KR960012245B1 - Soft magnetic alloy coating - Google Patents

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KR960012245B1
KR960012245B1 KR1019910008715A KR910008715A KR960012245B1 KR 960012245 B1 KR960012245 B1 KR 960012245B1 KR 1019910008715 A KR1019910008715 A KR 1019910008715A KR 910008715 A KR910008715 A KR 910008715A KR 960012245 B1 KR960012245 B1 KR 960012245B1
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나오야 하세가와
마사미찌 사이또
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알프스 덴기 가부시기가이샤
가다오까 마사다까
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    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
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Abstract

내용없음No content

Description

연자성 합금막Soft magnetic alloy film

본 발명은 자기 헤드 등에 적합한 연자성 합금막에 관한 것이다.The present invention relates to a soft magnetic alloy film suitable for a magnetic head or the like.

자기 기록의 분야에 있어서는 기록 밀도를 높이기 위해 자기 테이프 등의 기록 매체의 고보자력화가 추진되고 있으나, 그에 대응하는 자기 헤드용의 연자성 박막 재료로서 포화자속밀도(Bs)가 높은 것이 요구되고 있다.In the field of magnetic recording, high-magnetization of recording media such as magnetic tape has been promoted in order to increase recording density. However, a high saturation magnetic flux density (Bs) is required as a soft magnetic thin film material for a magnetic head corresponding thereto.

종래의 연자성 재료(막)으로서는 Ni-Fe(파마로이) 및 Co기의 비정질막 등이 있다.Conventional soft magnetic materials (films) include Ni-Fe (Pharmay) and Co-based amorphous films.

또한 최근 Fe를 주성분으로 하는 미결정으로 되는 합금막(Fe-N, Fe-C등)에 있어서, Fe의 결정자기 이방성의 연자성에 대한 악영향의 결정을 미세화하는 것에 의해 경감하여 고포화자속밀도이고 그리고 연자기 특성이 뛰어난 막을 얻은 예가 있다.In recent years, in an alloy film containing Fe as a main component (Fe-N, Fe-C, etc.), it has been reduced by miniaturizing the crystal of the adverse effect on the soft magnetic property of the crystal magnetic anisotropy of Fe to have a high saturation magnetic flux density, and There is an example of obtaining a film having excellent soft magnetic properties.

그러나, 자기 헤드를 조립해 넣은 장치는 소형화, 경량화하는 경향이 있고, 이동에 수반하는 진동에 접하게 되거나, 악환경의 조건하에서 사용되거나 하는 경우가 많아지고 있다. 그래서, 자기 헤드에는 자기 특성이 우수하고 자기 테이프에 대한 내마모성이 우수한 것은 물론 습도나 부식성의 분위기중에서의 내용성, 즉, 내환경성이나, 내진동성등이 높은 것이 요구되고 있다. 이때문에 틈새 형성이나 케이스의 짜넣기 등을 유리용착으로 행하는 것이 필요하게 되고 자기 헤드의 소재는 헤드의 제조공정에 있어서 유리용착공정의 고온에 견디는 열안정성도 합해서 요구되게 되었다.However, devices incorporating magnetic heads tend to be miniaturized and light in weight, and are often used in contact with vibrations associated with movement or under adverse environmental conditions. Therefore, the magnetic head is required to be excellent in magnetic properties, excellent in wear resistance to the magnetic tape, and high in moisture and corrosive atmosphere, that is, high in environmental resistance and vibration resistance. For this reason, it is necessary to perform gap formation, weaving of a case, etc. by glass welding, and the material of a magnetic head also requires the heat stability which withstands the high temperature of the glass welding process in the head manufacturing process.

그러하나, 상기 종래의 연자성 합금막에 있어서, Ni-Fe막으로 되는 것은, 유리용착공정에의 고온에서는 연자기 특성이 열화됨과 함께 전기 저항이 낮다는 결점이 있다.However, in the conventional soft magnetic alloy film, the Ni-Fe film has a drawback that the soft magnetic properties deteriorate and the electrical resistance is low at high temperatures in the glass welding process.

또, Co기의 비정질막에서는 13000G 이상의 높은 포화자속밀도의 것도 얻어지고 있으나, 종래의 아몰포스 합금의 포화자속밀도를 높이고자 하면, 아몰포스 형성원소인 Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, W 등의 첨가량을 적게할 필요가 있으나, 첨가량을 적게하면 아몰포스 구조의 안정성이 저하하고, 유리용착에 필요한 온도(약 500℃ 이상)에는 견디지 못하는 문제가 있다. 포화자속밀도를 약 9000G 이하에 눌러 놓으면, 저융점 유리에 의한 용착은 가능하지만, 600℃ 이상에서의 용착은 곤란하고, 내환경성에 뛰어난 중∼고융점 유리를 사용할 수 없다.In the Co-based amorphous film, a high saturation magnetic flux density of 13000 G or more is also obtained. To increase the saturation magnetic flux density of a conventional amorphous alloy, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, which is an amorphous forming element, can be obtained. It is necessary to reduce the amount of addition of W, etc., but if the amount of addition is low, the stability of the amorphous structure is lowered, and there is a problem of not being able to withstand the temperature (about 500 ° C. or more) required for glass welding. If the saturation magnetic flux density is set to about 9000 G or less, welding by low melting point glass is possible, but welding at 600 degreeC or more is difficult, and medium to high melting point glass excellent in environmental resistance cannot be used.

또한, 상술한 Fe를 주성분으로 하는 미세결정으로 되는 합금막(Fe-N, Fe-C등)은 고온에서는 결정성장을 일으켜서 연자성이 열화하기 때문에(Fe-C의 경우에서 400℃가 최고), 역시 유리용착에 적합한 것이라고는 할 수 없다.In addition, alloy films (Fe-N, Fe-C, etc.) made of fine crystals containing Fe as a main component cause crystal growth at high temperatures and deteriorate soft magnetic properties (400 ° C is the highest in Fe-C). Also, it cannot be said that it is suitable for glass welding.

