KR970008628A - 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 - Google Patents
고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970008628A KR970008628A KR1019950020636A KR19950020636A KR970008628A KR 970008628 A KR970008628 A KR 970008628A KR 1019950020636 A KR1019950020636 A KR 1019950020636A KR 19950020636 A KR19950020636 A KR 19950020636A KR 970008628 A KR970008628 A KR 970008628A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- color layer
- image pickup
- solid state
- pickup device
- state image
- Prior art date
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract 8
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims 2
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 claims 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 claims 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims 1
- LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N tannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N 0.000 claims 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 claims 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 claims 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14806—Structural or functional details thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
칼라필터의 분광특성을 개선하는 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크에 관하여 기재되어 있다. 고체촬상소자는 기판 상에 제1칼라층을 형성하는 제1공정, 제1칼라층과 부분적으로 중첩되는 제2칼라층을 형성하는 제2공정, 결과물 상에 평탄화층을 형성하는 제3공정, 평탄화층 상에 포토레지스트를 도포하는 제4공정, 포토레지스트를 부분적으로노광하는 제5공정, 노광된 포토레지스트를 현상하여 마이크로 렌즈를 형성하는 제6공정 및 제1칼라층과 제2칼라층이중첩된 영역의 수직선상에 위치하는 마이크로 렌즈를 제외한 모든 마이크로 렌즈를 표백하는 제7 공정으로 형성되고, 마스크는 일부 마이크로 렌즈와 대응되는 영역에 차광층이 형성되어 있다. 따라서, 고체촬상소자의 색 재현성을 더욱 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 의한 고체촬상소자의 제조방법을 설명하기 위해 도시된 단면도이다, 제6도는 상기 제5도의 고체촬상소자를 제조하는데 이용되는 마스크이다.
Claims (6)
- 기판 상에 제1칼라층을 형성하는 제1공정; 상기 제1칼라층과 부분적으로 중첩되는 제2칼라층을 형성하는 제2 공정; 결과물 상에 평탄화층을 형성하는 제3공정; 상기 평탄화층 상에 포토레지스트를 도포하는 제4공정; 상기포토레지스트를 부분적으로 노광하는 제5공정; 노광된 포토레지스트를 현상하여 마이크로 렌즈를 형성하는 제6공정; 및상기 제1칼라층과 제2칼라층이 중첩된 영역의 수직선상에 위치하는 마이크로 렌즈를 제외한 모든 마이크로 렌즈를 표백하는 제7공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1칼라층은 청록색(cyan)을 염색하여 형성하고, 상기 제2칼라층은 노란색(yellow)을 염색하여 형성하는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 표백공정은 상기 포토레지스트가 흡수하는 파장의 빛에 상기 포토레지스트를 노출시키는 공정인 것을 특징으로 하는 고체촬상소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 공정 및 제2 공정 후, 결과물을 탄닌산과 주석산 수용액에 담구는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자의 제조방법.
- 고체촬상소자를 형성하는데 이용되는 마스크에 있어서, 일부 마이크로 렌즈와 대응되는 영역에 차광층이형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자 제조를 위한 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 일부 마이크로 렌즈는 제1 칼라층과 제2 칼라층이 중첩되는 영역 상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자 제조를 위한 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950020636A KR0155846B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950020636A KR0155846B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970008628A true KR970008628A (ko) | 1997-02-24 |
KR0155846B1 KR0155846B1 (ko) | 1998-10-15 |
Family
ID=19420546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950020636A KR0155846B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0155846B1 (ko) |
-
1995
- 1995-07-13 KR KR1019950020636A patent/KR0155846B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0155846B1 (ko) | 1998-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4220705A (en) | Process for manufacturing a multi-colored display polarizer | |
JPS6490403A (en) | Color mosaic filter | |
US4339514A (en) | Process for making solid-state color imaging device | |
US4419425A (en) | Method for manufacturing color filter | |
JPH03230101A (ja) | カラー固体撮像装置およびその製造方法 | |
KR970008628A (ko) | 고체촬상소자의 제조방법 및 이에 이용되는 마스크 | |
JPS6214103A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
KR920004861A (ko) | 컬러필터의 제조방법 | |
JPS5479050A (en) | Production of mosaic filter | |
JPS63159807A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
KR930003687B1 (ko) | 칼라필터의 제조방법 | |
JPH0360154A (ja) | カラー固体撮像素子 | |
KR920003352B1 (ko) | 액정표시소자용 컬러필터 및 그 제조방법 | |
KR970054281A (ko) | 고체촬상 소자의 칼라필터 제조방법 | |
JPS63159808A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
KR960026907A (ko) | 고체촬상소자의 제조방법 | |
JPS61295505A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
JP3667951B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
KR980012646A (ko) | 컬러필터 제조방법 | |
KR930004776A (ko) | 컬러필터상의 마이크로 렌즈 제조방법 | |
JPS63159806A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
KR940004298B1 (ko) | 컬러필터층 형성방법 | |
KR950025854A (ko) | 반도체 소자의 미세패턴 제조방법 | |
KR100236080B1 (ko) | 고체 촬상 소자의 제조 방법 | |
JPH02244102A (ja) | カラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20050607 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |