KR960002595A - 현상액 공급방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 제조공정 중 포토리소그래피 공정과 관련한 현상시 현상액을 공급하는 현상액 공급방법에 관한 것으로, 특히 압력차를 이용해서 현상액을 원자상태로 분무함으로써 기존의 웨이퍼 스프레이(스트림) 방법에 비해 현상액 사용량이 20% 정도로 감소하며, 기포 등이 발생하지 않으므로 현상 후 선폭균일성이 향상되는 효과를 얻를 수 있는 현상에 공급장치 및 현상방법에 관한 것이다.

Description

현상액 공급방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 종래의 현상액 공급장치의 개략적인 구성도,

제2도는 본 발명에 따른 현상액 공급장치의 개략적인 구성 단면도,

제3도는 제2도의 현상액 공급노즐의 상세도.

Claims (1)

1. 현상액을 담는 외측 캐니스터(20); 상기 외측 캐니스터(20)에 연결되어 캐니스터의 내부 압력을 조정하는 N₂노즐(21); 상기 외측 캐니스터(20) 내부의 내측 캐니스터(30); 상기 내측 캐니스터(30)에 현상액을 주입하는 현상액 주입 노즐(23); 상기 내측 캐니스터(30)로 부터 현상액이 분사되는 현상액 분사 노즐(22)을 구비하는 현상액 공급장치를 이용한 현상 방법에 있어서, 외측 캐니스터(20) 내부를 N₂노즐(21)로 N₂를 공급해 0.5 내지 1.0mm Torr의 고진공으로 만들고, 내측 케니스터(30)는 760 Torr의 대기압 상태로 두어 캐니스터에 있는 밸브가 전기적 신호에 의해서 순간적으로 열리게 해서 고진공 상태에서의 현상액이 압력차에 의해 원자상태로 웨이퍼에 분사 되도록 하는 것을 특징으로 하는 현상방법.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.