KR960014194A - 테트라메틸피페리딘 측쇄를 함유하는 중합체, 이를 포함하는 조성물 및 그의 안정화제로서의 용도 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기 일반식(Ⅴ) 및/또는 (Ⅵ)의 에스테르 또는 페놀 에테르 및 50몰%이하의 기타 에틸렌성 불포화 화합물을 중합반응시키는 것에 의해 수득할 수 있는 화합물에 관한 것이다 :
식 중에서, m 및 n은 서로 독립해서 0 또는 1이고; A는 -CH2- 또는 -CO-이며; A가 메틸렌이면, E는이고, 또 A가 카르보닐이면, E는이며; R1은 수소이고; R2는 수소; -N(R13)R14; C1-C50알콕시; 중간에 -O-, -S-, -CO-N(R17)-, -N(R17)-CO- 또는 -NR11-를 포함하거나 및/또는 C5-C8시클로알킬렌 또는 페닐렌기를 포함하거나 및/또는 1 내지 3개의 삼차 히드록시기를 함유하는 C2-C50알콕시; C5-C12시클로알콕시; 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 페녹시; 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 페녹시; 또는 C7-C20아르알콕시이거나; 또는 R1및 R2는 합쳐져서 =O 치환기를 형성하거나; 또는 이들이 결합된 탄소원자와 합쳐져서 일반식
의 5- 또는 6-원 고리를 형성하며; R3은 수소; 비치환되거나 또는 C5-C8시클로알킬 또는 -CO-N(R17)2에 의해 치환되거나 또는 지방족 부분중의 중간에 C5-C8시클로알킬렌, -CO-N(R17)- 또는 N(R17)-CO- 또는 산소 또는 황을 포함하거나 또는 방향족 부분에서 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C1-C36알킬, C1-C36알콕시, C7-C36아르알킬 또는 C7-C36아르알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시; -CO-R11; 또는 각각 C1-C4알킬에 의해 치환된 벤조일 또는 나프토일이고; R4및 R5는 서로 독립해서 수소; C1-C18알킬; 페닐; 또는 C7-C9페닐 알킬이거나; 또는 R4또는 R5중의 한개는 부가적으로 염소이고; R6은 염소를 제외한 R4및 R5에 정의된 의미중의 하나이거나; 또는 기 X에 대한 직접결합이거나; 또는 일반식 -X-(CO)m-Z4또는 -X-(CO)n-Z5의 기이며; R11은 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐; 나프틸; C7-C9페닐알킬; 또는 C11-C14나프틸알킬이고; R12는 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐 또는 벤질이며; R13및 R14는 서로 독립해서 C1-C50알킬; 또는 중간에 -O-, -S-, -CO-N(R17)-, -N(R17)-CO- 또는 -NR11- 및/또는 C5-C8시클로알킬렌 또는 페닐렌을 포함하거나 및/또는 1 내지 3개의 삼차 히드록시기를 함유하는 C2-C50알킬; 또는 비치환되거나 또는 1 내지 4개의 -R12에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치호나되거나 또는 1 내지 4개의 -R12는 라디칼에 의해 치환된 페닐; 또는 C7-C20아르알킬이거나; 또는 R13및 R14는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 4 내지 6개의 탄소원자를 함유하는 고리 구조인 일반식의 고리상 이미드를 형성하고; R15및 R16은 서로 독립해서 H; 또는 C1-C12알킬이거나; 또는 합쳐져서 직쇄의 α, ω-연결된 C4-C13알킬렌을 형성하며; R17은 수소 또는 R11의 의미중의 하나를 가지고; R18은 C2-C18알킬렌이며; X는, R6이 기 X에 대한 직접결합이면, 삼가 기이고, 이때 2개의 카르보닐기상에 위치하는 자유 가는 중합체 사슬의 인접 탄소원자와 결합하며; 또 X는, R6이 기 X에 대한 직접 결합이 아니고 또 m=0 또는 n=0인 경우, 페닐렌이거나 또는 -Z4또는 -Z5에 의해 치환된 페닐렌이고; 또 X는, R6이 기 X에 대한 직접 결합이 아니고 또 m=1 또는 n=1인 경우, 직접결합; C1-C4알킬렌; 페닐렌; 또는 -Z2-Z3-이고, 이때 Z2는 중합체 사슬의 탄소원자에 결합되며; Z1은 페닐렌이고, Z2는 -O- 또는 페닐렌이며; Z3은 C1-C8알킬렌이고; Z4는 일반식(Ⅰa)
의 기이며; 또 Z5는 일반식(Ⅱa)
의 기임.
