KR950704759A - 패턴발생장치용 라스터라이저(rasterizer for a pattern generation apparatus) - Google Patents
패턴발생장치용 라스터라이저(rasterizer for a pattern generation apparatus)Info
- Publication number
- KR950704759A KR950704759A KR1019950701739A KR19950701739A KR950704759A KR 950704759 A KR950704759 A KR 950704759A KR 1019950701739 A KR1019950701739 A KR 1019950701739A KR 19950701739 A KR19950701739 A KR 19950701739A KR 950704759 A KR950704759 A KR 950704759A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pixel
- rasterizer
- generating
- pattern
- geometric
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/20—Drawing from basic elements, e.g. lines or circles
- G06T11/203—Drawing of straight lines or curves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Image Generation (AREA)
Abstract
본 발명은 패턴발생장치(503)에 대해 픽셀값을 발생시키는 라스터라이저에 관한 것이다. 픽셀값은 패턴발생장치의 인쇄기구(104)를 구동시킨다. 라스터라이저는 인쇄될 패턴을 정의한 화일을 수신하고, 패턴을 서브프레임으로 분할하고, 각각의 서브 프레임을 라스터라이징하고, 그리고 음영으로된 픽셀값의 패턴발생장치로의 설정을 좌표화 한다. 본 발명은 라스터라이저는 화일을 일이상의 서브프레임의 픽셀로 분할하고 변화하는 호스트 프로세서 수단(501); 각각의 서브프레임을 라스터라이징하는 기화엔진(505-508); 픽셀 음영값을 패턴발생 시스템을 제공하는 빔보드(512-513); 호스트 프로세서 수단을 기하엔진 및 빔보드에 결합시키는 직렬버스; 및 각각의 기하엔진을 각각의 빔보드에 결합시키는 픽세버스(514)로 주요 구성된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2a도는 본 발명의 본 바람직한 실시예에 의해 이용된 시간지연의 도입이후 마지막 화상플레인에서의 빔편성을 예시하는 도면, 제5도는 본 발명의 본 바람직한 실시예의 라스터라이저(rasterizer)를 예시한 블록도.
Claims (14)
- 패턴을 표현하는 다수의 기하 프리미티브를 갖춘 파이로부터 픽셀강도/값을 발생시키는 라스터라이저에 있어서, a)상기 화일을 일이상의 서브프레임의 픽셀로 분할하고 변환하는 호스트 프로세서 수단; b)그 각각이 서브프레임의 픽셀값을 발생시키는 다수의 기하엔진; c)상기 픽셀값을 패턴발생 시스템으로 제공하는 다수의 인터페이스 모듈; d)상기 호스트 프로세서 수단을 상기 다수의 기하엔진의 각각 및 상기 다수의 인터페이스 모듈의 각각에 결합시키는 제1결합수단; 및 e)상기 다수의 기하엔진의 각각을 상기 다수의 인터페이스 모듈의 각각에 결합시키는 제2결합수단으로 구성되는 것을 특징으로하는 라스터라이저.
- 제1항에 있어서, 상기 다수의 기하엔진의 각각은 a)서브프레임을 수신하고 그것이 유효한지를 결정하는 제1제어수단; b)상기 제1제어수단에 결합되고, 기하프리미티브를 저장하는 제1기억수단; c)상기 제1기억수단에 결합되고, 기하프리미티브의 표현을 다수의 픽셀값으로 렌더링 하는 리스터라이징 수단; 및 d)상기 라스터라이징 수단에 결합되고, 음영으로된 픽셀값의 상기 다수의 인터페이스 모듈로의 전송을 제어하는 루팅수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 라이터라이저.