이와 같은 배경에서 본원 발명자등은 일본국 특원평 1-278220호, 특원평 2-63808호 등에 있어서, 상기의 문제를 해결한 연자성 합금막을 특허출원하고 있다.In this background, the inventors of the present application have filed a patent for a soft magnetic alloy film which solved the above problems in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278220, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-63808, and the like.

일본국 특원평 1-278220호 명세서에 있어서, 특허출원하고 있는 연자성 합금막의 하나는 조성식이 Fea Mc Cd로 표시되고, 조정비 a는 원자%로 50 내지 96, c는 2 내지 30, d는 0.5 내지 25, a+c+d=100이 되는 관계를 만족하는 것이었다.In Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278220, one of the patent-pending soft magnetic alloy films has a composition formula represented by Fea Mc Cd, the adjustment ratio a is 50 to 96 in atomic%, c is 2 to 30, and d is 0.5 to 25 and a + c + d = 100 were satisfied.

또한, 다른 하나는 조성식이 Fea Qb Mc Cd로 표시되고, 조성비 a는 원자%로 50 내지 96, b는 0.1 내지 10, c는 2 내지 30, d는 0.5 내지 25, a+b+c+d=100이 되는 관계를 만족시키는 것이다.In addition, the other is represented by the composition formula Fea Qb Mc Cd, the composition ratio a is 50 to 96 in atomic%, b is 0.1 to 10, c is 2 to 30, d is 0.5 to 25, a + b + c + d To satisfy a relationship of = 100.

또한, 일본국 특원평 2-63808호 명세서에 있어서 특허출원하고 있는 연자성 합금막의 하나는 조성식이 Fea Crc Md Ce로 표시되고, 조성비 a는 원자%로 50 내지 95, c는 0.5 내지 20, d는 2 내지 25, e는 0.5 내지 25, a+c+d+e=100이 되는 관계를 만족하는 것이었다.In addition, one of the soft magnetic alloy films patented in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-63808 has a compositional formula represented by Fea Crc Md Ce, and the composition ratio a is 50 to 95 in atomic%, c is 0.5 to 20, d. Is 2 to 25, e is 0.5 to 25, and a + c + d + e = 100 is satisfied.

그리고, 다른 하나는 조성식이 Fea Qb Crc Md Ce로 표시되고, 조성비 a가 원자%로 50 내지 95, b는 0.1 내지 10, c는 0.5 내지 20, d는 2 내지 25, e는 0.5 내지 25, a+b+c+d+e=100이 되는 관계를 만족하는 것이었다.The other is represented by the composition formula Fea Qb Crc Md Ce, the composition ratio a is 50 to 95 in atomic%, b is 0.1 to 10, c is 0.5 to 20, d is 2 to 25, e is 0.5 to 25, The relationship of a + b + c + d + e = 100 was satisfied.

이를 특허출원에서 제공한 연자성 합금막은 일부 조성의 것은 15000G 이상의 높은 포화자속밀도를 가지고, 종래의 각종 재료에 비교하면, 높은 열안정성을 구비하고, 통상의 사용환경하에서는 충분한 내식성과 내환경성을 가지고 있으나, 가능한 열처리 온도는 700℃ 정도가 상한이고, 이 이상의 온도에서는 연자성이 취약해진다.The soft magnetic alloy film provided by the patent application has a high saturation magnetic flux density of 15,000 G or more in some compositions, has high thermal stability compared to various materials of the prior art, and has sufficient corrosion resistance and environmental resistance under normal use environment. However, the possible heat treatment temperature is the upper limit of about 700 ℃, soft magnetic properties are weak at this temperature.

통상의 자기 헤드인 경우는 700℃ 이하에서 유리용착은 가능하지만, 복잡한 구조의 헤드, 예를 들어 소거 헤드와 녹재 헤드가 일체화된 구조의 헤드에서는 소거 헤드와 녹재 헤드 각각의 틈새 형성을 유리용착으로 행하고, 이어서 양자의 헤드의 합체(조합)를 틈새 접합 유리가 용융하지 않은 온도로 유리용착할 필요가 있고, 틈새 접합 유리에 고융점의 것을 사용할 필요가 있다. 이 때문에, 최초의 틈새 형성을 700℃ 이상의 온도로 행하는 것이 바람직하다. 따라서, 더욱 내열성이 높은 연자성 박막이 요구되고 있다.In the case of a conventional magnetic head, glass welding is possible at 700 ° C. or lower. However, in the case of a complicated head, for example, a head in which the erasing head and the rust ash head are integrated, a gap between the erase head and the rust ash head is formed by glass welding. It is necessary to carry out glass welding at the temperature which a gap laminated glass does not fuse, and it is necessary to use a thing of high melting | fusing point for a gap laminated glass after performing it. For this reason, it is preferable to perform initial gap formation at the temperature of 700 degreeC or more. Therefore, a soft magnetic thin film having higher heat resistance is required.

또, 상기 특원평 1-278220호에서 출원되어 있는 연자성 합금막에 있어서는 전기 저항이 종래의 비정질막의 반 정도로 낮고, 이것에 의해 고주파로의 투자율이 와전류 손실에 의해 저하되게 된다는 문제가 있었다. 또한, Fe를 주성분으로 하기 위해서, 악환경하에서 사용된 경우에 변색 또는 발청을 일으킬 우려가 있었다.In the soft magnetic alloy film filed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278220, the electrical resistance is about half as low as that of the conventional amorphous film, which causes a problem that the permeability of the high frequency wave is reduced by the eddy current loss. Moreover, in order to use Fe as a main component, when used in a bad environment, it might cause discoloration or rusting.

그래서, 본원 발명자 등은 이들의 문제를 해결하기 위해 유자율이 높고, 그 특성이 열적으로 안정하고 함께 양호한 내식성을 가지는 연자성 합금막에 관해 특허출원을 하였다(일본국 특원평 2-116256호).In order to solve these problems, the inventors of the present application have filed a patent for a soft magnetic alloy film having a high permittivity, thermally stable properties, and good corrosion resistance (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-116256). .

