KR960031363A - 홍연석함유 석영유리, 그 제조방법 및 이로부터 제조된 석영 유리지그 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 목적은 고순도, 고내열성, 큰 열팽창계수 및 낮은 광투과도를 갖는 석영 유리 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상부에 중착피막을 갖는 석영유리지그를 제공하는 것이다.
홍연석-함유 석영유리가 제공되며, 석영유리 기질내에 작은 구형이나 작은 둥근 모서리 혹은 예리한 모서리의 3차원 영역 형태의 α-홍연석이 분산되어있으며, 그 α-홍연석 구형 또는 영역 각각의 직경은 0.1∼1000㎛이며, 그 함량은 최소 10중량%이다.
상기 홍연석 함유 석영유리는 용융점이 20℃이상 차이가 난다. 2가지 이상의 결정질 이산화규소 파우더를 그중 가장 높은 융점을 갖는 이산화규소의 량이 10∼80중량%되게 혼합한 후, 혼합물중 가장 낮은 융점과 가장 높은 융점 보다 낮은 온도사이의 온도로 가열함으로써 제조된다.
이같은 홍연석-함유 석영유리로된 석영유리지그가 제공되며, 그 지그표면은 플라즈마 에칭에 대하여 저항성이 큰 증착박막이 입혀져 있으며, 그 박막은 석영유리의 열팽창 계수와 거의 같은 열팽창 계수를 갖는 물질로 이루어져 있어 가열시 입자가 발생하여 실리콘 웨이퍼를 오염시킬 염려가 없게된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (19)
- α-홍연석(cristobalite)영역이 석영유리 기질내에 최소 10중량%량으로 분산되고 각 영역의 직경이 0.1∼1000㎛범위인, 홍연석-함유 석영유리.
- 제1항에 있어서, 상기 석영유리 기질내에는 또한 작은 크기의 독립 기포가 부가적으로 분산되어 있음을 특징으로 하는 홍연석 함유 석영유리.
- 제2항에 있어서, 상기 각각의 기포직경은 500㎛이하이며, 그 기포의 농도는 100∼100,000기포/㎤범위임을 특징으로 하는 홍연석 함유 석영유리.
- 제3항에 있어서, 상기 석영유리는 밀도 2.0gr/㎤이상이며 휨강도 150kg/㎠이상임을 특징으로 하는 홍연석 함유 석영유리.
- 제1항 내지 4항중 어느 한항에 있어서, 상기 석영유리는 열팽창 계수는 1×10-6/℃이상임을 특징으로 하는 홍연석 함유 석영유리.
- 제2항 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석영유리는 4㎜두께 시료에서 파장 0.2∼5㎛에서 1%이하의 광투과율을 가짐을 특징으로 하는 홍연석 함유 석영유리.
- 융점이 서로 20℃이상 다른 2이상의 결정질 이산화규소 파우더를 그중 융점이 가장 높은 이산화규소의 함량이 10∼80중량%되게 혼합한 후, 그 혼합물을 혼합물성분중 융점이 가장 낮은 성분의 융점과 가장 높은 융점 사이의 온도로 가열함을 포함하는 홍연석-함유 석영 유리의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 혼합물을 10∼50℃/min의 제1가열속도로 실온에서 1000℃까지 가열하고, 10℃/min이하의 제2가열속돌로 1000℃에서 성분중 최저 융점과 그 최저 융점보다 10℃높은 온도 사이의 온도까지 가열한 후, 성분중 가장 높은 융점보다 낮은 온도까지 제3의 가열 속도로 서서히 가열함을 특징으로 하는 방법.
- 제7 또는 8항에 있어서, 상기 결정질 이산화규소 파우더의 입자 직경은 10∼1000㎛임을 특징으로 하는 방법.
- 제7 또는 8항에 있어서, 상기 혼합물은 석영유리 기질내에 적은 크기의 독립기포가 분산되도록 5∼20ℓ/min의 유속으로 흐르는 질소 분위기내에서 가열됨을 특징으로 하는 방법.
- 석영유리기질내의 각 영역의 직경이 0.1∼1000㎛인 α-홍연석 영역이 최소 10중량%량으로 분산된 홍연석-석영유리로 제조되며, 그 표면은 금속 또는 세라믹으로된 증착박막으로 입혀져 있는 석영유리지그.
- 제11항에 있어서, 상기 석영유리 기질에는 작은 크기의 기포가 부가적으로 분산되어 있음을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제12항에 있어서, 상기 기포각각의 직경은 500㎛이하이며 그 농도는 100∼100,000기포/㎤임을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제13항에 있어서, 상기 석영유리의 밀도는 2.0gr/㎤이상이며 휨강도 150kg/㎠이상임을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제11항 내지 14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석영유리의 열팽창계수는 1×10-6/℃이상임을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제12항 내지 14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석영유리는 4㎜두께 시료에서 파장 0.2∼5㎛에대하여 1%이하의 광투과도를 가짐을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제11항 내지 14 및 16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석영유리는 각각의 직경이 최소 1㎛이고 10∼99중량%으로 분산된 α-홍연석 영역을 가지며, 그 석영유리의 열팽창 계수는 1×10-6/℃이상임을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제15항에 있어서, 상기 석영유리는 각각의 직경이 최소 1㎛이며 10∼99중량%량으로 분산된 α-홍연석 영역을 가짐을 특징으로 하는 석영유리지그.
