KR960015779A - 전기분해를 이용한 고순도 물의 제조방법 및 제조장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 웨이퍼와 같은 매우 청정한 표면을 얻는 것이 요구되는 피세정물의 세정용수에 이용되는 고순도 물의 제조에 관한 것으로서, 1차 순수처리계, 1차 순수탱크 1차 순수에서 고순도 들을 제조하는 2차 순수처리계, 제조된 고순도 물을 1차 순수탱크로 되돌리는 순환계배관, 이 순환계에서 분기되어 사용포인트에 고순도 물을 송수하는 분기송수계를 구비하며, 순환계의 도중에 고순도 물을 전기분해 처리한 아노드수를 제조하는 전기분해 장치를 바이패스하여 설치하고, 사용포인트로의 분기부보다도 하류측의 순환계배관에 이 아노드수를 연속하여 흐르게 하는 것을 특징으로 한다,
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에서 이루어지는 초순수 제조장치의 실시예 1의 구성개요를 나타낸 설명 블럭도,
제2도는 본 발명에서 이루어지는 초순수 제조장치의 실시예 2의 구성개요를 나타낸 설명 블럭도,
제3도는 본 발명에서 이루어지는 초순수 제조장치의 실시예 3의 구성개요를 나타낸 설명 블럭도,
제4도는 본 발명에서 이루어지는 초순수 제조장치의 실시예 4의 구성개요를 나타낸 설명 블럭도.
Claims (20)
- (A) 원수에 포함되어 있는 현탁물질(suspended solids)을 제거하는 전처리(pretreatmant)공정; (B) 상기 전처리공정에서 얻어진 전처리수에서 이온 및 비이온성 물질을 제거하는 1차 순수처리(primary dafonize)공정; (C) 1차순수처리공정에서 얻어진 1차순수에 대해서 이온교환 및 막처리를하는 2차순수처리공정; (D) 1차 순수처리가 끝난 1차 순수 또는 2차 순수처리중의 처리수에 대해서 전기분해처리를 하여 세정용 전해수를 생성하는 전해수 생성공정을 갖는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 전해수 생성공정은 1차 순수처리에 의해 얻어진 1차 순수를 전기분해 하므로써 실시되고, 얻어진 전해수를 이용하여 2차 순수처리에 사용되는 설비의 일부를 세정하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 전해수 생성공정은 2차 순수처리에 있어서 얻어진 2차 순수를 전기분해 하므로써 실시되고, 얻어진 전해수를 이용하여 2차 순수처리에 사용되는 설비의 일부를 세정하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 전해수 생성공정은 2차 순수처리공정을 중지하여 실시하고, 얻어진 전해수를 이용하여 2차 순수처리에 사용되는 설비의 일부를 세정하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조방법.
- (A) 원수에 포함되는 현탁물질을 제거하는 전처리장치; (B) 이 전처리장치에서 얻어진 전처리수에서 이온 및 비이온성 물질을 제거하는 1차 순수처리장치; (C) 1차 순수처리장치에서 얻어진 1차 순수에 대해서 이온교환 및 막처리를 하는 2차 순수처리장치; 및 (D) 1차 순수처리가 끝난 처리수에 대해서 전기분해처리를 하여 전해수를 생성하는 전기분해장치를 포함하고, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 전해수를 2차 순수처리장치의 일부에 공급하여 2차 순수처리장치에 일부를 세정하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항에 있어서, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 전해수인 아노드수와 캐소드수를 세정대상인 2차 순수처리장치에 번갈아서 공급하는 전환장치를 갖는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항에 있어서, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 전해수인 아노드수와 캐소드수 중 어느 하나를 세정대상인 2차 순수처리장치에 공급하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제7항에 있어서, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 전해수인 아노드수에 의해 세정대상인 2차 순수처리장치를 세정하고, 얻어진 세정 배수에 캐소드수를 혼합하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제7항에 있어서, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 전해수인 캐소드수에 의해 세정대상인 2차 순수처리장치를 세정하고, 얻어진 세정 배수에 아노드수를 혼합하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전기분해장치는 1차 순수를 원수로 하여 전기분해를 하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전기분해장치는 2차 순수를 원수로 하여 전기분해를 하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제11항에 있어서, 2차 순수의 일부를 2차 순수처리장치의 전단으로 순환하는 순환배관을 더 갖고, 상기 전기분해장치는 이 순환배관내의 2차 순수를 원수로 하여 전기분해를 하여 얻어진 전해수를 순환배관에 의해 2차 순수처리장치의 전단으로 순환하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 2차 순수처리장치는 자외선 조사장치를 갖고, 상기 전기분해장치에 의해 얻은 아노드수를 이 자외선 조사장치에 공급하여 자외선 조사장치를 세정하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제13항에 있어서,2차 순수의 일부를 2차 순수처리장치의 전단으로 순환하는 순환배관을 더 갖고, 상기 전기분해장치는 이 순환배관내의 2차 순수를 원수로 하여 전기분해를 하여 얻어진 아노드수를 상기 