이 연자성 합금막의 하나는 조성식이 Fea Lc Me Cf로 표시되고, L은 Al, Si중에서 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, c, e, f는 원자%로 50a≤95, 0.2c25, 2e25, 0.5f25, a+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것이다.One of the soft magnetic alloy films has a compositional formula represented by Fea Lc Me Cf, where L is at least one of Al and Si or a mixture thereof, and M is Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W At least one of the metal elements or mixtures thereof, and the composition ratios a, c, e, and f are 50% by atom. a≤95, 0.2 c 25, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + e + f = 100, the structure is basically a fine grain having an average crystal grain size of 0.08 µm or less, and partly contains the crystal phase of the carbide of the element M. It is.

다른 연자성 합금막에서는 조성식이 Fea Lc Crd Me Cf로 표시되고, 조성비 a, c, d, e, f는 원자%로 50a95, 0.2c25, 0.1d20, 2e25, 0.5f25, a+c+d+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것이다.In other soft magnetic alloy films, the composition formula is represented by Fea Lc Crd Me Cf, and the composition ratios a, c, d, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.2 c 25, 0.1 d 20, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + d + e + f = 100, the structure is basically a fine grain having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the crystal phase of the carbide of element M It contains.

또 다른 연자정 합금막에서는 조성식이 Fea Qb Lc Me Cf로 표시되고 Q는 Co, Ni중 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, b, c, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.2c25, 2e25, 0.5f25, a+b+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시키는 것과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것이다.In another soft-crystal alloy film, the compositional formula is represented by Fea Qb Lc Me Cf, Q is at least one of Co and Ni, or a mixture thereof, and the composition ratios a, b, c, e, and f are 50 atomic percent. a 95, 0.1 b 10, 0.2 c 25, 2 e 25, 0.5 f 25, a + b + c + e + f = 100 is satisfied, and the structure is basically a fine grain having an average crystal grain size of 0.08 µm or less, and part of the crystal phase of the carbide of element M It contains.

또 다른 연자정 합금막에서는, 조성식이 Fea Qb Lc Crd Me Cf로 표시되고, 조성비 a, b, c, d, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.2c25, 0.1d20, 2e25, 0.5f25, a+b+c+d+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것이다.In another soft-crystal alloy film, the composition formula is represented by Fea Qb Lc Crd Me Cf, and the composition ratios a, b, c, d, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.1 b 10, 0.2 c 25, 0.1 d 20, 2 e 25, 0.5 f 25, a + b + c + d + e + f = 100 is satisfied, and the structure is basically a fine grain having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the carbide of element M It contains a crystalline phase.

그렇지만, 연자성 합금막을 특히 자기 헤드에 사용하는 경우에는, 포화 자외(λs)의 절대치 │λs│의 치가 적을수록 바람직하고, 그리고 양호한 연자기 특성을 합해서 가지는 연자성 합금막이 요구되고 있다.However, in the case where the soft magnetic alloy film is particularly used for the magnetic head, a smaller value of the absolute value of the saturated ultraviolet lambda s lambda s is preferable, and a soft magnetic alloy film having good soft magnetic properties in total is desired.

또, 자외는 열처리 온도가 높아짐에 따라, 정에서 부로 변화하기 위해, 700℃ 정도의 높은 온도로 열처리를 행하는 경우에는 자외는 부가되기 쉽고, 10-7대의 적은 치의 λs을 얻을 수 있는 조성은 극히 한정된 범에 한정되고 마는 문제가 있었다.In addition, when the heat treatment is performed at a temperature of about 700 ° C. in order to change from positive to negative as the heat treatment temperature increases, ultraviolet light is easily added, and a composition capable of obtaining 10 −7 small λ s is extremely low. There was problem to be limited to limited range.

또한, 자기 헤드에 적용하는 경우에는 약한 일축 자기 이방성을 막에 부여한 쪽이 고주파 특성상 유리하고, 이 방법으로서, 막에 가해지는 응력에 의한 역자외 효과를 이용하는 것이 편리하다. 이 경우 막면내에 작용하는 인장 응력을 이용하는 때에는 막의 자외는 적은 정의 치인 것이 좋다. 이것은 부라고 막면에 수직의 이방성 성분을 만들기 때문이다. 그러나, 상기 이유에 의해 고온 열처리 후에 정의 자의를 얻는 것은 곤란하다는 문제가 있다.In addition, when applied to a magnetic head, it is advantageous to give the film weak uniaxial magnetic anisotropy in terms of high frequency characteristics, and as a method, it is convenient to use the reverse ultraviolet effect due to the stress applied to the film. In this case, when using the tensile stress acting in the film surface, the ultraviolet light of the film is preferably a small positive value. This is because it creates anisotropic components perpendicular to the block. However, there is a problem that it is difficult to obtain the definition after high temperature heat treatment for the above reason.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 행해진 것으로, 고온에서의 열처리 후의 자외(λs)의 절대치를 보다 적게함과 함께, 자외(λs)가 적어지는 열처리 온도 범위를 넓혀 고온에서의 열처리 후라도 임의의 적은 정의자외가 얻어지도록 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and further reduces the absolute value of ultraviolet rays (λs) after heat treatment at high temperature, and widens the heat treatment temperature range in which ultraviolet rays (λs) decreases, and any arbitrary amount even after heat treatment at high temperatures. To get extra definitions.

청구범위 제1항에 기재한 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서, 조성식이 Fea Xc Me Cf로 표시되고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서, 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, c, e, f는 원자%로 50a95, 0.2c5, 2e25, 0.5f25, a+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막이다.In order to solve the above problems, the present invention described in claim 1 is represented by Fea Xc Me Cf, and X is at least one of Cu, Pd, Ag, Pt and Au, or a mixture thereof. , M is a metal element or a mixture of at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, the composition ratio a, c, e, f is 50% by atomic a 95, 0.2 c 5, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + e + f = 100, the structure is basically a fine grain having an average crystal grain size of 0.08 µm or less, and partly contains the crystal phase of the carbide of the element M. It is a soft magnetic alloy film characterized in that.

