KR960002516A - 광리소그래피용 광학 부재 및 광학 부재의 평가 방법 - Google Patents

광리소그래피용 광학 부재 및 광학 부재의 평가 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광학 부재의 굴절률의 균일성을 평가하는 방법에 있어서, 광학 부재의 굴절률 분포를 측정하고, 측정된 굴절률 분포를 파워 요소를 보정하기 전이나 후에 광측 방향으로 회전 대칭 요소 및 비회전 대칭 요소로 분리하여 회전 대칭 요소를 추가로 2차/4차 요소 보정하는 것으로 이루어진다. 이러한 포괄적인 평가를 수행하는 데에 있어서, 광리소그래피 광학 부재는 미세하게 인식될 수 있으며, 섬세한 노광-전송 패턴(예를 들어, 0.3㎛ 이하의 선폭)이 제공된다.

Description

광리소그래피용 광학 부재 및 광학 부재의 평가 방법.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제11도는 본 발명에 따른 리소그래피 실리카 유리의 제조 공정을 도시한 개략도,
제12도는 본 발명에 따르는 광학 부재를 사용하여 제조한 투영 렌즈 시스템을 사용하는 리소그래피 장치를 도시한 개략도.

Claims (14)

  1. 광학 부재의 파선 수차를 측정하는 제1단계; 및 제1단계에서 측정된 파선 수차를 광축 방향과 회전 대칭 요소 및 비회전 대칭 요소로 분리하는 제2단계로 이루어지며, 광학 부재의 굴절률의 균일성을 평가하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 평가 방법.
  2. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 비회전 대칭 요소의 이승평균평방근치가 시험광의 파장의 0.004배 이하임을 특징으로 하는 광학 부재.
  3. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 비회전 대칭 요소의 이승평균평방근치가 시험광의 파장의 0.040배 이하인 광학 부재로 이루어짐을 특징으로 하는 광리소그래피 장치.
  4. 광학 부재의 파선 수차를 측정하는 제1단계; 제1단계에서 측정된 파선 수차를 광축 방향에서 회전 대칭 요소 및 비회전 대칭 요소로 분리하는 제2단계; 및 회전 대칭 요소의 2차 및 4차 요소를 제거하기 위하여 보정을 수행하는 제3단계로 이루어지며, 광학 부재의 굴절률이 균일성을 평가하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 평가 방법.
  5. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 회전 대칭 요소로부터 2차 및 4차 요소를 제거한 후의 이승평균평방근치가 시험광의 파장의 0.005배 이하임을 특징으로 하는 광학 부재.
  6. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 회전 대칭 요소로부터 2차 및 4차 요소를 제거한 후의 이승평균평방근치가 시험광의 파장의 0.005배 이하인 광학 부재로 이루어짐을 특징으로 하는 광리소그래피 장치.
  7. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 파워 요소를 제거한 후에 회전 대칭 요소로부터 2차 및 4차 요소를 제거하기 위한 보정에서 사용하는 2차/4차 보정 곡선의 PV값이 시험광의 파장의 0.024배 이하임을 특징으로 하는 광학 부재.
  8. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 파워 요소를 제거한 후에 회전 대칭 요소로부터 2차 및 4차 요소를 제거하기 위한 보정에서 사용하는 2차/4차 보정 곡선의 PV값이 시험광의 파장의 0.024배 이하인 광학 부재로 이루어짐을 특징으로 하는 광리소그래피 장치.
  9. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 2차 요소를 제거하기 위해 보정하고 광축 방향에서 비회전 대칭 요소를 분할한 후에 광축에서 회전 대칭 요소가 회전 대칭 중심으로 부터의 반경 방향에 반경의 약 70% 위치에서 최고값을 가짐을 특징으로 하는 광학 부재.
  10. 기저 물질로부터 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재를 파선 수차의 광축 방향의 2차 요소를 제거하기 위한 보정을 하고 광축 방향의 비회전 대칭 요소를 분리한 후에 광축 방향에서 회전 대칭 요소를 갖는 모양으로 절단하는 단계로 이루어지며, 이 때에 회전 대칭 요소는 회전 대칭 중심으로부터 반경 방향에서 반경의 약 70%인 위치에서 최고값을 가짐을 특징으로 하는 광학 부재 제조 방법.
  11. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 2차 요소를 제거하기위한 보정하고 광축 방향에서 비회전 대칭 요소를 분할한 후에 광축 방향에서 회전 대칭 요소를 갖는 광학부재로 이루어지며, 여기에서, 회전 대칭 요소가 회전 대칭 중심으로부터의 반경 방향에 반경의 약 70%인 위치에서 최고값을 갖는 짐을 특징으로 하는 광리소그래피 장치.
  12. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 2차 요소를 제거하기 위한 보정하고 광축 방향의 비회전 대칭 요소를 분리한 후에 광축 방향에서 회전 대칭 요소가 회전 대칭 중심을 포함하는 3개의 최고값을 가짐을 특징으로 하는 광학 부재.
  13. 기저 물질로부터 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재를 파선 수차의 광축 방향에서 2차 요소를 제거하기 위해 보정하고 광축 방향에서 비회전 대칭 요소를 분리한 후에 광축 방향에서 회전 대칭 요소를 갖는 모양으로 절단하는 단계로 이루어지며, 이 때에 회전 대칭 요소는 회전 대칭 중심을 포함하는 3개의 최고값을 가짐을 특징으로 하여 광학 부재를 제조하는 방법.
  14. 400nm 이하의 파장을 갖는 빛에 대한 광학 부재로서, 파선 수차의 광축 방향에서 2차 요소를 제거하기 위해 보정하고 광축 방향에서 비회전 대칭 요소를 분리한 후에 광축 방향에서 회전 대칭 요소를 갖는 광학 부재로 이루어지며, 여기에서 회전 대칭 요소가 회전 대칭의 중심을 포함하는 3개의 최고값을 가짐을 특징으로 하는 광리소그래피 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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