KR960038518A - 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템 및 그 방법 및 프린팅 시스템 - Google Patents

개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템 및 그 방법 및 프린팅 시스템 Download PDF

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Abstract

프린터 드럼과 같은 개체(26) 상의 복수의 영역을 개별적으로 광조사하는 시스템(10)이 여기 개시된다. 시스템(10)은 LED또는 복수의 LED 등의 광원(12)을 포함한다. 가동(movable) 미러 디바이스일 수 있는 공간 광변조기는 광원(12)으로부터 광을 수신하여이 광의 선택된 부분들을 반사한다. 공간 광 변조기(14)는 개별적으로 변조된 픽셀들도 된 적어도 n개의 로우를 포함하며, 이 로우들 각각의 1/n만이 임의의 시간점에서 광을 수신하여 반사시킬 수 있다. 공간 광 변조기(14)로부터의 광은 광조사될 개체(26)의 로우 및 컬럼들 상에 화상을 형성한다(즉, 화상 형성 렌즈(24)를 사용하여). 개체(26)는 각각의 컬럼이 대응하는 로우의 픽셀들에 의해서 광조사되도록 광조사된다.

Description

개체의 복수영역에 대한 개별 광조사 시스템 및 그 방법 및 프린팅 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3A 및 3B도는 광조사를 제공하는 가동 미러 디바이스뿐만 아니라 광조사될 개체(이를 테면 OPC)를 도시 한 도면

Claims (26)