청구범위의 제2항에 기재한 발명은 상기 과제를 해졀하기 위해서, 조성식이 Fea Qb Xc Me Cf로 표시되고, Q는 Co, Ni중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, b, c, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.1c5, 2e25, 0.5f25, a+b+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막이다.In order to solve the above problems, the invention described in claim 2 is represented by Fea Qb Xc Me Cf, wherein Q is at least one of Co and Ni, or a mixture thereof, and X is Cu. At least one of metal elements or mixtures thereof, and at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W; The composition ratios a, b, c, e and f are 50% by atom a 95, 0.1 b 10, 0.1 c 5, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + b + c + e + f = 100, the structure is basically a fine grain having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the crystal phase of the carbide of element M It is a soft magnetic alloy film containing.

특허청구의 범위 제3항에 기재한 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서, 조성식이 Fea Xc Zd Me Cf로 표시되고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, Z는 Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N중에서 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, c, d, e, f는 원자%로 50a95, 0.1c5, 0.5d10, 2e25, 0.5f25, a+c+d+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막이다.In order to solve the above problems, the invention described in claim 3 is a compositional formula represented by Fea Xc Zd Me Cf, wherein X is at least one of a metal element of Cu, Pd, Ag, Pt, Au, or Z is an element or mixture thereof which is at least one of Cr, Y, Ru, Ir, Rh, and N, and M is at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W. Is a metal element or mixture thereof, and the composition ratios a, c, d, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.1 c 5, 0.5 d 10, 2 e 25, 0.5 f 25, a + c + d + e + f = 100 is satisfied, and the structure is basically a fine grain having an average grain size of 0.08 µm or less, and a portion of the carbide phase of element M It is a soft magnetic alloy film characterized by containing.

청구범위 제4항에 기재한 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서, 조성식이 Fea Qb Xc Zd Me Cf로 표시되고, Q는 Co, Ni중에서, 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서, 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, Z는 Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N중에서 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, b, c, d, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.1c5, 0.5d10, 2e25, 0.5f25, a+b+c+d+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로는 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막이다.In order to solve the above problems, the invention described in claim 4 is represented by Fea Qb Xc Zd Me Cf, wherein Q is at least one of Co and Ni, or a mixture thereof, and X is Cu. , Pd, Ag, Pt, Au, at least one element or a mixture thereof, Z is at least one of Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N or a mixture thereof, M is Ti, Zr, At least one of Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, or a mixture thereof, and the composition ratios a, b, c, d, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.1 b 10, 0.1 c 5, 0.5 d 10, 2 e 25, 0.5 f 25, a + b + c + d + e + f = 100 is satisfied, and the structure is basically a fine grain having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the element M It is a soft magnetic alloy film containing a crystalline phase of carbide.

청구점위 제5항에 기재한 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서, 청구범위 제1항 내지 제4항의 기재의 조성이 평균 결정 입경 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입과 비정질과의 혼재한 조직이고, 미세 결정의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막이다.In order to solve the above problems, the invention described in claim 5 is a structure in which the composition of the base material of claims 1 to 4 is a mixture of fine grains and amorphous particles having an average grain size of 0.08 μm or less, and fine. It is a soft magnetic alloy film characterized by containing a crystal phase of carbide of element M in a part of crystal.

이하에 본 발명을 다시 상세히 설명한다.The present invention will be described again in detail below.

상기 합금막의 생성 방법으로서는 합금막을 스푸터, 증착 등의 박막형성장치에 의해 제작한다. 스푸터 장치로서는, RF 2극 스푸터, DC 스푸터, 마그네트론 스푸터, 3극 스푸터, 이온빔 스푸터, 대향 타겟트식 스푸터 등의 기존의 것을 사용할 수 있다.As a method of producing the alloy film, an alloy film is produced by a thin film forming apparatus such as sputtering or vapor deposition. As the sputtering apparatus, conventional ones such as an RF two-pole sputter, a DC sputter, a magnetron sputter, a three-pole sputter, an ion beam sputter, and an opposed target sputter can be used.

또, C를 막중에 첨가하는 방법으로서는 타아겟트 판상에 그라파이트의 펠렛을 배치하여 복합 타아겟트로 하고, 이것을 스푸터하는 방법, 또는 C를 함유하지 않은 타아겟트(Fe-X-M계, Fe-Q-X-M계, Fe-X-Z-M계 또는 Fe-Q-X-Z-M계)을 사용하고, Ar등의 불활성 가스중에 메탄 등의 탄화수소가스를 혼합한 가스분위기 중에서 스푸터하는 반응성 스푸터법 등을 사용할 수가 있고, 특히 반응성 스푸터법에서는 막중의 C농도의 제어가 용이하기 때문에 소망의 C농도의 뛰이난 막을 얻을 수가 있다.As a method of adding C to the film, a graphite pellet is placed on a target plate to form a composite target, and a sputtering method or a target containing no C (Fe-XM system or Fe-QXM system). , Fe-XZM-based or Fe-QXZM-based), and a reactive sputtering method for sputtering in a gas atmosphere in which a hydrocarbon gas such as methane is mixed in an inert gas such as Ar, and the like. Since the C concentration in the film can be easily controlled, an excellent film of the desired C concentration can be obtained.

이와 같이 하여 제작한 대로의 막은 비정질상을 상당한 비율로 함유한 것이고, 포화자속밀도가 낮고, 연자기 특성도 불충분하므로 400℃ 이상의 열처리를 실시하는 것에 의해 미결정을 석출시킨다. 이 열처리는 무자장중에서 행해도 양호한 연자기 특성이 얻어지나, 정자자중 또는 회전자장중에서 행하는 것에 의해 우수한 자기 특성을 얻는다. 또, 이 열처리는 자기 헤드의 제조공정에 있어서의 유리용착공정과 겸해서 행하는 것도 된다.The film thus produced contains an amorphous phase in a substantial proportion, has a low saturation magnetic flux density and insufficient soft magnetic properties. Thus, microcrystals are precipitated by heat treatment at 400 占 폚 or higher. Although this heat treatment can be performed in a magnetic field, good soft magnetic properties can be obtained, but excellent magnetic properties can be obtained by performing in a sperm or a rotating magnetic field. This heat treatment may also be performed in combination with the glass welding step in the manufacturing process of the magnetic head.

