KR970004974Y1 - 확산로의 배기장치 - Google Patents

Abstract

내용없음

Description

확산로의 배기장치

제1도는 종래 기술에 의한 확산로의 개략적인 구조를 나타내는 단면도

제2도는 본 고안에 의한 확산로의 개략적인 구조를 나타내는 단면도

제3도는 본 고안에 의한 확산로의 도어를 개방하여 웨이퍼를 교체하는 동작으로 나타내는 단면도

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

2 : 가스 주입관 4 : 몸체

6 : 가열코일 8 : 확산로 도어

10 : 가스 배출관 12 : 질소 분사부

14 : 배기부 16 : 웨이퍼

본 고안은 반도체 확산 공정이 이루어지는 확산로의 배기장치에 관한 것으로, 특히 배기부에 질소를 고압으로 분사함으로써, 배기가스를 배출시키고 확산로의 도어를 개방할 때 외부대기에 의한 확산로의 오염을 막는 장벽역할을 하는 확산로의 배기장치에 관한 것이다.

종래의 확산로는 제1도에 도시된 바와 같이 확산로는 가열코일(6)에 의하여 체임버 내부는 800℃ 이상의 온도로 가열되며, 반응 가스는 가스 주입관(2)를 통하여 확산로 내부에 주입되고 확산공정이 끝난 반응가스는 확산로의 상부에 형성된 가스 배출관(10)의 흡입에 의하여 외부로 배출되며, 확산공정이 끝나면 확산로 도어(8)를 개방하여 웨이퍼를 꺼내고 다시 웨이퍼를 올려 놓고 확산로 도어(8)를 닫아 다시 확산공정을 행한다.

그러나, 확산로의 확산공정은 대기압을 이용하므로 가스 배출관(10)에서 흡입되도록 진공을 이용하여 확산로에서 반응이 끝난 가스를 빨아들이는 경우 배기관에 오염물들이 많이 모이게 되고, 이러한 오염물질들이 확산로내로 재주입되어 확산로의 체입버가 오염이 되며, 확산로 도어(8)를 개방하는 경우 외부 대기와의 접촉으로 확산로의 내부로 산소, 분진 등의 오염물질들이 유입되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 확산로의 배기구를 확산로 도어 전면에 설치하고 도어 전면에 수직되는 방향으로 질소를 분사하여 압력차에 의하여 반응가스를 배출하고 도어를 개방한 경우에는 외부 대기와 확산로 내부를 차단하는 장벽 역할을 하는 확산로의 배기장치를 제공함에 그 목적을 두고 있다.

본 고안은 상기 목적을 달성하기 위하여, 상기 확산로 도어 전면에 설치되어 가스를 배출하는 가스 배출관; 상기 확산로 도어의 상부에 설치되어 상기 확산로 도어 전면과 수직방향으로 질소 가스를 분사시키는 질소 분사부; 상기 확산로 도어 하부에 상기 질소 분사부와 대응되게 설치하여 반응가스와 질소를 배출하는 배기부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 확산로의 배기장치를 제공한다.

이하, 본 고안에 의한 일실시예를 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. 제2도는 본 고안에 의한 확산로의 개략적인 구조를 나타내는 단면도이고, 제3도는 본 고안에 의한 확산로의 도어를 개방하여 웨이퍼를 교체하는 동작을 나타내는 단면도이며, 도면에서 2는 가스 주입관, 4는 몸체, 6은 가열코일, 8은 확산로 도어, 10은 가스 배출관 12는 질소 분사부, 14는 배기부, 16은 웨이퍼를 각각 나타낸다. 도면에 도시된 바와 같이, 확산로는 반응가스를 주입하는 가스주입관(2), 확산공정을 실시하기 위한 채임버를 형성하는 몸체(4), 몸체(4)의 외주면을 감싸게 설치되어 몸체(4)를 가열하는 가열코일(6), 확산로 도어(8) 전면에 설치되어 가스를 배출하는 가스 배출관(10), 확산로 도어(8) 상부에 설치되어 확산로 도어(8) 전면과 수직방향으로 질소 가스를 분사시키는 질소 분사부(12), 확산로 도어(8) 하부에 질소 분사부(12)와 대응되게 설치하여 반응가스와 질소를 배출하는 배기부(14)로 구성되어 있다. 확산로에 반응가스를 가스 주입관(2)에 투입하여 고온하에서 웨이퍼(16) 상에 확산공정을 실시한다. 확산로 도어(8)의 전면에 설치된 가스 배출관(10)에 수직 방향으로 질소 분사부(12)에서 고압으로 질소를 분사하면 가스 배출관(10)의 압력이 급격하게 낮아지며, 이에 따라 가스 배출관(10) 주변에 있는 확산로의 내부의 압력도 낮아지기 때문에 가스 배출관(10)과 질소 유속의 압력차에 의하여 확산공정이 끝난 반응가스는 확산로 밖으로 자연스럽게 배출된다. 배출된 반응가스와 질소는 배기부(14)를 통하여 배출되게 되는데 질소 분사부(12)에서 질소를 계속적으로 분사하는 한 반응 가스가 역류하여 확산로 내부를 오염시키지 못하게 된다. 또한, 확산공정이 종료한 웨이퍼(16)를 꺼내기 위하여 확산로 도어(8)를 개방하면 질소 분사부(12)의 질소 분사에 의하여 체임버와 외부가 차단하는 장벽 역할을 하여 외부의 산소, 분진등의 오염물질이 체임버 내부로 유입되는 것을 방지하며, 높은 온도의 웨이퍼(16)를 질소 분사에 의하여 자동적으로 냉각하여 다음 공정을 하기 위한 시간을 줄이게 된다.

이상에서 언급한 바와 같이 본 고안은 확산로의 배기구를 확산로 도어 전면에 설치하고 도어 전면에 수직되는 방향으로 질소를 분사함으로써 압력차에 의하여 반응가스를 배출하여 확산로 내부로 오염물질이 역류하는 것을 방지하며, 도어 개방한 경우에는 외부 대기와 확산로 내부를 차단하는 장벽 역할을 하여 오염물질이 확산로 내부로 유입되는 것을 방지하며, 높은 온도의 웨이퍼를 질소 분사에 의하여 자동적으로 냉각할 수 있게 하는 우수한 효과를 갖는다.

Claims (1)

1. 반응가스를 주입하는 가스주입관(2), 확산공정을 실시하기 위한 체임버를 형성하는 몸체(4)와 상기 몸체(4)의 외주면을 감싸게 설치되어 상기 몸체(4)를 가열하는 가열코일(6)과 확산로 도어(8)를 구비하고 있는 확산로의 배기장치에 있어서, 상기 확산로 도어(8) 전면에 설치되어 가스를 배출하는 가스배출관(10); 상기 확산로 도어(8)의 상부에 설치되어 상기 확산로 도어(8) 전면과 수직방향으로 질소 가스를 분사시키는 질소 분사부(12); 상기 확산로 도어(8) 하부에 상기 질소 분사부(12)와 대응되게 설치하여 반응가스와 질소를 배출하는 배기부(14)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 확산로의 배기장치.