- 제2항에 있어서, 상기 라스터라이징 수단은 다수의 렌더링 프로세서를 더 포함하고, 각각의 상기 렌더링 프로세서는 소정 갯수의 픽셀을 렌더링하는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제3항에 있어서, 각각의 상기 렌더링 프로세서는 a)디지탈 미분 해석기; b)픽셀 캐시; 및 c)45° 사다리꼴형 가속기로 구성되는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제4항에 있어서, 상기 45° 사다리꼴형 가속기는 대략 45°인 사다리꼴형을 렌더링 하는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제4항에 있어서, 상기 45° 사다리꼴형 가속기는 44° 내지 46° 범위의 사다리꼴형을 랜더링하는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제1항에 있어서, 상기 다수의 인터페이스 모듈의 각각은 a)픽셀값을 저장하는 픽셀기억수단; b)상기 픽셀기억수단에서 픽셀값의 기억을 제어하는 기억제어수단; c)픽셀 음영값의 상기 패턴발생 시스템으로의 출력을 제어하는 출력제어수단; 및 d)상기 출력제어수단을 상기 인쇄시스템에 접속시키는 접속수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제1항에 있어서, 상기 제1결합수단은 직렬버스인 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제8항에 있어서, 상기 직렬버스는 다수의 서브버스를 더 포함하고, 각각의 상기 서브 버스는 일이상의 상기 기하엔진 및 일이상의 상기 인터페이스 모듈을 상기 호스트 프로세서 수단과 결합시키는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제1항에 있어서, 상기 제2결합수단은 버스수단인 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 제10항에 있어서, 상기 버스수단은 다수의 서브버스로 구성되고, 각각의 상기 서브버스는 소정 군의 상기 기하엔진을 각각의 상기 인터페이스 모듈과 결합시키는 것을 특징으로 하는 라스터라이저.
- 패턴발생 시스템에 대해 발생될 패턴을 정의한 기하프리미티브를 갖춘 화일로부터 픽셀 음영값을 발생시키는 방법에 있어서, a)기하 프리미티브 및 배치 명령을 포함한 화일을 수신하는 단계; b)상기 화일을 인쇄될 상기 패턴부를 정의하는 다수의 서브프레임으로 분할하는 단계; c)각각의 서브프레임을 소정순서로 렌더링 하는 단계; 및 d)각각의 서브프레임에 대해 상기 렌더링된 픽셀값을 상기 패턴발생시스템의 개개의 인쇄수단에 대응하는 위치에 저장하는 단계로 구성되며, 상기 각각의 서브프레임을 소정순서로 렌더링하는 단계는 - 픽셀에 대해 서브픽셀 격자를 발생시키는 단계; -그 각각이 상기 서브픽셀 격자상에 N샘플 서브픽셀을 가지는 샘플링된 서브픽셀 격자의 집합을 발생시키는 단계; -상기 선과 소정관계로 샘플 서브픽셀의 수 X를 계수하는 단계; -상기 픽셀 음영값을 값 X/N으소 발생시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 픽셀에 대한 강도 값을 결정하는 방법에 있어서 a)픽셀에 대해 서브픽셀 격자를 발생하는 단계; b)그 각각이 상기 서브픽셀 격자상에 N샘플 서브픽셀을 가지는 샘플링된 서브픽셀 격자의 집합을 발생시키는 단계; c)상기 샘플링된 서브픽셀 격자의 집합중 하나를 선택하는 단계; d)한 선을 상기 서브픽셀 격자에 매핑시키는 단계; e)상기 선과 소정관계로 샘플 서브픽셀의 수 X를 계수하는 단계; 및 f)상기 픽셀 음영값을 값 X/N으로 발생시키는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
- 제13항에 있어서, 상기 샘플링된 서브픽셀 격자의 집합을 발생시키는 단계는 서브픽셀의 조합을 결정하는 단계를 더 포함하고, 이때 어떤 2개의 샘플 서브픽셀도 동일 행상에 또는 동일 열에 있지 않는 것을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US97029392A | 1992-11-02 | 1992-11-02 | |
US07/970293 | 1992-11-02 | ||
PCT/US1993/010137 WO1994010633A1 (en) | 1992-11-02 | 1993-10-22 | Rasterizer for a pattern generation apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950704759A true KR950704759A (ko) | 1995-11-20 |
KR100310279B1 KR100310279B1 (ko) | 2001-12-17 |
Family
ID=25516715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950701739A KR100310279B1 (ko) | 1992-11-02 | 1993-10-22 | 패턴발생장치용라스터라이저 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5533170A (ko) |
EP (1) | EP0664033B1 (ko) |
JP (1) | JP3331339B2 (ko) |
KR (1) | KR100310279B1 (ko) |
AU (1) | AU5410294A (ko) |
CA (1) | CA2148121A1 (ko) |
DE (1) | DE69331547T2 (ko) |
WO (1) | WO1994010633A1 (ko) |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AUPM768794A0 (en) * | 1994-08-25 | 1994-09-15 | Wright Technologies Pty Ltd | Data representation and access method |
AU689633B2 (en) * | 1994-08-25 | 1998-04-02 | Wright Technologies NV | Data representation and access method |
JP2887572B2 (ja) * | 1995-04-07 | 1999-04-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像出力装置および画像処理方法 |
SE509062C2 (sv) * | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US6786420B1 (en) | 1997-07-15 | 2004-09-07 | Silverbrook Research Pty. Ltd. | Data distribution mechanism in the form of ink dots on cards |
US6618117B2 (en) | 1997-07-12 | 2003-09-09 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image sensing apparatus including a microcontroller |