자외선 조사장치에 공급하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제13항에 있어서, 상기 2차 순수처리장치는 자외선 조사장치의 전단으로 탈산소장치를 갖는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제15항에 있어서, 상기 탈산소장치는 전기분해장치에서 얻어진 캐소드를 자외선 조사장치의 처리수와 혼합하는 혼합장치와, 이 혼합장치의 전후로 설치된 수소화 촉매에 의한 수소화 처리장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 전기분해장치는 전기분해를 하는 원수에 대해서 전해질을 첨가하여 전기분해하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 1차 순수처리장치는 이온교환처리를 하는 이온교환장치와, 이 이온교환장치를 바이패스하는 바이패스로를 갖고, 전해수를 2차 순수처리장치에 공급합 때는 전해수를 상기 바이패스로에 흐르게 하고 이온교환장치를 바이패스하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전기분해장치는 아노드가 수용되는 아노드실과, 캐소드가 수용되는 캐소드실과, 이 아노드실과 캐소드실의 중간에 위치하는 중간실을 갖고, 아노드실과 중간셀과의 사이 및 캐소드실과 중간실과의 사이는 이온교환막으로 구분되어 있으며, 적어도 중간실에는 이온교환수지가 충진되어 있고, 아노드는 아노드실내에 있어서 중간실과의 사이에 설치된 이온교환막과 접하고 있으머, 캐소드는 캐소드실내에 있어서 중간실과의 사이에 설치된 이온교환막과 접하는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치.
- 제5항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전기분해장치는 전기분해하여 얻은 전해수를 여과하는 필터를 갖는 것을 특징으로 하는 고순도 물의 제조장치,※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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WO1999028238A1 (en) | 1997-12-04 | 1999-06-10 | Steris Corporation | Chemical modification of electrochemically activated water |
US6021791A (en) | 1998-06-29 | 2000-02-08 | Speedfam-Ipec Corporation | Method and apparatus for immersion cleaning of semiconductor devices |
US6146468A (en) * | 1998-06-29 | 2000-11-14 | Speedfam-Ipec Corporation | Semiconductor wafer treatment |
US6458257B1 (en) | 1999-02-09 | 2002-10-01 | Lynntech International Ltd | Microorganism control of point-of-use potable water sources |
DE19912109A1 (de) * | 1999-03-18 | 2000-09-21 | Uwatech Gmbh | Verfahren zum Reinigen, Entkeimen u. Anreichern von Wasser mit Sauerstoff |
JP4583530B2 (ja) * | 1999-03-19 | 2010-11-17 | オルガノ株式会社 | 熱交換用水及びその供給装置 |
JP2001104995A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-04-17 | Teeiku Wan Sogo Jimusho:Kk | 電解法によりオゾンを生成する方法、電解式オゾン生成装置、オゾン水製造装置 |
US6357454B1 (en) * | 1999-11-03 | 2002-03-19 | Jyonan Electric Industrial Co., Ltd. | Method for washing and sterilizing beer supply pipe |
DK200000274U3 (da) * | 2000-09-12 | 2000-12-22 | Adept Technologies As | Kompakt vandkonditioneringsapparat. |
DE50100049D1 (de) * | 2001-03-29 | 2002-12-12 | Cs Clean Systems Ag | Vorratsbehälter für flüssige, hochreine Substanzen mit einer Einrichtung zur Reinigung der Anschlussstücke und Rohrleitungen des Vorratsbehälters |
JP5140218B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2013-02-06 | 有限会社コヒーレントテクノロジー | 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法 |
JP2003136077A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-05-13 | Nec Corp | 半導体製造に用いる洗浄水又は浸漬水の製造装置 |
JP3988827B2 (ja) * | 2001-12-05 | 2007-10-10 | オキュラス イノヴェイティヴ サイエンシズ、インコーポレイテッド | 負および正の酸化還元電位(orp)水を生成するための方法および装置 |
AU2012201437B2 (en) * | 2001-12-05 | 2012-10-11 | Microsafe Group Dmcc | Method and apparatus for producing negative and positive oxidative reductive potential (ORP) water |
JP4109455B2 (ja) * | 2002-01-15 | 2008-07-02 | オルガノ株式会社 | 水素溶解水製造装置 |
