KR960037774A - 디옥사진계로부터의 반응성 염료, 이의 제조방법 및 용도 - Google Patents

디옥사진계로부터의 반응성 염료, 이의 제조방법 및 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광범위한 섬유재료를 염색하기 위한 섬유 반응성 염료로서 적합한 일반식⑴의 화합물에 관한 것이다.
상기 식에서, 라디칼들은 특허청구의 범위에서 정의한 바와 같다.

Description

디옥사진계로부터의 반응성 염료, 이의 제조방법 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 하기 일반식⑴의 화합물,
    상기 식에서, R, R1, R2, 및 R3은 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬이고, Z 및 Z'는 서로 독립적으로 각각 측쇄 C2-C10알킬렌이며, T 및 T'는 서로 독립적으로 각각 염소, 불소, 브롬, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고, V 및 V'는 서로 독립적으로 각각 아미노, 치환되지 않거나 설포-, 설페이토-, 하이드록실-, 카복실- 또는 페닐-치환된 N-C1-C4알킬아미노 또는 N, N-디-C1-C4알킬아미노, 사이클로헥실아미노, 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 아미노-, C2-C4알카노일아미노-, 카복실-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐아미노 또는 나프틸아미노, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환되고/되거나 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노, 또는 모르폴리노이거나, 일반식(2a) 내지 일반식(2g)의 반응성 라디칼이다.
    [상기 식에서, R4는 수소, 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실, 시아노, 할로겐, C1-C4알콜시카보닐, 카바모일 또는 -SO2-Y 그룹이고, R5는 수소, 치환되지 않거나 하이드록실-, 설포-, 설페이토-, 카복실- 또는 시아노-치환된 C1-C4알킬 또는 라디칼(여기서, R4는 위에서 정의한 바와 동일하다)이며, R6은 수소 또는 C1-C4알킬이고, alk 및 alk'는 서로 독립적으로 각각 C1-C6알킬렌이며, 아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복실-, 하이드록실-, C1-C4알킬-, C1-C4알콕시- 또는 할로겐-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고, Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 이탈 그룹이다)이며, Y1은 그룹 -CHX-CH2X 또는 -CX=CH2이고, X는 염소 또는 불소이며, B는 라디칼 -O- 또는 -NR6-(여기서, R6은 위에서 정의한 바와 동일하다)이고, n 및 t는 서로 독립적으로 각각 0 또는 1이다.]
  2. 제1항에 있어서, R 과 R2가 동일하며 각각 수소 또는 C1-C4알킬이고, R1과 R3이 동일하며 서로 독립적으로 각각 수소 또는 C1-C4알킬인 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, Z 및 Z'가 동일하며, 각각 측쇄 C3-C6알킬렌 라디칼인 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, T 및 T'가 동일하며, 각각 불소 또는 염소인 화합물.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, V 및 V'가 서로 독립적으로 각각 아미노, 치환되지 않거나 하이드록실-, 설포- 또는 설페이토- 치환된 N-모노- 또는 N, N-디-C1-C2알킬아미노, 사이클로헥실아미노, 치환된지 않거나 메틸-, 메톡시-, 카복실- 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬-N-페닐아미노 또는 나프틸 아미노, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노, 또는 모르폴리노인 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, V 및 V'가 서로 독립적으로 각각 아미노 또는 치환되지 않거나 설포-치환된N-모노-또는 N-N-디-C1-C2알킬아미노이거나, 메틸, 메톡시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일한 라디칼 1개 내지 3개로 치환된 페닐아미노 또는 1개 내지 3개의 설포 그룹을 갖는 1- 또는 2- 나프틸아미노인 화합물.