US7110024B1 (en) | 1997-07-15 | 2006-09-19 | Silverbrook Research Pty Ltd | Digital camera system having motion deblurring means |
US6690419B1 (en) | 1997-07-15 | 2004-02-10 | Silverbrook Research Pty Ltd | Utilising eye detection methods for image processing in a digital image camera |
US6879341B1 (en) | 1997-07-15 | 2005-04-12 | Silverbrook Research Pty Ltd | Digital camera system containing a VLIW vector processor |
US6624848B1 (en) | 1997-07-15 | 2003-09-23 | Silverbrook Research Pty Ltd | Cascading image modification using multiple digital cameras incorporating image processing |
US20040119829A1 (en) | 1997-07-15 | 2004-06-24 | Silverbrook Research Pty Ltd | Printhead assembly for a print on demand digital camera system |
SE9800665D0 (sv) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
WO2000004494A1 (en) * | 1998-07-17 | 2000-01-27 | Intergraph Corporation | Graphics processing system with multiple strip breakers |
AUPP702098A0 (en) | 1998-11-09 | 1998-12-03 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image creation method and apparatus (ART73) |
US6377265B1 (en) | 1999-02-12 | 2002-04-23 | Creative Technology, Ltd. | Digital differential analyzer |
AUPQ056099A0 (en) | 1999-05-25 | 1999-06-17 | Silverbrook Research Pty Ltd | A method and apparatus (pprint01) |
SE516914C2 (sv) * | 1999-09-09 | 2002-03-19 | Micronic Laser Systems Ab | Metoder och rastrerare för högpresterande mönstergenerering |
SE516347C2 (sv) * | 1999-11-17 | 2001-12-17 | Micronic Laser Systems Ab | Laserskanningssystem och metod för mikrolitografisk skrivning |
US6819450B1 (en) | 2000-03-28 | 2004-11-16 | Applied Materials, Inc. | Enhanced edge resolution and critical dimension linearity in lithography |
US6724002B2 (en) | 2001-01-31 | 2004-04-20 | Applied Materials, Inc. | Multiple electron beam lithography system with multiple beam modulated laser illumination |
US7420710B2 (en) * | 2001-07-11 | 2008-09-02 | Applied Materials, Inc. | Optical proximity correction in raster scan printing based on grayscale manipulation of the bitmap |
US7034963B2 (en) * | 2001-07-11 | 2006-04-25 | Applied Materials, Inc. | Method for adjusting edges of grayscale pixel-map images |
US6812474B2 (en) * | 2001-07-13 | 2004-11-02 | Applied Materials, Inc. | Pattern generation method and apparatus using cached cells of hierarchical data |
JP4324645B2 (ja) * | 2001-08-21 | 2009-09-02 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
US7302111B2 (en) * | 2001-09-12 | 2007-11-27 | Micronic Laser Systems A.B. | Graphics engine for high precision lithography |
JP2005502914A (ja) * | 2001-09-12 | 2005-01-27 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | Slmを用いて改善された方法と装置 |
US6618185B2 (en) | 2001-11-28 | 2003-09-09 | Micronic Laser Systems Ab | Defective pixel compensation method |
US7106490B2 (en) * | 2001-12-14 | 2006-09-12 | Micronic Laser Systems Ab | Methods and systems for improved boundary contrast |
SE0200864D0 (sv) | 2002-03-21 | 2002-03-21 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for printing large data flows |
US7167185B1 (en) | 2002-03-22 | 2007-01-23 | Kla- Tencor Technologies Corporation | Visualization of photomask databases |
US7345782B2 (en) * | 2002-05-13 | 2008-03-18 | Texas Instruments Incorporated | Efficient implementation of raster operations flow |
KR20050086953A (ko) * | 2003-01-15 | 2005-08-30 | 마이크로닉 레이저 시스템즈 에이비 | 결함 픽셀을 탐지하는 방법 |
JP4068081B2 (ja) | 2004-05-26 | 2008-03-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線描画装置 |
US7407252B2 (en) | 2004-07-01 | 2008-08-05 | Applied Materials, Inc. | Area based optical proximity correction in raster scan printing |