본 발명에 따른 동종증합체 및 공중합체는 광, 산소 및/또는 열의 유해작용으로 부터 유기 중합체를 안정화시키기 위해 유리하게 사용될 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (17)
- 테트라메틸피페리딘 측새를 함유하고 또 50 내지 100몰%의 하기 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체를 포함하는 중합체 :식 중에서, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 동종중합체 또는 공중합체의 분자량 Mn은 600 내지 600,000g/몰이고, 하기에 정의된 k는 2 또는 3의 수이며; m 및 n은 서로 독립해서 0 또는 1이고; A는 -CH2- 또는 -CO-이며; A가 메틸렌이면, E는이고, 또 A가 카르보닐이면, E는이며, R1은 수소이고; R2는 수소; -N(R13)R14; C1-C50알콕시; 중간에 -O-, -S-, -CO-N(R17)-, -N(R17)-CO- 또는 -NR11-를 포함하거나 및/또는 C5-C8시클로알킬렌 또는 페닐렌기를 포함하거나 및/또는 1 내지 3개의 삼차 히드록시기를 함유하는 C2-C50알콕시; C5-C12시클로알콕시; 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 페녹시; 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 페녹시; 또는 C7-C20아르알콕시이거나; 또는 R1및 R2는 합쳐져서 =O치환기를 형성하거나; 또는 이들이 결합된 탄소원자와 합쳐져서 일반식의 5- 또는 6-원 고리를 형성하며; R3은 수소; 비치환되거나 또는 C5-C8시클로알킬 또는 -CO-N(R17)2에 의해 치환되거나 또는 지방족 부분중의 중간에 C5-C8시클로알킬렌, -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO- 또는 산소 또는 황을 포함하거나 또는 방향족 부분에서 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C1-C36알킬, C1-C36알콕시, C7-C36아르알킬 또는 C7-C36아르알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시; -CO-R11; 또는 각각 C1-C4알킬에 의해 치환된 벤조일 또는 나프토일이고; R4및 R5는 서로 독립해서 수소; C1-C18알킬; 페닐; 또는 C7-C9페닐알킬이거나; 또는 R4또는 R5중의 한개는 부가적으로 염소이고; R6은 염소를 제외한 R5및 R5에 정의된 의미중의 하나이거나; 또는 기 X에 대한 직접결합이거나; 또는 일반식 -X-(CO)m-Z4또는 -X-(CO)n-Z5의 기이며; R11은 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐; 나프틸; C7-C9페닐알킬; 또는 C11-C14나프틸알킬이고; R12는 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐 또는 벤질이며; R13및 R14는 서로 독립해서 C1-C50알킬; 또는 중간에 -O-, -S-, -CO-N(R17)-, -N(R17)-CO- 또는 -NR 및/또는 C5-C8시클로알킬렌 또는 페닐렌을 포함하거나 및/또는 1 내지 3개의 삼차 히드록시기를 함유하는 C2-C50알킬; 또는 비치환되거나 또는 1 내지 4개의 -R12에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환되거나 또는 1 내기 4개의 -R12는 라디칼에 의해 치환된 페닐; 또는 C7-C20아르알킬이거나; 또는 R13및 R14는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 4 내지 6개의 탄소원자를 함유하는 고리 구조인 일반식의 고리상 이미드를 형성하고; R15및 R16은 서로 독립해서 H; 또는 C1-C12알킬이거나; 또는 합쳐져서 직쇄의 α, ω-연결된 C4-C13알킬렌을 형성하며; R17은 수소 또는 R11의 의미중의 하나를 가지고; R18은 C2-C18알킬렌이며; X는, R6이 기 X에 대한 직접결합이면, 삼가 기이고, 이때 2개의 칼보닐기상에 위치하는 자유 가는 중합체 사슬의 인접 탄소원자와 결합하며; 또 X는, R6이 기 X에 대한 직접 결합이 아니고 또 m=0 또는 n=0인 경우, 페닐렌이거나 또는 -Z4또는 -Z5에 의해 치환된 페닐렌이고; 또 X는, R6이 기 X에 대한 직접 결합이 아니고 또 m=1 또는 n=1인 경우, 직접결합; C1-C4알킬렌; 페닐렌; 또는 -Z2-Z3-이고, 이때 Z2는 중합체 사슬의 탄소원자에 결합되며; Z1은 페닐렌이고, Z2는 -O- 또는 페닐렌이며; Z3은 C1-C8알킬렌이고; Z4는 일반식(Ⅰa)의 기이며; 또 Z5는 일반식(Ⅱa)의 기임.