그리고, 상기 미결정의 석출공정은 완전히 행할 필요는 없고, 미결정이 상당수(바람직하기는 50% 이상)석출하고 있으면 좋으므로, 아물포스 성분이 일부 잔류하여 있어서 지장이 없고, 잔류한 아몰포스 성분이 특성 향상의 장해가 되는 것은 아니다.In addition, the precipitation process of the microcrystals does not need to be carried out completely, and a large number of microcrystals (preferably 50% or more) need to be precipitated, so that some of the amulfos components remain, which is not a problem. It is not an obstacle to improvement.

이하, 상기와 같은 성분을 한정한 이유에 관해 언급한다.Hereinafter, the reason for limiting the above components is mentioned.

Fe의 주성분인 자성을 담당하는 원소이다. 적어도 페라이트(Bs 5000G) 이상의 포화자속밀도를 얻기 위해서는 a50원자%가 필요하다. 또, 양호한 연자기 특성을 얻기 위해서는 a95원자%이 아니면 안된다.It is an element in charge of the magnetism which is the main component of Fe. To obtain a saturation magnetic flux density of at least ferrite (Bs 5000G): a 50 atomic percent is required. In addition, in order to obtain good soft magnetic properties, It must be 95 atomic percent.

원소 M(즉 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, W)는 연자기 특성을 양호히 하기 위해서 필요하고, 또, C와 결합해서 탄화물의 미세 결정을 형성한다. 이 탄화물의 미입자가 Fe를 주성분으로 하는 결정의 성장을 방지하는 역할을 하여, 높은 내열성이 얻어진다.Elements M (i.e., Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, and W) are necessary to improve soft magnetic properties, and combine with C to form carbide fine crystals. The fine particles of this carbide play a role of preventing the growth of a crystal containing Fe as a main component, and high heat resistance is obtained.

양호한 연자기 특성을 유지하기 위해서는, e원자%로 할 필요가 있다. 그러하나, 과다하면 포화자속밀도가 저하하고 또 연자기 특성의 저하를 초래함으로 e25원자%로 할 필요가 있다.To maintain good soft magnetic properties, e It is necessary to make it in atomic%. However, if excessive, the saturation magnetic flux density decreases and the soft magnetic properties deteriorate. It is necessary to make it to 25 atomic%.

C는 연자기 특성을 양호히 하기 위해, 그리고 내열성을 향상시키기 위해서 필요하고, 또, C는 원소 M과 결합하여 탄화물의 미세결정을 형성한다.C is necessary to improve soft magnetic properties and to improve heat resistance, and C combines with element M to form carbide microcrystals.

양호한 연자기 특성, 그리고 열안정성을 유지하기 위해서는 f0.5원자%로 할 필요가 있다. 그러하나, 과다하면 포화자속밀도의 저하 및 연자기 특성의 저하를 초래함으로 f25원자%로 할 필요가 있다.To maintain good soft magnetic properties and thermal stability, f It is necessary to set it as 0.5 atomic%. However, excessively causes a decrease in saturation magnetic flux density and a decrease in soft magnetic properties. It is necessary to make it to 25 atomic%.

이상 설명의 Fe와 원소 M과 C의 성분 한정 이유는 일본국 특원평 1-278220호의 경우와 거의 같다.The reason for limiting the components of Fe and the elements M and C in the above description is almost the same as in the case of Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278220.

원소 X(즉, Cu, Pd, Ag, Pt, Au)는 열처리 온도를 높게 한 경우에도 자외를 영으로 할 수 있는 것으로, 원소 X의 첨가가 없는 막에서는, 열처리 온도가 낮은 경우에는 자외는 정의 치가 되고, 열처리 온도가 높은 경우에는 부의 치가 된다. 즉, 원소 X는 자외를 정의측에 시프트 시키는 효과가 있는 것이나, 적어도, 0.1원자% 이상 첨가하지 않으면 자외를 조정하는 효과는 나오지 않는다. 또, 원소 X의 첨가량이 너무 많으면 자외가 역으로 정의 쪽으로 지나치게 크게 되어, 연자기 특성이 얻어지기 어렵게 됨으로, c5원자%로 할 필요가 있다.Element X (i.e., Cu, Pd, Ag, Pt, Au) can have ultraviolet light even when the heat treatment temperature is increased. In a film without addition of element X, ultraviolet light is defined when the heat treatment temperature is low. Value and a negative value when the heat treatment temperature is high. In other words, the element X has the effect of shifting the ultraviolet to the positive side, but at least 0.1 g of no more than 0.1 atomic% does not produce the effect of adjusting the ultraviolet. In addition, when the amount of addition of the element X is too large, the ultraviolet light becomes too large toward the positive side inversely, and the soft magnetic properties are difficult to be obtained. It is necessary to make it into 5 atomic%.

원소 Q(즉, Co, Ni)는 주로 자장중 열처리에 의해 생기는 유도 자기 이방성 에너지를 크게하는 역할이 있다. 자화 곤란 방향에서 고주파까지 평평한 유자율의 고주파 특성을 얻고자 할때에 첨가하면 유효하다.Element Q (ie, Co, Ni) has a role of increasing the induced magnetic anisotropy energy mainly generated by heat treatment in the magnetic field. It is effective when it is added to obtain high frequency characteristics of the flat magnetic susceptibility from the direction of difficult magnetization to high frequency.

원소 Q도 자외를 정으로 하는 효과가 있으나, 동시에 이방성 에너지도 크게 됨으로, 지외만 제어하고자 하는 경우에는 원소 X의 첨가가 필요하다. 원소 Q는 너무 많아지면 이방성 에너지와 자외가 함게 너무 크게되어 연자기 특성을 얻기 어렵게 됨으로, b10원자%로 할 필요가 있다.The element Q also has the effect of making the ultraviolet light positive, but at the same time, the anisotropic energy is also increased, so that the element X must be added when only the outside is to be controlled. When the element Q is too large, the anisotropic energy and ultraviolet light become too large to make soft magnetic properties difficult to obtain, b It needs to be 10 atomic%.