JP4250922B2 (ja) * | 2002-07-29 | 2009-04-08 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システム |
US20040203166A1 (en) * | 2003-04-11 | 2004-10-14 | Sullivan John Timothy | Electrolysis apparatus and method utilizing at least one coiled electrode |
JP2004346390A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 電解ガス発生方法及び電解ガス発生装置 |
US20050196462A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-09-08 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Topical formulation containing oxidative reductive potential water solution and method for using same |
US9168318B2 (en) | 2003-12-30 | 2015-10-27 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Oxidative reductive potential water solution and methods of using the same |
US20050139808A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-06-30 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Oxidative reductive potential water solution and process for producing same |
US6991733B2 (en) * | 2004-05-25 | 2006-01-31 | Industrial Technology Research Institute | Process for removing organics from ultrapure water |
US20080302651A1 (en) * | 2004-08-11 | 2008-12-11 | Miz Co., Ltd. | Performance Maintaining Method For Electrolyzed Functional Water Generating Apparatus |
AU2006226750B2 (en) * | 2005-03-23 | 2012-07-19 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of treating skin ulcers using oxidative reductive potential water solution |
DE102005019700A1 (de) * | 2005-04-22 | 2006-12-21 | Eisenmann Maschinenbau Gmbh & Co. Kg | Oberflächenbehandlungsanlage |
MX2007013774A (es) | 2005-05-02 | 2008-01-29 | Oculus Innovative Sciences Inc | Metodo para utilizar solucion de agua con potencial oxido reductor en aplicaciones dentales. |
US20060266381A1 (en) * | 2005-05-27 | 2006-11-30 | Doherty James E | Commercial glassware dishwasher and related method |
DE102005043435B4 (de) * | 2005-09-13 | 2010-11-11 | W.E.T. Wasser Energie Technologie Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasser mittels Magnetseparation |
CA2637178C (en) * | 2006-01-20 | 2018-09-04 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Methods of preventing or treating sinusitis with oxidative reductive potential water solution |
US10343939B2 (en) | 2006-06-06 | 2019-07-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
US7754064B2 (en) * | 2006-09-29 | 2010-07-13 | Eltron Research & Development | Methods and apparatus for the on-site production of hydrogen peroxide |
US9725343B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-08-08 | Evoqua Water Technologies Llc | System and method for measuring and treating a liquid stream |
GB0709109D0 (en) * | 2007-05-11 | 2007-06-20 | Enpar Technologies Inc | Wastewater ammonium extraction and electrolytic conversion to nitrogen gas |
JP4335968B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-09-30 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法及びその金属微粒子を含む金属コロイド溶液 |
US7585679B1 (en) | 2008-02-22 | 2009-09-08 | Dionex Corporation | Ion chromatography system with flow-delay eluent recycle |
