KR950703851A - 안과용 조성물에서의 아미도아민의 사용방법(use of amidoamines in ophthalmic compositions) - Google Patents

안과용 조성물에서의 아미도아민의 사용방법(use of amidoamines in ophthalmic compositions) Download PDF

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Abstract

본 발명은 콘택트 렌즈를 소독하고, 안과용 조성물을 방부시키기 위한 특징 아미도아민의 사용에 관한 것이다. 본 발명은 또한 소독제 또는 방부제로서 상기 화합물을 함유하는 안과용 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 사용되는 아미노아민은 잠재적 항박테리아 및 향균 활성을 갖고, 안과용 조성물에 사용되는 무기 이온 및 다른 재료와 화학적으로 양립할 수 있다.

Description

안과용 조성물에서의 아미도아민의 사용방법(USE OF AMIDOAMINES IN OPHTHALMIC COMPOSITIONS)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 미생물 오염으로부터 안과용 조성물을 방부시키기 위한, 수성 안과용 조성물 및 0.00001 내지 0.05 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염으로 이루어진 방부된 약제 조성물 :
    상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
  2. 제1항에 있어서, n 이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고;R2가 메틸, 에틸 또는 히드록 시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3 이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
  6. 0.00005 내지 0.1 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염, 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될수 있는 비히클로 이루어진, 콘택트 렌즈를 소독하기 위한 안과용 조성물;
    상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
  7. 제6항에 있어서, n 이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제7항에 있어, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제6항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제6항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제6항에 있어서, 0.00005 내지 0.01 중량%의 폴리쿼터늄-1을 더 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  12. 렌즈를 소독시키기에 충분한 시간동안, 0.00005 내지 0.1 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될 수 있는 비히클로 이루어진 항생 조성물에 렌즈를 침지시키는 것으로 이루어지는, 콘택트 렌즈를 소독시키기 위한 방법;
    상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
  13. 제12항에 있어서, n이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제12항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제12항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제12항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 방법.
  17. 제12항에 있어서, 0.00005 내지 0.01 중량%의 폴리쿼터늄 -1을 더 함유함을 특징으로 하는 방법.
  18. 미생물 오염으로부터 조성물을 방부시키기 위해, 0.00001 내지 0.05 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될수 있는 염을 조성물에 포함시키는 것으로 이루어지는 안과용 조성물을 방부시키는 방법.
    상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
  19. 제18항에 있어서, n이 2내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제19항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제18항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제18항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
  23. 렌즈를 세척시키기에 효과적인 양의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될 수 있는 비히클로 이루어진 약제 조성물과 렌즈의 표면을 접촉시키는 것으로 이루어지는, 콘택트 렌즈를 세척하는 방법;
    상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
  24. 제23항에 있어서, 세척 유효량의 안과학적으로 허용될 수 있는 계면활성제를 더 함유함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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