원소 Z(즉, Cr, Y Ru, Ir, Rh, N)는 내식성, 내환경성을 개선하기 위해서 첨가하는 원소이나, 0.5% 이상 첨가하지 않으면 개선 효과가 충분하지 않다. 또한 첨가량이 10원자%를 넘으면 포화자속밀도가 너무 낮아짐과 함께, 양호한 연자기특성이 얻어지지 않으므로 바람직하지 않다.Element Z (i.e., Cr, Y Ru, Ir, Rh, N) is an element added to improve the corrosion resistance and environmental resistance, but the improvement effect is not sufficient unless 0.5% or more is added. Moreover, when the addition amount exceeds 10 atomic%, since the saturation magnetic flux density becomes too low and a favorable soft magnetic characteristic is not obtained, it is not preferable.

원소 M의 탄화물의 미세 결정은 막중에 균일하게 분산시키는 것에 의해, Fe의 미결정이 열처리에 의해 성장하고, 조대화하여 연자성을 상실하는 것을 방지하는 역할이 있다. 그러나, Fe의 결정입이 성장하여 크게되면 결정 자기 이방성의 악영향이 크게되어, 연자기 특성이 악화하거나, 원소 M의 탄화물의 미결정이 Fe의 입성장의 장벽으로서 활약하는 것에 의해 연자기 특성의 악화를 방지한다.The fine crystals of the carbide of the element M are uniformly dispersed in the film, thereby preventing the microcrystals of Fe from growing and coarsening by heat treatment and losing soft magnetic properties. However, when the grain size of Fe grows and becomes large, the adverse effect of crystal magnetic anisotropy is increased, and the soft magnetic properties deteriorate, or the soft magnetic properties deteriorate due to the microcrystals of carbides of element M acting as barriers to the grain growth of Fe. To prevent.

그리고, 금속 조직이 기본적으로 0.08㎛ 이하의 미결정으로 되어 있기 때문에, 비정질에 비해서 열적 안정성에 우수하고, 첨가 원소를 적게할 수 있고, 포화자속밀도를 높게 할 수가 있다.In addition, since the metal structure is basically microcrystals of 0.08 µm or less, it is excellent in thermal stability as compared to amorphous, and it is possible to reduce additional elements and to increase the saturation magnetic flux density.

상기 연자성 합금막에 있어서, 그 조직이 Fe에 풍부한 결정을 주체도 하고, 포화자속밀도를 저하시키는 성분의 첨가가 제한되어 있음으로 비정질 상태에 비해 철원자 1개당의 자기 모멘트 및 큐리온도가 높게되어 있고, 높은 포화자속밀도가 얻어진다.In the soft magnetic alloy film, the structure is mainly composed of crystals rich in Fe, and the addition of a component that lowers the saturation magnetic flux density is limited, so that the magnetic moment and curie temperature per iron atom are higher than those in the amorphous state. And a high saturation magnetic flux density is obtained.

또, 원소 M 및 C가 함유되어 있음과 함께, 금속조직이 미세한 결정입으로 되어 있어, 결정 자기 이방성에 의한 연자성에의 악영향이 경감됨으로, 양호한 연자기 특성이 얻어진다.In addition, the elements M and C are contained, the metal structure is made of fine grains, and adverse effects on the soft magnetic properties due to crystal magnetic anisotropy are alleviated, so that good soft magnetic properties are obtained.

또한, 원소 M의 탄화물이 석출하여 Fe를 주성분으로 하는 결정입의 성장을 억제함으로, 유리용착공장에 있어서 가열되어도 결정입이 조대화하는 일이 없다.In addition, since carbides of the element M precipitate and suppress the growth of grains containing Fe as a main component, the grains do not coarsen even when heated in a glass welding factory.

또한, 원소 Z을 특정량 첨가하고 있음으로 내식성이 향상하고, 내환경성이 우수하다.Further, by adding a specific amount of element Z, the corrosion resistance is improved and the environmental resistance is excellent.

또, 원소 X(Cu, Pd, Ag, Pt, Au)를 첨가하고, 또 그 첨가량의 조정에 의해, 폭넓은 열처리 온도범위에 있어서, 자외를 적게할 수 있다. 특히 적은 첨가량으로 용이하게 자외를 조정되기 때문에 연자기 특성을 유지할 수 있고, 포화자속밀도의 저하도 적게 누를 수 있다.In addition, by adding element X (Cu, Pd, Ag, Pt, Au) and adjusting the amount of addition, ultraviolet rays can be reduced in a wide heat treatment temperature range. In particular, since the ultraviolet light is easily adjusted with a small amount of addition, the soft magnetic properties can be maintained, and the decrease in the saturation magnetic flux density can be reduced.

실시예Example

(1) 성막(1) the tabernacle

RF 2극 스푸터 장치를 사용하여, 후기의 제1표에 표시한 조정의 합금막을 형성했다.The alloy film of adjustment shown to the 1st table | surface of a later stage was formed using the RF bipolar sputter | spatter apparatus.

사용한 타아겟트는 Fe 타아겟트상에 Ta, Zr, Cu, Pd, Ag, Pt, Au, 그라파이트 등의 각종 펠렛을 적절히 배치하여 구상한 복합 타아겟트를 사용하여 순 Ar 가스 분위기중에서 스푸터를 행하여, 막후 5 내지 6㎛의 박막을 형성하였다.The used target was sputtered in a pure Ar gas atmosphere using a composite target obtained by appropriately arranging various pellets such as Ta, Zr, Cu, Pd, Ag, Pt, Au, and graphite on the Fe target. A thin film having a thickness of 5 to 6 mu m was formed.

(2) 열처리 및 측정(2) heat treatment and measurement

성막후, 정자장중에 잇어서 550℃에서 20분간 보존하는 어닐링을 행하여 작성한 합금의 초유자율(at 5MHz), 보자력(Oe), 자외정수, 포화자속밀도를 표 1에 나타냈다.After film formation, an annealing was performed for 20 minutes at 550 ° C. in a static magnetic field, and the superelastic coefficient (at 5 MHz), coercive force (Oe), ultraviolet constant, and saturation magnetic flux density of the prepared alloy were shown in Table 1.

또, 무자장중에서 650℃로 20분간 보존하는 어닐링을 행해서 작성한 합금의, 보자력(Oe), 자외정수를 표 2에 나타냈다.Moreover, the coercive force (Oe) and the ultraviolet constant of the alloy created by carrying out the annealing which hold | maintains at 650 degreeC for 20 minutes in a magnetic field are shown in Table 2.