- 제1항에 있어서, 50 내지 100몰%의 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 및 0 내지 50몰%의 하기 일반식(Ⅲ)의 구조 단위체를 포함하는 동종중합체 또는 공중합체 :식 중에서, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 분자량 Mn은 1,000 내지 300,000g/몰이고, 또 R7, R8및 R9는 서로 독립해서 수소; -Cl, C1-C18알킬; 페닐; 1 내지 3개의 -Cl, C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 페닐; 또는 C7-C9페닐알킬이며; R10은 R7, R8및 R9에 주어진 의미중의 하나이거나; 또는 -CN, C1-C12알콕시카르보닐; C1-C12알칸오일옥시; C1-C12알콕시; 또는 일반식(Ⅳa) 또는 (Ⅳb)의 기이고, m 및 n은 각각 0 또는 1이며; D는 -O- 또는 -NR11-이고, R1, R2, R3및 R11는 상기 정의한 바와 같으며; Z6은 직접결함, C1-C6알킬렌 또는 일반식 -CH2-CH2-(O-CH2CH2)h-의 폴리옥시에틸렌이고, 이때 h는 1 내지 30의 정수이고; 또 Z7은 C1-C8알킬렌 또는 일반식 -CH2-CH2-(O-CH2-CH2)h-의 폴리옥시에틸렌이며, 이때 h는 1 내지 30의 정수임.
- 제2항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 구조 단위체로 구성된 동종중합체의 분자량 Mn이 1,000 내지 300,000g/몰이고, 일반식(Ⅱ)의 구조 단위체로 구성된 동종중합체의 분자량 Mn이 1,000 내지 30,000g/몰이며 또 공중합체의 분자량 Mn이 1,000 내지 100,000g/몰인 동종중합체 또는 공중합체.
- 제1항에 있어서, A가 메틸렌이고 또 E가 일반식의 기이며; R1이 수소이고; R2가 수소; -N(R13)R14; C1-C18알콕시; 중간에 -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO-를 포함하는 C4-C36알콕시; 비치환되거나 또는 -R12에 의해 치환된 C5-C8시클로알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 페녹시; 또는 C7-C12아르알콕시이거나; 또는 R1및 R2는 합쳐져서 =O 치환기이거나, 또는 이들이 결합된 탄소원자와 합쳐져서 일반식의 5- 또는 6-원 고리를 형성하며; R3은 C1-C36알킬; C1-C36알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 페닐; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 나프틸; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 페녹시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 나프톡시; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C7-C12페닐알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼에 의해 치환된 C7-C12페닐알콕시; -CO-R11이거나; 또는 각각 C1-C4알킬에 의해 치환된 벤조일 또는 나프토일이며; R4, R5및 R6는 서로 독립해서 수소; C1-C18알킬; 페닐; 또는 C7-C9페닐알킬이거나; 또는 R4또는 R5중의 한개는 부가적으로 -Cl이고; R11은 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐; 또는 C7-C9페닐알킬이고; R12는 C1-C18알킬; C5-C7시클로알킬; 페닐 또는 벤질이며, R13및 R14는 서로 독립해서 C1-C18알킬; 또는 중간에 -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO-를 포함하는 C4-C36알킬; 비치환되거나 또는 -R12에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 4개의 -R12라디칼에 의해 치환된 페닐; 또는 C7-C12아르알킬이고; R15및 C16은 서로 독립해서 H; 또는 C1-C12알킬이거나; 또는 합쳐져서 직쇄의 α, ω-연결된 C4-C13알킬렌을 형성하며; R17은 수소 또는 R11의 의미중의 하나를 가지고; X는 m=0 또는 n=0인 경우, 페닐렌이거나 또는 5-위치에서 -Z4또는 -Z5에 의해 치환된 1,3-페닐렌이고; 또 X는, m=1 또는 n=1인 경우, 직접결합; C1-C4알킬렌; 페닐렌; 또는 -Z2-Z3-이고, 이때 Z2는 중합체 사슬의 탄소원자에 결합된 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 50 내지 100몰%를 포함하는 동종중합체 또는 공중합체.
- 제4항에 있어서, A가 메틸렌이고 또 E가 일반식의 기이며; R2가 -N(R13)R14; 또는 C2-C18알콕시; 중간에 -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO-를 포함하는 C4-C36알콕시; 또는 C7-C12아르알콕시이거나; 또는 R1및 R2는 합쳐져서 =O 치환기이고; R3은 C1-C12알킬; C4-C18알콕시; C5-C8시클로알킬; C5-C8시클로알콕시; C7-C12페닐알킬; C7-C12페닐알콕시; 또는 -CO-R11이며; R4, R5및 R6라디칼중의 2개는 수소이고 나머지 한개는 수소; C1-C4알킬; 페닐; 또는 C7-C12페닐알킬이고; R11은 C1-C18알킬; 시클로헥실; 페닐; 또는 C7-C9페닐알킬이며; R13및 R14는 서로 독립해서 C2-C18알킬; 중간에 -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO-를 포함하는 C4-C36알킬; 또는 C7-C12아르알킬이고; R17은 수소 또는 R11의 의미중의 하나를 가지고; X는 m=0 또는 n=0인 경우, 페닐렌이고; 또 X는, m=1 또는 n=1인 경우, 직접결합; C1-C4알킬렌 또는 페닐렌인 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 50 내지 100몰%를 포함하는 동종중합체 또는 공중합체.
- 제5항에 있어서, A가 메틸렌이고 또 E가 일반식의 기이며; R2가 C4-C18알콕시; 중간에 -CO-N(R17)- 또는 -N(R17)-CO-를 포함하는 C4-C36알콕시; 또는 C7-C12아르알콕시; 또는 -N(R13)R14이거나; 또는 R1및 R2는 합쳐져서 =O 치환기이고; R3은 C1-C8알킬; C4-C12알콕시; 시클로헥실; 시클로헥실옥시; 벤질; 벤조옥시; 또는 벤조일이며 R4, R5및 R6라디칼중의 2개는 수소이고 나머지 한개는 수소; 메틸; 또는 페닐이고; R13및 R14는 서로 독립해서 C2-C12알킬이며; X는, m=0 또는 n=0인 경우, 페닐렌이고; 또 X는, m=1 또는 n=1인 경우, 직접결합; 또는 페닐렌인 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 50 내지 100몰%를 포함하는 동종중합체 또는 공중합체.
- 제6항에 따른 동종중합체.
- 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 :식중에서, E, A, R4, R5, R6, m 및 X는 제1항에 정의되어 있다.
- (a) 광, 산소 및/또는 열에 민감한 유기 중합체 및 (b) 안정화제로서, 제1항에 따른 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체를 포함하는 중합체를 포함하는 조성물.
- 제9항에 있어서, 성분 (a)가 폴리올레핀 또는 아크릴, 알키드, 폴리우레탄, 폴리에스테르 또는 폴리아미드 수지 또는 상응하게 변형된 수지를 기본한 표면코팅 결합제인 조성물.
- 제9항에 있어서, 성분 (a) 및 (b)이외에 통상의 첨가제를 포함하는 조성물.
- 제9항에 있어서, 조성물의 중량을 기준하여 0.01 내지 10중량%의 성분 (b)를 포함하는 조성물.
- 제1항에 따른 안정화제인 중합체 또는 공중합체를 유기 중합체와 혼합하는 것을 포함하는, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상으로 부터 유기물질을 안정화시키기 위한 방법.
- 광 산소 및/또는 열에 의한 손상으로 부터 유기물질을 안정화시키기 위한 제1항에 따른 중합체 또는 공중합체의 용도.
- 제1항에 따른 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 0.01 내지 5몰%를 포함하는 광, 산소 및/또는 열의 유해작용으로 부터 보호되는 중합체.
- 제1항에 따른 일반식(Ⅰ) 및/또는 (Ⅱ)의 구조 단위체 2 내지 20몰%를 포함하는 그라프트 공종합체.
- 제8항에 따른 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물 또는 일반식(Ⅴ)와 (Ⅵ)의 화합물의 혼합물 또는 50몰% 이하의 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물과 혼합물 일반식(Ⅴ) 및 (Ⅵ)의 화합물중의 한개를 유리 라디칼 중합반응시키는 것을 포함하는 제1항에 따른 중합체의 제조방법 :식중에서, R3, R4, R5, R6, n 및 X는 제1항에 정의된 바와 같고 또 R7, R8, R9및 R10은 제2항에 정의되어 있다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH209893 | 1993-07-13 | ||
CH93-4/2098 | 1993-07-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960014194A true KR960014194A (ko) | 1996-05-22 |
Family
ID=4225839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019940016930A KR960014194A (ko) | 1993-07-13 | 1994-07-12 | 테트라메틸피페리딘 측쇄를 함유하는 중합체, 이를 포함하는 조성물 및 그의 안정화제로서의 용도 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5541274A (ko) |
EP (1) | EP0638597A1 (ko) |
JP (1) | JPH0770248A (ko) |
KR (1) | KR960014194A (ko) |
BR (1) | BR9402694A (ko) |
CA (1) | CA2127731A1 (ko) |
MX (1) | MX9405327A (ko) |
SK (1) | SK82394A3 (ko) |
TW (1) | TW267179B (ko) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW267179B (ko) * | 1993-07-13 | 1996-01-01 | Ciba Geigy | |
WO1998018830A1 (en) | 1996-10-31 | 1998-05-07 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Functionalised polymers |
US6147163A (en) * | 1996-12-18 | 2000-11-14 | Basf Corporation | Acrylic oligomeric and polymeric durability enhancing agents, method therefore and cured coating compositions containing the same |
US6166148A (en) * | 1996-12-18 | 2000-12-26 | Basf Corporation | Durability enhancing agents, method therefore and cured coating compositions containing the same |
AU9717798A (en) * | 1998-01-13 | 1999-08-05 | Sony Electronics Inc. | System and method for enabling manipulation of graphic images to form a graphic image |
TW557313B (en) | 1998-02-02 | 2003-10-11 | Ciba Sc Holding Ag | Oxopiperazinyl derivatives and light stabilized compositions |
ITMI980366A1 (it) | 1998-02-25 | 1999-08-25 | Ciba Spec Chem Spa | Preparazione di eteri amminici stericamente impediti |
TW482806B (en) | 1998-06-02 | 2002-04-11 | Ciba Sc Holding Ag | Compositions stabilized by dioxopiperazinyl derivatives |
ES2216610T3 (es) * | 1998-12-23 | 2004-10-16 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Estabilizadores polimeros que tienen baja polidispersidad. |
DE60216966T2 (de) | 2001-11-29 | 2007-10-04 | Kaneka Corp. | Härtbare zusammensetzung |
US7358301B2 (en) | 2002-12-17 | 2008-04-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Latex particles having incorporated image stabilizers |
DE10329262B3 (de) * | 2003-06-23 | 2004-12-16 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Behandlung eines Substrates und ein Halbleiterbauelement |
US7641961B2 (en) * | 2004-10-20 | 2010-01-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Ink solvent assisted heat sealable media |