CN102480972B (zh) | 2009-06-15 | 2014-12-10 | 奥古露丝创新科学公司 | 含有次氯酸的溶液及其使用方法 |
DE102009051489A1 (de) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Betrieb eines Wasseraufbereitungssystems sowie zur Durchführung des Verfahrens geeignetes Wasseraufbereitungssystem |
CN101921029B (zh) * | 2009-12-21 | 2014-06-18 | 波鹰(厦门)科技有限公司 | 纳米催化微电解水净化消毒装置及其方法 |
US9688550B2 (en) * | 2010-08-09 | 2017-06-27 | Aqua Vectors, Incorporated | Electrolytic apparatus and method for treating water to remove nitrates, phosphates, arsenates, and molecules of high molecular weight |
KR20130040627A (ko) * | 2011-10-14 | 2013-04-24 | 삼성전자주식회사 | 전해 환원수 제조장치 |
CN103160849B (zh) * | 2011-12-12 | 2016-06-08 | 清华大学 | 二氧化碳电化学还原转化利用的方法 |
GB201210456D0 (en) * | 2012-06-13 | 2012-07-25 | Vws Uk Ltd | Method and system for providing purified water |
FR2995540B1 (fr) * | 2012-09-20 | 2014-11-21 | Total Sa | Unite sous-marine de traitement de l'eau et procede de nettoyage de ladite unite |
GB2516957A (en) | 2013-08-08 | 2015-02-11 | Intelligent Energy Ltd | Coolant purification |
US11004674B2 (en) * | 2013-09-25 | 2021-05-11 | Organo Corporation | Substrate treatment method and substrate treatment equipment |
US11090606B2 (en) | 2013-12-05 | 2021-08-17 | Dionex Corporation | Gas-less electrolytic device and method |
JP6400918B2 (ja) * | 2014-02-18 | 2018-10-03 | オルガノ株式会社 | 水素溶解水製造装置及び純水製造システム |
US9630863B2 (en) * | 2014-03-28 | 2017-04-25 | Neptune-Benson, Llc | Advanced oxidation system and method in a UV reactor with electrode |
US10494281B2 (en) | 2015-01-21 | 2019-12-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
US11161762B2 (en) | 2015-01-21 | 2021-11-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
CN109475674B (zh) * | 2016-07-27 | 2021-01-15 | 日本多宁股份有限公司 | 透析液制造装置的清洗方法 |
RU176546U1 (ru) * | 2017-08-08 | 2018-01-23 | Общество с ограниченной ответственностью "Делфин Аква" | Устройство для электрохимической обработки воды |
KR102068268B1 (ko) * | 2018-08-31 | 2020-01-20 | 수소탑스 주식회사 | 미세먼지와 미생물을 제거 및 수소발생을 통한 항산화 가습기 |
CN109052588B (zh) * | 2018-08-31 | 2019-10-29 | 山东科技大学 | 一种基于电渗析技术的海藻提取物中重金属离子的脱除方法及其装置 |
CN111392913A (zh) * | 2020-04-24 | 2020-07-10 | 莱特莱德(北京)环境技术股份有限公司 | 一种pvc离心母液废液深度处理的系统及方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828660A (en) * | 1986-10-06 | 1989-05-09 | Athens Corporation | Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids |
EP0605882B1 (en) * | 1993-01-08 | 1996-12-11 | Nec Corporation | Method and apparatus for wet treatment of solid surfaces |
JP3321256B2 (ja) * | 1993-07-30 | 2002-09-03 | ミズ株式会社 | 貯水式電解水生成装置 |
JP2830733B2 (ja) * | 1994-03-25 | 1998-12-02 | 日本電気株式会社 | 電解水生成方法および電解水生成機構 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP6265808A patent/JPH08126886A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-27 US US08/548,986 patent/US5720869A/en not_active Expired - Lifetime
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KR100238517B1 (ko) | 2000-01-15 |
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