또한, 비교예로서, 스푸터에 의해 성막한 원소 X를 함유하지 않는 합금막(특원평 1-278220호에서 특허출원하고 있는 발명에 관한 합금막)에 관해, 상기 본 실시예의 연자성 합금막과 동등의 어닐링후의 상기 자기 특성의 측정치를 나타냈다.In addition, as a comparative example, the alloy film (the alloy film according to the invention filed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278220) containing no element X formed by sputtering, and the soft magnetic alloy film of the present embodiment, The measured value of the said magnetic property after equivalent annealing was shown.

또한, 초투자율과 보자력은 자화 곤란 측방향에서 측정했다.In addition, the superpermeability and coercive force were measured from the difficult magnetization side.

550℃(20분 보존) 정자장계중 열처리 후의 자기 특성Magnetic properties after heat treatment at 550 ° C (20 minutes storage)

[표 1]TABLE 1

650℃(20분 보존) 무자장계중 열처리 후의 자기 특성Magnetic properties after heat treatment in 650 ° C (20 minutes storage) magnetic-free system

[표 2]TABLE 2

표 1에서 원소 X(Cu, Pd, Ag, Pt, Au)등을 첨가하는 것에 의해, 자외는 정으로 시프트하는 것을 알 수 있다. 다른 자기특성(초유자율, 보자력,포화자속밀도)의 열화는 문제로 되지 않는다.In Table 1, it can be seen that by adding the elements X (Cu, Pd, Ag, Pt, Au) and the like, ultraviolet rays shift positively. Degradation of other magnetic properties (superelasticity, coercivity, saturation magnetic flux density) is not a problem.

표 2에서, 원소 X를 첨가하지 않은 막(비교예)에 있어서, 열처리 온도가 650℃에서의 자외는 열처리 온도가 550℃의 것보다 감소하고, 650℃ 보다도 낮은 어느 온도에서 영자외가 되고, 또, 원소 X의 첨가된 막은 650℃의 열처리 후의 자외는 정의 쪽으로 시프트하고, 첨가량을 조정한느 것에 의해, 650℃에서 영자외 내지 임의의 적은 정의 자외를 얻을 수가 있는 것을 알았다.In Table 2, in the film (Comparative Example) in which the element X was not added, the ultraviolet ray at the heat treatment temperature of 650 ° C was lower than that of the heat treatment temperature of 550 ° C and became zero ultraviolet at any temperature lower than 650 ° C. It was found that the added film of the element X shifted toward the positive after the heat treatment at 650 ° C. and adjusted the amount of addition, so that it was possible to obtain zero or any small positive ultraviolet at 650 ° C.

이상 설명한 것과 같이 본 발명은 Fe를 주성분으로 하는 미세한 결정입을 주로 하는 연자성 합금막이고, 포화자속밀도를 저하시키는 성분과의 첨가량이 제한되어 있음으로, 높은 포화자속밀도가 얻어진다. 이것에 의해 높은 기록특성을 가지는 자기 헤드를 제공할 수 있다.As described above, the present invention is a soft magnetic alloy film mainly containing fine grains containing Fe as a main component, and the amount of addition to the components for decreasing the saturation magnetic flux density is limited, so that a high saturation magnetic flux density is obtained. This makes it possible to provide a magnetic head having high recording characteristics.

또한, 종래의 아몰포스 합금막과는 달리 무자장중에서 열처리를 행하여도 높은 유자율을 발휘하는 막을 얻을 수가 있고, 자기 헤드 제조시의 유리융착 등의 공정을 자장을 걸고 열처리하는 경우 보다도 간략화한다.In addition, unlike the conventional amorphous alloy film, a film exhibiting a high permittivity even when heat-treated in a magnetic field can be obtained, and the process such as glass fusion at the time of manufacturing the magnetic head is simplified compared with the case of heat-treating the magnetic field.

또, 원소 M(Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W) 및 C라고 하는 연자성을 양호히 하는 성분이 첨가됨과 함께, 금속 조직이 미세한 결정입으로 되고, 결정 자기 이방성에 의해 연자성에의 악영향이 경감됨으로, 양호한 연자기 특성이 얻어진다.Moreover, while the components which improve the soft magnetic properties of elements M (Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W) and C are added, the metal structure becomes fine grains and the crystal magnetic anisotropy Since adverse effects on the soft magnetic properties are reduced, good soft magnetic properties are obtained.

또한, 미세한 결정입으로 됨과 함께, 첨가된 원소 M이 C와 탄화물을 형성하고, 그 탄화물이 막중에 균일하게 분산되어 있음으로 인해, Fe를 주성분으로 하는 미결정이 열처리에 의해 성장하는 것을 막는 역할을 한다. 즉, 결정의 성장에 따라서 결정 자기 이방성의 악영향이 커짐에 따른 연자성의 열화를 막는 작용이 있다. 이로서 용착 유리로서 중 고융점 유리를 사용할 수가 있다.In addition, since fine grains form, the added element M forms C and carbides, and the carbides are uniformly dispersed in the film, thereby preventing microcrystals containing Fe as a main component from growing by heat treatment. do. In other words, as the crystal grows, the soft magnetic deterioration is prevented as the adverse effect of crystal magnetic anisotropy increases. Thereby, medium high melting glass can be used as welding glass.

또, 상기 조정에 가해서, 원소 M(Cu, Pd, Ag, Pt, Au)를 첨가하고, 그 첨가량을 조정하는 것에 의해 폭넓은 열처리 온도 범위에서, 자외를 적게할 수 있다. 따라서, 적은 첨가량으로 용이하게 자외를 조정할 수 있기 때문에 연자기 특성도 유지할 수 있고, 포화자속밀도의 저하도 적게 억제할 수가 있다.In addition to the above adjustment, by adding the element M (Cu, Pd, Ag, Pt, Au) and adjusting the amount of addition, ultraviolet rays can be reduced in a wide heat treatment temperature range. Therefore, since the ultraviolet light can be easily adjusted with a small amount of addition, the soft magnetic characteristics can be maintained, and the decrease in the saturation magnetic flux density can be suppressed to a small degree.