- 제11항 내지 18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석영유리지그의 표면은 열팽창계수 1×10-6/℃∼1×10-5/℃이고 플라즈마 에칭에 대하여 저항성이 큰 박막으로 덮여져 있음을 특징으로 하는 석영유리지그.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP95-04876 | 1995-02-28 | ||
JP6487695 | 1995-02-28 | ||
JP95-64876 | 1995-02-28 | ||
JP09749495A JP3400180B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | シリカガラス治具 |
JP95-97494 | 1996-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960031363A true KR960031363A (ko) | 1996-09-17 |
KR100197471B1 KR100197471B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=26405998
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960005113A KR100197471B1 (ko) | 1995-02-28 | 1996-02-28 | 홍연석함유 석영유리, 그 제조방법 및 이로부터 제조된석영유리지그 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5876473A (ko) |
EP (2) | EP0854116B1 (ko) |
KR (1) | KR100197471B1 (ko) |
DE (2) | DE69611686T2 (ko) |
TW (1) | TW382007B (ko) |
WO (1) | WO1996026908A1 (ko) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6120922A (en) * | 1997-04-28 | 2000-09-19 | Goto; Naoyuki | Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
CA2299934C (en) * | 1999-03-03 | 2006-09-19 | Kuraray Co., Ltd. | Oxygen absorptive resin composition |
EP1187170B1 (en) * | 2000-08-29 | 2007-05-09 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Plasma resistant quartz glass jig |
AUPR054000A0 (en) * | 2000-10-04 | 2000-10-26 | Austai Motors Designing Pty Ltd | A planetary gear apparatus |
KR100445669B1 (ko) * | 2001-03-24 | 2004-08-21 | 조철환 | 석영 표면의 세라믹 코팅방법 |
JP3970692B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2007-09-05 | 信越化学工業株式会社 | プリフォーム製造方法 |
JP5050363B2 (ja) * | 2005-08-12 | 2012-10-17 | 株式会社Sumco | 半導体シリコン基板用熱処理治具およびその製作方法 |
JP4994647B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2012-08-08 | ジャパンスーパークォーツ株式会社 | 結晶化し易い石英ガラス部材とその用途 |
DE102006018711B4 (de) * | 2006-04-20 | 2008-09-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Werkstoff, insbesondere für ein optisches Bauteil zum Einsatz in der Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff |
FR2958934A1 (fr) | 2010-04-14 | 2011-10-21 | Michel Davidovics | Matrice a base de cristobalite nano-cristalline pour materiau composite fibreux thermostructural |
CA3149171A1 (en) | 2019-08-29 | 2021-03-04 | Gregory Kenneth BEDFORD | Ultra-white silica-based filler |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA634437A (en) * | 1962-01-09 | D. Stookey Stanley | Method of making a semicrystalline ceramic body | |
US3113877A (en) * | 1960-10-06 | 1963-12-10 | Int Resistance Co | Partially devitrified glasses |
GB1466801A (en) * | 1974-11-20 | 1977-03-09 | Rolls Royce | Method of manufacturing a refractory material containing fused silica and crystalline phase silica |
US4180409A (en) * | 1975-07-10 | 1979-12-25 | Bayer Aktiengesellschaft | Thermally stable quartz glass |
US4473653A (en) * | 1982-08-16 | 1984-09-25 | Rudoi Boris L | Ballistic-resistant glass-ceramic and method of preparation |
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JPH01126238A (ja) * | 1987-11-09 | 1989-05-18 | Shinetsu Sekiei Kk | 石英ガラス炉芯管 |
US4935046A (en) * | 1987-12-03 | 1990-06-19 | Shin-Etsu Handotai Company, Limited | Manufacture of a quartz glass vessel for the growth of single crystal semiconductor |
-
1996
- 1996-02-27 WO PCT/EP1996/000794 patent/WO1996026908A1/en active IP Right Grant
- 1996-02-27 EP EP98105181A patent/EP0854116B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-27 DE DE69611686T patent/DE69611686T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-27 EP EP96903002A patent/EP0757665B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-27 US US08/727,552 patent/US5876473A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-27 DE DE69600781T patent/DE69600781T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-28 TW TW085102361A patent/TW382007B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-02-28 KR KR1019960005113A patent/KR100197471B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0854116B1 (en) | 2001-01-24 |
WO1996026908A1 (en) | 1996-09-06 |
EP0757665A1 (en) | 1997-02-12 |
EP0854116A2 (en) | 1998-07-22 |
TW382007B (en) | 2000-02-11 |
DE69611686D1 (de) | 2001-03-01 |
EP0854116A3 (en) | 1999-01-07 |
US5876473A (en) | 1999-03-02 |
KR100197471B1 (ko) | 1999-06-15 |
DE69600781T2 (de) | 1999-05-20 |
DE69600781D1 (de) | 1998-11-19 |
EP0757665B1 (en) | 1998-10-14 |
DE69611686T2 (de) | 2001-08-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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