  7. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, V 및 V'가 서로 독립적으로 각각 하기 일반식(3a) 내지 일반식(3d)의 그룹인 화합물.
    상기 식에서, Y는 비닐 또는 β-서페이토에틸이고, Y1은-CHBr-CH2Br 또는 -CBr=CH2이다.
  8. 제1항에 있어서, R, R1, R2, 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소, 메틸 또는 에틸이고, Z 및 Z'가 서로 독립적으로 각각 측쇄 C3-C6알킬렌 라디칼이며, T 및 T'가 서로 독립적으로 각각 염소 또는 불소이고, V 및 V'가 서로 독립적으로 각각 아미노, 치환되지 않거나 하이드록실-, 설포- 또는 설페이토-치환된 N-모노= 또는 N,N-디-C1-C2알킬아미노, 사이클로헥실아미노, 치환되지 않거나 메틸-, 케톡시-, 카복실-, 또는 설포-치환된 페닐아미노 또는 나피틸아미노이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬-N-페닐아미노, 또는 모르폴리노이거나, 일반식(3a) 내지 일반식(3d)의 반응성 라디칼이고, n이 1인 일반식(1)의 화합물
    상기 식에서, Y는 β-설페이토에틸 또는 비닐이고, Y1은-CHBr-CH2Br 또는 -CBr=CH2이다.
  9. 제1항에 있어서, 하기 일반식(1')의 화합물.
    상기 식에서, Z는 측쇄 C3-C6알킬렌라디칼이고, T는 염소 또는 불소이며, V는 설포, 메틸 및 메톡시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1개 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된 페닐아미노이거나 1개 또는 2개의 설포 그룹으로 치환된 2-나프틸아미노이다.
  10. 일반식(4)의 화합물을 일반식(5a)의 화합물 및 일반식(5b)의 화합물 각각 약 1몰 당량과 바람직한 순서로 축합시키고, 경우에 따라ㅡ 축합 전 또는 후에, 두 라디칼 T 및 T'중의 하나를 다른 라디칼 T 및/또는 T'로 각각 전화시킴을 포함하여, 제1항에 따르는 일반식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R, R1, R2, R3,Z, Z' 및 n은 제1항에서 정의한 바와 동일하고, T 및 T'는 서로 독립적으로 각각 불소, 염소 또는 브롬이며, V 및 V'는 각각 제1항에서 정의한 바와 동일하다.
  11. 하기 일반식(1a) 내지 일반식(1c)의 화합물을 각각 하나씩 포함하는 염료 혼합물.
    상기 식에서, R, R1, Z 및 n은 제1항에서 정의한 바와 동일하고, V1및 V2서로 독립적으로 각각 V에 대해 제1항에서 정의한 의미 중의 하나이고,T1및 T2는 서로 독립적으로 각각 T에 대해 제1항에서 정의한 의미 중의 하나이고, V1및 V2및/또는 T1및 T2는 서로 상이하다.
  12. 제11항에 있어서, 일반식(1a)의 화합물, 일반식(1b)의 화합물 및 일반식(1c)의 화합물(여기서, Z는 측쇄 C3-C6알킬렌이고, n은 1이며, T1및 T2는 동일하며, 각각 불소 또는 염소이고, V1및 V2는 서로 상이하며, 각각 2-, 3- 또는 4-설포페닐아미노, 2,4-또는 2,5-디설포페닐아미노 또는 4-비닐설포닐페닐아미노 또는 4-β-설페이토에틸설포닐페닐아미노 섬유-반응성 라디칼이다)의 합을 100중량%로 하여, 일반식(1a)의 화합물을 5 내지 60중량%, 일반식(1b)의 혼합물을 20 내지 75중량% 그리고 일반식(1c)의 화합물을 60 내지 5중량% 포함하는 염료 혼합물.
  13. 하이드록실 함유 또는 질소 함유 섬유재료를 염색 또는 날염 하기 위한 반응성 염료로서의 일반식(1)의 화합물 또는 제11항에 따르는 염료 혼합물의 용도.
  14. 제13항에 있어서, 셀룰로즈 함유 섬유재료, 특히 면함유 섬유재료를 염색하기 위한 용도.
  15. 하기 일반식(4)의 화합물.
    상기 식에서 R, R1, R2, R3, Z, Z' 및 n은 제1항에서 정의한 바와 동일하다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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