US7529421B2 (en) | 2004-07-01 | 2009-05-05 | Applied Materials, Inc. | Optical proximity correction in raster scan printing based on corner matching templates |
US7278129B2 (en) * | 2004-09-09 | 2007-10-02 | Micronic Laser Systems Ab | Healing algorithm |
US7425713B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-09-16 | Arradiance, Inc. | Synchronous raster scanning lithographic system |
US7965373B2 (en) * | 2005-06-28 | 2011-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load |
JP4617210B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2011-01-19 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 描画装置及びそれを搭載した露光装置 |
JP4661854B2 (ja) * | 2007-11-09 | 2011-03-30 | 株式会社デンソー | 検査システム及びプログラム |
JP5134944B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2013-01-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び描画方法 |
KR101657218B1 (ko) * | 2008-12-05 | 2016-09-13 | 마이크로닉 마이데이타 에이비 | 마이크로-리소그래피 인쇄에서의 그레디언트 기반 이미지 리샘플링 |
US8539395B2 (en) | 2010-03-05 | 2013-09-17 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
US8473877B2 (en) * | 2011-09-06 | 2013-06-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Striping methodology for maskless lithography |
JP2013135194A (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Canon Inc | 描画装置及び物品の製造方法 |
US10957094B2 (en) * | 2013-03-29 | 2021-03-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Hybrid render with preferred primitive batch binning and sorting |
US10169906B2 (en) | 2013-03-29 | 2019-01-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Hybrid render with deferred primitive batch binning |
US20160284044A1 (en) * | 2015-03-24 | 2016-09-29 | Applied Materials, Inc. | Low-latency high bandwidth data path |
US10410831B2 (en) | 2015-05-12 | 2019-09-10 | Ims Nanofabrication Gmbh | Multi-beam writing using inclined exposure stripes |
US10325756B2 (en) | 2016-06-13 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for compensating pattern placement errors caused by variation of pattern exposure density in a multi-beam writer |
US10325757B2 (en) * | 2017-01-27 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Advanced dose-level quantization of multibeam-writers |
US10522329B2 (en) | 2017-08-25 | 2019-12-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus |
US11569064B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-01-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for irradiating a target using restricted placement grids |
US10651010B2 (en) | 2018-01-09 | 2020-05-12 | Ims Nanofabrication Gmbh | Non-linear dose- and blur-dependent edge placement correction |
US10840054B2 (en) | 2018-01-30 | 2020-11-17 | Ims Nanofabrication Gmbh | Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering |
US11099482B2 (en) | 2019-05-03 | 2021-08-24 | Ims Nanofabrication Gmbh | Adapting the duration of exposure slots in multi-beam writers |
KR20210132599A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 대전 입자 소스 |
WO2024073121A1 (en) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | DivergenTech LLC | Systems and methods for improved printing |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4668995A (en) * | 1985-04-12 | 1987-05-26 | International Business Machines Corporation | System for reproducing mixed images |
US4796038A (en) * | 1985-07-24 | 1989-01-03 | Ateq Corporation | Laser pattern generation apparatus |
IE852259L (en) * | 1985-09-13 | 1987-03-13 | Scottish & Newcastle Breweries | A method and apparatus for constructing, storing and¹displaying characters |