US11254837B2 (en) | 2017-04-25 | 2022-02-22 | Basf Se | Coating compositions having covalently bound ultraviolet absorbers |
EP4428120A1 (en) * | 2021-11-05 | 2024-09-11 | Adeka Corporation | Compound, polymer, photostabilizer composition, resin composition, coating material composition, article, sealing material, molded article, method for producing weather-resistant resin composition, and method for improving weather resistance of synthetic resin |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0000496B1 (de) * | 1977-07-19 | 1982-05-19 | Ciba-Geigy Ag | Seitenständige N-heterocyclische Ringe tragende Acrylatpolymere und deren Verwendung als Lichtschutzmittel |
JPS5466996A (en) * | 1977-11-08 | 1979-05-29 | Sankyo Co Ltd | Polymer substituted by polyalkylpiperidine side chain, its preparation and its use as stabilizer |
US4413096A (en) * | 1981-04-13 | 1983-11-01 | Ciba-Geigy Corporation | α-Olefin copolymers containing pendant hindered amine groups |
EP0063544A1 (de) * | 1981-04-13 | 1982-10-27 | Ciba-Geigy Ag | Alpha-Olefincopolymere mit sterisch gehinderten Aminseitengruppen |
JPS585319A (ja) * | 1981-07-03 | 1983-01-12 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化された合成樹脂組成物 |
US5274016A (en) * | 1985-12-06 | 1993-12-28 | Ciba-Geigy Corporation | Light-stabilized polymer microparticles |
EP0226538B1 (de) * | 1985-12-06 | 1991-09-11 | Ciba SC Holding AG | Lichtstabilisierte Polymermikropartikel |
ATE91291T1 (de) * | 1987-06-04 | 1993-07-15 | Ciba Geigy Ag | Lichtstabilisierte, epoxygruppenhaltige polymermikropartikel. |
US5047489A (en) * | 1990-02-14 | 1991-09-10 | Ciba-Geigy Corporation | Ethylenically unsaturated compounds containing 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine moieties, and polymers, copolymers and stabilized compositions |
EP0526399B1 (de) * | 1991-07-29 | 1995-09-27 | Ciba SC Holding AG | Lichtstabilisierte Copolymer-Zusammensetzungen als Bindemittel für Lacke |
TW267179B (ko) * | 1993-07-13 | 1996-01-01 | Ciba Geigy |
-
1994
- 1994-06-28 TW TW083105858A patent/TW267179B/zh active
- 1994-07-05 EP EP94810398A patent/EP0638597A1/de not_active Withdrawn
- 1994-07-07 US US08/271,705 patent/US5541274A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-11 CA CA002127731A patent/CA2127731A1/en not_active Abandoned
- 1994-07-11 SK SK823-94A patent/SK82394A3/sk unknown
- 1994-07-12 KR KR1019940016930A patent/KR960014194A/ko active IP Right Grant
- 1994-07-12 BR BR9402694A patent/BR9402694A/pt not_active Application Discontinuation
- 1994-07-13 MX MX9405327A patent/MX9405327A/es not_active IP Right Cessation
- 1994-07-13 JP JP6183951A patent/JPH0770248A/ja active Pending
-
1996
- 1996-03-12 US US08/614,120 patent/US5892037A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5541274A (en) | 1996-07-30 |
CA2127731A1 (en) | 1995-01-14 |
EP0638597A1 (de) | 1995-02-15 |
MX9405327A (es) | 1995-01-31 |
US5892037A (en) | 1999-04-06 |
JPH0770248A (ja) | 1995-03-14 |
SK82394A3 (en) | 1995-03-08 |
TW267179B (ko) | 1996-01-01 |
BR9402694A (pt) | 1995-04-04 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
NORF | Unpaid initial registration fee |