또한, 원소 Q(즉, Co, Ni)는 주로 자장중 열처리에 의해 생기는 유도 자기 이방성 에너지를 크게하는 역할이 있고, 자화 곤란 방향에서 보다 고주파까지 플랏트한 유자율의 주파수 특성을 얻는 효과가 있다.In addition, element Q (that is, Co, Ni) has a role of increasing the induced magnetic anisotropy energy mainly generated by heat treatment in the magnetic field, and has the effect of obtaining the frequency characteristic of the magnetic flux flattened to higher frequencies in the difficult magnetization direction. .

그리고, 상기 성분에 원소 Z(Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N)를 특정량 첨가하는 것에 의해, Fe기의 합금으로서는 내식성이 뛰어난, 악환경하에서도 변색이나 발청을 일으키지 않는 특징이 있다.Further, by adding a specific amount of the element Z (Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N) to the above components, the Fe-based alloy is characterized by not discoloring or rusting even in a bad environment, which is excellent in corrosion resistance. .

Claims (8)

조성식이 Fea Xc Me Cf로 표시되고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서 선택되는 1종 이상의 원소 또는혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, 조성비 a, c, e, f는 원자%로 50a95, 0.1c5, 2e25, 0.5f25, a+c+e+f=100인 관계를 만족시킴과 동시에, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 이루어지고, 이의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition formula is represented by Fea Xc Me Cf, X is at least one element or mixture selected from Cu, Pd, Ag, Pt, Au, and M is Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W At least one metal element or mixture to be selected, and the composition ratios a, c, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.1 c 5, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + e + f = 100, the structure is basically composed of fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of which contains the crystal phase of the carbide of element M. Soft magnetic alloy film, characterized in that. 조정식이 Fea Qb Xc Me Cf로 표시되고, Q가 Co, Ni중에서 선택되는 1종 이상 의 금속 원소 또는 혼합물이고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, 조성비 a, b, c, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.1c5, 2e25, 0.5f25, a+b+c+e+f=100인 관계를 만족시킴과 동시에, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 이루어지고, 이의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The adjustment formula is represented by Fea Qb Xc Me Cf, Q is at least one metal element or mixture selected from Co, Ni, and X is at least one metal element or mixture selected from Cu, Pd, Ag, Pt, Au M is one or more metal elements or mixtures selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, and the composition ratios a, b, c, e, and f are 50% by atom. a 95, 0.1 b 10, 0.1 c 5, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + b + c + e + f = 100, the structure is basically composed of fine grains with an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the crystal phase of the carbide of element M A soft magnetic alloy film containing a. 조성식이 Fea Xc Zd Me Cf로 표시되고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서 선택되는 1종 이상의 금속원소 또는 혼합물이고, Z는 Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N중에서 선택되는 1종 이상의 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, 조성비 a, c,d, e, f는 원자%로 50a95, 0.1c5, 0.5d10, 2e25, 0.5f25, a+c+d+e+f=100인 관계를 만족시킴과 동시에, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 이루어지고, 이의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition is represented by Fea Xc Zd Me Cf, X is at least one metal element or mixture selected from Cu, Pd, Ag, Pt, Au, and Z is selected from Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N At least one element or mixture thereof, M is at least one metal element or mixture selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W, and the composition ratios a, c, d, e, f are atoms 50% a 95, 0.1 c 5, 0.5 d 10, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + d + e + f = 100, the structure is basically composed of fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and part of the crystal phase of the carbide of element M A soft magnetic alloy film containing a. 조성식이 Fea Qb Xc Zd Me Cf로 표시되고, Q는 Co, Ni중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, X는 Cu, Pd, Ag, Pt, Au중에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, Z는 Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N중에서 선택되는 1종 이상의 원소 또는 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W에서 선택되는 1종 이상의 금속 원소 또는 혼합물이고, 조성비 a, b, c, d, e, f는 원자%로 50a95, 0.1b10, 0.1c5, 0.5d10, 2e25, 0.5f25, a+b+c+d+e+f=100인 관계를 만족시킴과 동시에, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경이 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입으로 이루이지고, 이의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition is represented by Fea Qb Xc Zd Me Cf, Q is at least one metal element or mixture selected from Co, Ni, and X is at least one metal element or mixture selected from Cu, Pd, Ag, Pt, Au Z is at least one element or mixture selected from Cr, Y, Ru, Ir, Rh, N, and M is at least one metal selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W Element or mixture, and the composition ratios a, b, c, d, e and f are 50 a 95, 0.1 b 10, 0.1 c 5, 0.5 d 10, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + b + c + d + e + f = 100, the structure basically consists of fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and carbides of the element M A soft magnetic alloy film containing a crystal phase of. 제1항에 있어서, 상기 조직이 평균 결정 입경 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입과 비정질이 혼재된 조직이고, 미세 결정입의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The soft magnetic alloy film according to claim 1, wherein the structure is a structure in which fine grains and amorphous particles having an average grain size of 0.08 µm or less are mixed, and a part of the fine grains contains a crystalline phase of the carbide of element M. . 제2항에 있어서, 상기 조직이 평균 결정 입경 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입과 비정질이 혼재된 조직이고, 미세 결정입의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.3. The soft magnetic alloy film according to claim 2, wherein the structure is a structure in which fine grains and amorphous particles having an average grain size of 0.08 mu m or less are mixed, and a part of the fine grains contains a crystalline phase of the carbide of element M. . 제3항에 있이서, 상기 조직이 평균 결정 입경 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입과 비정질이 혼재된 조직이고, 미세 결정입의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.4. The soft magnetic alloy according to claim 3, wherein the structure is a structure in which fine grains and amorphous grains having an average grain size of 0.08 mu m or less are mixed, and a part of the fine grains contains a crystalline phase of carbide of element M. membrane. 제4항에 있어서, 상기 조직이 평균 결정 입경 0.08㎛ 이하의 미세한 결정입과 비정질이 혼재된 조직이고, 미세 결정입의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.5. The soft magnetic alloy film according to claim 4, wherein the structure is a structure in which fine grains and amorphous particles having an average grain size of 0.08 mu m or less are mixed, and a portion of the fine grains contains a crystalline phase of carbide of element M. .
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