US4806921A (en) * | 1985-10-04 | 1989-02-21 | Ateq Corporation | Rasterizer for pattern generator |
US4949280A (en) * | 1988-05-10 | 1990-08-14 | Battelle Memorial Institute | Parallel processor-based raster graphics system architecture |
US4958303A (en) * | 1988-05-12 | 1990-09-18 | Digital Equipment Corporation | Apparatus for exchanging pixel data among pixel processors |
US4956650A (en) * | 1988-08-26 | 1990-09-11 | Ateq Corporation | Pattern generation system |
US5103101A (en) * | 1991-03-04 | 1992-04-07 | Etec Systems, Inc. | Multiphase printing for E-beam lithography |
-
1993
- 1993-10-22 KR KR1019950701739A patent/KR100310279B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-10-22 JP JP51119194A patent/JP3331339B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-22 WO PCT/US1993/010137 patent/WO1994010633A1/en active IP Right Grant
- 1993-10-22 AU AU54102/94A patent/AU5410294A/en not_active Abandoned
- 1993-10-22 CA CA002148121A patent/CA2148121A1/en not_active Abandoned
- 1993-10-22 EP EP93924401A patent/EP0664033B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-22 DE DE69331547T patent/DE69331547T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-11-22 US US08/344,417 patent/US5533170A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3331339B2 (ja) | 2002-10-07 |
WO1994010633A1 (en) | 1994-05-11 |
DE69331547T2 (de) | 2003-04-24 |
CA2148121A1 (en) | 1994-05-11 |
AU5410294A (en) | 1994-05-24 |
EP0664033B1 (en) | 2002-02-06 |
US5533170A (en) | 1996-07-02 |
DE69331547D1 (de) | 2002-03-21 |
EP0664033A1 (en) | 1995-07-26 |
KR100310279B1 (ko) | 2001-12-17 |
EP0664033A4 (en) | 1995-11-08 |
JPH08505003A (ja) | 1996-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950704759A (ko) | 패턴발생장치용 라스터라이저(rasterizer for a pattern generation apparatus) | |
US6184891B1 (en) | Fog simulation for partially transparent objects | |
KR100504421B1 (ko) | 3차원 그래픽에서 속성을 보간하기 위한 방법 및 장치 | |
KR100800240B1 (ko) | 마이크로미러 어레이에서 기하 형태를 개별 미러들에 대한 구동 전압으로 변환하는 방법 | |
US4825391A (en) | Depth buffer priority processing for real time computer image generating systems | |
US6778177B1 (en) | Method for rasterizing a graphics basic component | |
DE68927471T2 (de) | Verfahren zur Schattierung eines graphischen Bildes | |
US5278949A (en) | Polygon renderer which determines the coordinates of polygon edges to sub-pixel resolution in the X,Y and Z coordinates directions | |
JP3759971B2 (ja) | 3次元像を陰影付けする方法 | |
KR930016909A (ko) | 화소 영상 렌더링 방법 및 컴퓨터 그래픽 디스플레이 시스템 | |
US6919895B1 (en) | Texture caching arrangement for a computer graphics accelerator | |
KR100567204B1 (ko) | 픽셀 당 mip 매핑 및 3선형 필터링 방법 및 장치 | |
GB2561557A (en) | Method of and apparatus for processing graphics | |
EP0725367A1 (en) | Improvements relating to computer 3D rendering systems | |
GB2159308A (en) | High speed memory system | |
US10395401B2 (en) | Method for efficient parallel visualizing vector graphic | |
EP0624849A2 (en) | System and method of rendering curves | |
JP2002520748A (ja) | リアルタイム・ボリューム処理およびユニバーサル3dレンダリングのための装置および方法 | |
KR930001091A (ko) | 디지탈 반명암 시스템에 대해 요구된 메모리 공간의 자료정리를 위한 방법 및 장치 | |
JP2006235839A (ja) | 画像処理装置および画像処理方法 | |
US20030122829A1 (en) | Efficient movement of fragment stamp | |
EP0751486B1 (en) | Method and apparatus for rendering and mapping images | |
US4591998A (en) | Dynamic bar pattern method | |
KR970059982A (ko) | 디스플레이용의 피사체를 래스터화하는 방법 및 장치와, 머신에 의해 판독 가능한 프로그램 저장 장치 | |
JPH10247241A (ja) | 畳み込み走査ラインレンダリング |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20040930 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |