KR960031041A - 방전가공방법 및 그의 장치 - Google Patents

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KR960031041A
KR960031041A KR1019960004852A KR19960004852A KR960031041A KR 960031041 A KR960031041 A KR 960031041A KR 1019960004852 A KR1019960004852 A KR 1019960004852A KR 19960004852 A KR19960004852 A KR 19960004852A KR 960031041 A KR960031041 A KR 960031041A
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다구치 마가와
아키히로 고도
요시히도 이마이
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기타오카 다카시
미쓰비시덴키 가부시키가이샤
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Abstract

단순형상전극을 사용한 3차원가공에 있어서, 높은 가공속도와 가공정밀도를 얻는 것, 단순한 형상으로된 전류가 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축 방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, Z축방향의 보정이동량에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량을 기억하고, 가공중의 궤적이동에서의 X-Y평면에서의 이동거리가 상기 기억량에 도달할때마다 X축방향으로 보정이동량의 이송을 행한다.

Description

방전가공방법 및 그의 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이 발명의 실시예 1에서의 전극소모보정방법의 원리를 설명하는 전극소모보정처리의 설명도,
제2도는 이 발명의 실시예 2에서의 전극소모보정방법을 실행하는 전극소모보정처리의 프로차트,
제3도는 이 발명의 실시예 2에서의 전극소모보정방법의 원리를 설명하는 전극소모보정처리의 설명도,
제4도는 이 발명의 실시예 2에서의 전극소모보정방법을 실행하는 전극소모보정처리의 프로차트,
제5도는 이 발명의 실시예 3에서의 전극소모보정방법의 원리를 설명하는 전극소모보정처리의 설명도.

Claims (35)

  1. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축 방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소마의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량을 기억하는 스텝과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리가 상기 단위 이동거리에 도달할때마다 상기 Z축 방향에 소정의 보정이동량의 이송을 행하는 스텝에 의한 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  2. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축 방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량을 기억하는 기억수단과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리가 상기 단위이동거리에 도달할때마다 Z축방향에 소정의 보정이동량의 이송을 행하는 상대위치제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  3. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하며 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량장치과의 관계를 기억하는 스텝과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리가 단위이동거리에 도달할때마다 Z축 방향에 소정이동량의 이송을 행하는 스텝에 의한 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  4. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축 방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하며 NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 기억하는 기억수단과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리가 단위이동거리에 도달할때마다 Z축방향에 소정의 보정이동량의 이송을 행하는 상대위치제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  5. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간의 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공에 있어서, X-Y평면의 특정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 X-Y평면의 특정의 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량의 관계 X-Y평면의 특정의 단위이동거리와 각도로서 기어하는 스텝과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리가 단위이동거리에 도달할때마다 Z축방향에 소정의 보정이동량의 이송을 행하는 스텝에 의한 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  6. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 각도로서 기억하는 기억수단과, 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 이동거리와 단위 이동거리에 도달할때마다 Z축방향에 단위이동량의 이송을 행하는 상대위치이동수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  7. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간의 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, X-Y평면의 특정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계 및 Z축방향의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 기억하는 스텝과, X-Y평면의 단위이동거리와 Z축방향의 단위이동거리에 의거하여 보정된 X-Y평면의 소정의 단위이동거리를 계산한 스텝과, 가공중의 궤적이동이 X-Y평면에서의 보정된 단위이동거리에 도달할때마다 Z축방향의 소정이동량의 이송을 행하는 스텝에 의한 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  8. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간의 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계, 및 2축방향의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 2축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 기억하는 기억수단과, X-Y평면의 단위이동거리와 Z축방향의 단위이동거리에 의거하여 X-Y평면의 소정의 보정된 단위이동거리를 계산하고, 가공중의 궤적이동이 X-Y평면의 보정된 단위이동거리에 도달할때마다 Z축방향의 소정이동량의 이송을 행하는 상대위치제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  9. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y축방향에서 형성된 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계 및 Z축방향의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 기억하는 스텝과, X-Y평면의 단위이동거리와 Z축방향의 단위이동거리에 의거하여 가공중의 궤적이동에 있어서, X-Y평면에서의 단위이동거리가 X-Y평면의 단위이동거리에 도달할때마다, 그리고 가공중의 궤적이동에 있는 Z축방향의 소정의 단위이동거리에 도달할때마다, Z축방향의 소정이동량을 이송을 행하는 스텝에 의한 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  10. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축 방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, X-Y평면의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계, 및 Z축방향의 소정의 단위이동거리와 단위이동거리에 대한 Z축방향의 보정을 행하는 보정이동량과의 관계를 기억하는 기억수단과, X-Y평면의 단위이동거리와 Z축방향의 단위이동거리에 의거하여, 가공중의 궤적이동에 있어서 X-Y평면에서의 단위이동거리가 X-Y평면의 단위이동거리에 도달할 때마다, 또 가공중의 궤적이동에 있어서 Z축방향의 소정의 단위이동거리에 도달할때마다, Z축 방향의 소정이동량을 이송을 행하는 상대위치제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  11. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하고, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을 Z-Y평면의 이송과 합성하면서 상기 분할한 층마다에 가공을 진행하고, NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 각층마다의 툴패스의 X-Y데이터, X-Y축방향의 보증을 행하는 기준으로하는 보정기준구간 및 상기 보정기준구간에 대응하는 Z축방향의 단위이동거리를 기어가고, Z축방향의 이동량과 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 대응하는 Z축방향의 단위이동거리에서 결정되는 가공깊이에 의해, 상기 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하여, 상기 툴패스의 반복회수를 제어하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  12. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하고, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하면서 상기 분할된 층마다에 가공을 진행하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행함으로, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 상기 각층마다의 툴패스의 적어도 X-Y데이터, X-Y축방향의 보정을 행하는 기준으로 하는 보정기준구간 및 보정기준구간에 대응하는 Z축방향의 단위이동거리를 기억하는 기억수단과, 상기 층의 두께에 상당하는 량과 적어도 Z축방향의 단위이동거리와 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량의 결정하는 가공깊이에서 상기 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하며, 툴패스의 반복회수를 제어하는 회수제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  13. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하고, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하면서 상기 분할된 층마다에 가공을 진행하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 상기 층마다의 툴패스의 적어도 X-Y데이터, X-Y축방향의 보정을 행하는 기준으로 하는 보정기준구간 및 보정기준구간에 대응하는 Z축방향의 단위이동거리를 기억하고, 상기 층의 깊이에 상당하는 량과 적어도 Z축방향의 단위이동거리와 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 양에서 결정되는 가공깊이에 상당하는 량에서 상기 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하고, 상기 툴패스의 반복회수를 제어하면서 각층마다에 가공을 진행함과 동시에 반복하는 수의 도중 또는 반복하는 수의 종료후에 가공깊이를 계측하고, 계측치와 반복하는 수에 대하여 기대되는 가공깊이와를 비교하여, 비교치가 허용범위를 초월하여 있는 경우에는 남은 반복하는 수, 추가할 반복수, Z축방향의 단위이동거리, Z축방향의 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량, 전극소모량을 조정할 수 있는 전기조건의 1개 이상을 변경하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  14. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하고, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하면서 상기 분할된 층마다에 가공을 진행하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행하여 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 상기 층마다의 툴패스의 적어도 X-Y데이터를 기억하는 기억수단과, 상기 층의 두께에 상당하는 량과 적어도 Z축방향의 단위이동거리와 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량에서 결정되는 가공깊이에 상당하는 량에서 상기 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하고, 툴패스의 반복회수를 제어하는 회수제어수단과, 반복하는 수의 도중 또는 반복하는 수의 종료후에 가공깊이를 계측하는 계측수단과, 계측치와 반복하는 수에 대해서 기대되는 가공깊이와를 비교하며, 비교치가 허용범위를 초월하여 있는 경우에는, 나머지 반복하는 수, 추가할 반복하는 V수, Z축방향의 단위이동거리, Z축방향의 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량, 전기소모를 조절할 수 있는 전기조건의 1개 이상을 변경하는 전기조건제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  15. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하고, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하면서 상기 분할된 층마다에 가공을 진행하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 상기 층마다의 툴패스의 적어도 X-Y데이터를 기억하고, 층의 두께에 상당하는 량과 적어도 Z축방향의 단위이동거리와 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량에서 결정되는 가공깊이에 상당하는 량에서 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하여, 툴패스의 반복회수를 제어하면서 각층마다에 가공을 진행함과 동시에, 반복하는 수의 도중 또는 반복하는 수의 종료후에 가공깊이를 계측하고, 계측치와 반복하는 수에 대하여 기대되는 가공깊이와를 비교하여, 비교치가 허용범위를 초월하여 있는 경우에는 나머지의 반복하는 수, 추가할 반복하는 수, X-Y방향의 단위이동거리, X-Y방향의 단위이동거리에 대응하는 Z축방향의 이송량, Z축방향의 단위이동거리, Z축방향의 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당햐는 량, 전극소모량을 조절할 수 있는 전기조건의 1개 이상을 변경하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  16. 소망의 3차원형상을 Z축방향으로 몇개의 층으로 분할하여, 단순한 형상으로된 전극과 피가공물에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하면서 분할한 층마다에 가공을 진행하고, NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 상기 층마다의 툴패스의 적어도 X-Y데이터를 기억하는 기억수단과, 층의 두께에 상당하는 량과 적어도 Z축방향의 단위이동거리와 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량에서 결정되는 가공깊이에 상당하는 량에서 툴패스를 몇회반복하는가를 결정하고, 툴패스의 반복회수를 제어하는 회수제어수단과, 반복하는 수의 도중 또는 반복하는 수의 종료후에 가공깊이를 계측하는 계측수단과, 계측치와 반복하는 수에 대하여 기대되는 가공깊이와를 비교하여, 비교치가 허용범위를 초월하여 있는 경우에는 나머지의 반복하는 수, 추가될 반복하는 수, X-Y방향의 단위이동거리, X-Y방향의 단위이동거리에 대응하는 X-Y평면에서의 X-Y이동거리에 상당하는 량, 전기소모를 조절할 수 있는 전기조건의 1개 이상을 변경하는 전기조건제어수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  17. 단순한 형상으로 된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성함과 동시에, 적어도 1개종류의 툴패스의 반복이동을 제어하는 반복제어수단과, 가공액으로서 이온교환수를 극간에 공급하는 가공액공급수단과, 전극측이 부의 극성에서 고피크, 단펄스의 펄스전류를 극간에 공급하는 가공용전원과를 구비하고, 전극소모율 40% 이상의 소모가공조건에 의해 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  18. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 전극의 길이방향소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성함과 동시에, 적어도 1개종류의 툴패스의 반복이동을 제어하는 반복제어수단과, 가공액으로서 이온교환수를 극간에 공급하는 가공액공급수단과, 양극성전압을 극간에 인가함과 동시에, 전극부극성의 고피크, 단펄스의 펄스전류를 극간에 공급하는 가공용전원과를 구비하고, 전극소모율 40% 이상의 소모가공조건에 의해 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  19. 제17항 또는 제18항에 있어서, 고피크, 단펄스의 펄스전류를 극간에 공급하는 가공용전원은, 피크치 100A이상, 펄스폭 20㎲ 이하의 펄스전류를 사용하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  20. 제1항∼제19항 중의 어느 1개 항에 있어서, 단순한 형성으로된 전극은, 황동을 사용하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  21. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 가공형상에 있는 내부형상패스를 형성하는 내부가공패스와, 가공형상에 있는 윤곽형상패스를 형성하는 윤곽가공패스를 반복하여 이동하면서 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  22. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을 X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 가공형상에 있는 내부형상패스를 생성하는 내부가공패스 생성수단과, 가공형상에 있는 윤곽형상패스를 생성하는 윤곽가공패스생성수단을 구비하고, 내부형상패스와 윤곽형상패스를 반복하여 이동시키면서 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  23. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 가공형상에 있는 내부형상패스를 형성하는 내부가공패스 생성수단과, 가공형상에 있는 윤곽형상패스를 형성하는 윤곽패스생성수단과를 구비한 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  24. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하고, NC제어에 의하여 3차원제어를 행하여, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 가공형상에 있는 윤곽형상패스를 순차로 축소 또는 내측으로 변경하면서 반복하여 가공을 함으로써, 임의 각도의 측면을 각인 가공형상의 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  25. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 가공형상에 있는 윤곽형상패슬, 오프셋(off set)정보를 갖은 프로그램으로서 기억하는 오프셋프로그램기억수단과, 가공중에 변경하는 복수의 오프셋치를 기억하는 오프셋치기억수단과를 구비하고, 오프셋치를 순차변경하면서 반복가공함으로서 임의 각도의 측면을 갖은 형상의 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  26. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 가공형상에 있는 윤곽형상패스를, 오프셋정보를 갖은 프로그램으로서 기억하는 오프셋프로그램기억수단과, 측면형상의 정보를 기억하는 측면형상기억수단과, 가공중에 변경하는 오프셋치를 상기 측면형상의 정보에 의거하여 계산하는 오프셋치계산수단과를 구비하고, 오프셋치계산수단의 계산결과에서 오프셋치를 순차변경하면서 반복가공함으로써 임의의 각도의 측면을 갖은 형상의 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  27. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 전극을 그의 전극회전축에 대해서 소정의 각도로 경사시킨 상태에서 고정하는 전극보지수단과, 전극소모량을 가변으로하는 가공용전원을 구비하고, 전극을 소정의 각도로 경사시킨 상태에서 회전시키면서 소망형상의 가공을 윤곽가공함으로서, 일정구배를 갖은 측면형상을 가공형성하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  28. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 원주형전극 또는 파이프형 전극에서 반경R의 인코너부분의 가공을 행한후에, 4각형전극의 1변의 길이 L이, L≤(1-1/2).R로 되는 4각형전극에서 원주형전극 또는 파이프형전극에서 잉여코너부분의 마무리를 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  29. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의헤 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 원주형전극 또는 파이프형 전극에서 반경 R의 인코너부분의 가공을 행한후에, 반경이 R'≤(1-1/2)·R으로 되는 마무리가공용의 원주형전극 또는 파이프형전극에서, 앞의 원주형전극 또는 파이프형전극에서 잉여코너부분의 마무리를 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  30. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여 NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공방법에 있어서, 원주형전극 또는 파이프형전극에서 반경 R의 인코너부분이 가공을 행한후에, 액체구멍부분의 일부가 원주형전극 또는 파이프형전극에서 잉여코너부분을 덮는 형상의 원주형전극 또는 파이프형전극에서 원주형전극 또는 파이프형전극에서 잉여코너부분의 마무리를 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공방법.
  31. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여, NC제어에 의하여 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 복수의 전극을 교환하는 전극교환수단과, 현재가공하고 있는 위치가 코너부인가 아닌가를 판별하는 코너부판별수단과, 코너부분에 있어서는 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을 X-Y평면이송과 합성하면서 경사방향으로 가공을 행하고, 코너부이외의 부분에서는 X-Y평면이송만을 행하도록 제어하는 상대위치제어수단을 구비하고, 원주형전극 또는 파이프형전극에서 가공을 행한후에 전극을 마무리용 전극으로 교환하고, 상대위치제어수단의 지령에 의거하여 코너부의 마무리가공을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  32. 단순한 형상으로된 전극과 피가공물간에 전압을 인가함과 동시에, 전극의 길이방향 소모량을 보정하는 Z축방향의 이송을, X-Y평면의 이송과 합성하여, NC제어에 의해 3차원제어를 행하고, 소망의 3차원형상을 가공하는 방전가공장치에 있어서, 가공중에 있는 방전빈도의 저하 또는 평균가공전압의 상승등에 의하여 극간이 오픈상태인 것을 검출하는 극간검출수단을 보유하고, 극간검출수단에 의해 극간이 오픈상태 또는 그에 가까운 경우에는, Z방향의 이송을 정지하고, X-Y평면의 이송만을 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  33. 제31항 또는 제32항에 있어서, 상기 극간제어수단은, 코너부이외의 부분이 수평방향이동을 정상적 가공이송보다도 고속으로 행하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  34. 제31항 또는 제32항에 있어서, 상기 한 코너부이외의 부분의 수평방향 이동속도의 저하를 검출하는 이동속도검출수단과, 이동속도검출수단의 검출결과에서 코너부 마무리용 전극이 거치는 가공을 저면에 도달한 것을 판별하는 코너부판별수단을 구비하고, 코너부판별수단에 의해 마무리가공의 종료시기를 판별하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
  35. 제31항 또는 제32항에 있어서, 가공중의 방전빈도의 중대 또는 평균가공전압의 하강을 검출하는 극간검출수단과, 극간검출수단의 검출결과에서 코너마무리용 전극이 거치는 가공에 의해 저면에 도달한 것을 판별하는 코너부판별수단을 구비하고, 코너부판별수단에 의해 마무리가공의 종료시기를 판별하는 것을 특징으로 하는 방전가공장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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