  1. 개체(object)상의 복수의 영역을 개별적으로 광조사하는 시스템에 있어서, 광원; 및 광원으로부터 광을 수신하여, 광조사될 상기 영역들에 대응하는 상기 광의 선택된 부분들을 반사시키는 것으로서, vn이1이상의 정수일 때, 개별적으로 변조될 픽셀들의 n개 로우의 세트들을 포함하며 상기 로우 각각의 1/n만 임의의 시간점에서 상기 광을 수신하여 반사하는 공간 광 변조기를 포함하며, 상기 개체는 상기 공간 광 변조기로부터 상기 반사된 광을 수신함으로써 광 조사되며, 상기 영역들은 p개의 컬럼을 포함하여 상기 개체 상의 상기 각각의 컬럼이 상기 픽셀들의 n개의 로우 중 하나에 의해서 광조사되게 한 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  2. 제1항에 있어서, 개별적으로변조된 픽셀들의 상기 n개의 로우들 중 상기 광조사된 부분들은 한 라인의 인접한 픽셀들이 상기 n개 로우 각각의 연속한 노출에 의해서 기입될 수 있도록 횡-처리 방향에서 서로에 대해 스태거된 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  3. 제1항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 충분히 큰 노출을 얻기 위해서 한 픽셀이 상기 드럼 상에 반복적으로 노출될 수 있도록 정렬된 n로우 픽셀들로 된 몇 개의 서브어레이들로 구성된 것을 특징으로 하느 개체의 복수 영역에 대한 개벌 광조사 시스템
  4. 제1항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 가동(movable)미러 디바이어스를 포함하는 것을특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대하 개벌 광조사 시스템
  5. 제4항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 복수의 픽셀을 포함하여, 상기 픽셀 각각은 편향할 수 있는 빔. 상기 빔에 인접한 어드레스 전극, 및 상기 빔에 인접한 랜딩(landing)전극을 포함하며; 상기 빔과 상기 어드레스 전극간에 인가된 전압은 상기 빔을 상기 어드레스 전극을 향하여 평향시키며, 상기 랜딩 전극은 상기 어드레스 전극을 향하여 편향된 상기 빔에 접촉하고 상기 편향된 빔에 상기 어드레스 전극과 접촉하는 것을 방지하도록 배치된 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개벌 광조사 시스템
  6. 제4항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 층으로 된 구조 내에 형성된 복수의 픽셀들을 포함하며; 상기 층으로 된 구조는 절연 기판, 상기 기판 상의 스페이서 층, 상기 스페이서 층 상의 도전 반사층. 및 복수의 어드레스 전극 및 랜딩 전극을 포함하며; 상기 픽셀 각각은 상기 반사층 내에 형성되며 상기 반사층으로부터 형성된 적어도 하나의 한지에 의해서 상기 반사층의 나머지에 접속된 편향 가능 소자, 상기 스페이서 층 내에 형성되며 상기 편향 가능 소자로부터 상기 기판까지 확장하는 웰, 상기 웰의 바닥에서 상기 기판 상에, 정전 흡인에 의해서 상기 편향 가능 소자를 편향시키도록 배치된 제1어드레싱 전극, 및 상기 편향 가능 소자가 상기 제1어드레싱 전극에 의한 흡인에 의해서 상기 기판으로 편향될 때 상기 편향 가능 소자와 접촉하게 하고 아울러 상기 편향 가능 소자가 상기 어드레싱 전극과 접촉되는 것을 방지하도록 배치된 것으로서, 상기 웰의 바닥에서 상기 기판 상에 있는 제1랜딩 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수영역에 대한 개별 광조사 시스템
  7. 제4항에 있어서, 상기 개별적으로 변조된 팩셀들은 다이아몬드 형상의 미러 소자들을 포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  8. 제4항에 있어서, 상기 미러 소자는 상기 로우 내의 소자들의 간격보다 작은 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  9. 제1항에 있어서, 상기 광원은 발광 다이오드 또는 백열 램프로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 개체의 복수영역에 대한 개별 광조사 시스템
  10. 제1항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 개별적으로 변조된 픽셀들의 3개의 로우들로 된 세트들을 포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  11. 제1항에 있어서, 상기 개체는 프린팅 드럼을 포함하는 것을것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  12. 제1항에 있어서, 상기 광원과 상기 공간 광 변조기사이에 배치된 스캐너를 더 포함하며, 상기 스캐너는 개별적으로 변조된 픽셀들의 상기 로우들 중 일부 상에 상기 광 화상을 형성하기 위한 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  13. 제1항에 있어서, 개별적으로 변조된 픽셀들의 상기 로우들 모두를 동시에 광조사하기 위해서 상기광원과 상기 공간 광 변조기 사이에 광 지향 광학을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대해 개별 광조사 시스템
  14. 제1항에 있어서, 개별적으로 변조된 픽셀들 각각의 일부분만이 광조사될 수 있는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별광조사 시스템
  15. 제14항에 있어서, 상기 광원과 상기 공간 광 변조기 사이에 배치된 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  16. 제15항에 있어서, 상기 마스크는 상기 공간 광 변조기로부터 10마이크론 이하에 배치된 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  17. 제14항에 있어서, 개별적으로 변조된 픽셀들 각각의 정사각형 부분만이 광조사될 수 있는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 시스템
  18. 프린팅 시스템에 있어서, 광원; 상기 광원으로부터 광을 수신하기 위한 광조사 광학, 상기 광조사 광학으로부터 광을 수신하여 선택된 부분들을 화상 형성 렌즈로 반사시키기 위한 것으로서, 개별적으로 변조된 픽셀들로 된 적어도 n개의 로우를 포함하여, 상기 로우들 각각의 단지1/n만이 임의의 시간점에서 상기 광을 수신하여 반사시키는 공간 광 변조기; 및 상기 화상 형성 광학으로부터 상기 반사된 광을 수신하기 위한 프린팅 드림을 포함하며, 상기 프린팅 드럼은 선택적으로 그리고 개별적으로 광조사되는 영역들을 포함하고, 상기 영역들은 p개의 로우들을 포함하여 상기 개체 상의 각각의 컬럼이 상기 픽셀들의 대응하는 로우에 의해서 광조사되도록 한 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  19. 제18항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 가동 미러 디바이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  20. 제18항에 있어서, 상기 광원은 발광 다이오드 또는 형광 램프로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  21. 제18항에 있어서, 상기 광조사 광학은 제1렌즈; 상기 제1렌즈로부터의 광을 수신하기 위한 스캐너; 및 상기 스태너로부터 광을 수신하기 위한 제2렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  22. 제18항에 있어서, 상기 프린팅 드럼은 회전하는 원통형 프린팅 드럼을 포함하는 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  23. 제18항에 있어서, 상기 광원과 상기 공간 광 변조기 사이에 배치된 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로하는 프린팅 시스템
  24. 제23항에 있어서, 상기 마스크는 상기 개별적으로 변조된 픽셀들 각각의 일부분만이 광조사되도록 배치된 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  25. 제24항에 있어서, 상기 마스크는 상기 개별적으로 변조된 픽셀들 각각의 중심만이 광조사되도록 배치된 것을 특징으로 하는 프린팅 시스템
  26. 개체 상에 복수의 영역을 개별적으로 광조사하는 방법에 있어서, 공간 광조기로 광을 전송하는 단계, 상기 공간 광 변조기에서 상기 광을 수신하는 단계, 상기 공간 광 변조기는 n을 1보다 큰 정수라 할 때, 개별적으로 변조된 픽셀들로 된 적어도 n개의 로우를 포함하여, 상기 로우들 각각의단지 1/n만이 임의의 시간점에서 상기 광을 수신하여 반사시키며; 상기 공간 광 변조기로부터의 상기 광의 변조된 광을 광조사될 개체를 향하여 반사시키는 단계; 및 광조사될 개체에서 상기 공간 광 변조기로부터 상기 반사된 광을 수신하여, 상기 영역들은 p개의 컬럼을 포함하여 상기 개체 상의 상기 컬럼 각각은 상기 픽셀들의 대응하는 로우에 의해서 광조사되게 하는 단계를v포함하는 것을 특징으로 하는 개체의 복수 영역에 대한 개별 광조사 방법
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