| JP2001502312A (ja) | シロキサン原料のゲル化を阻害する方法およびゲル化の阻害された原料 | |
| JPH06122533A (ja) | 炭化珪素含有シリカガラスおよびその製造方法 | |
| MXPA96003820A (en) | Method for purifying polyaquilsiloxanes and the proputs result | |
| JPH0459253B2 (ko) | ||
| JPH02180729A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0735264B2 (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080625 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |