KR950033693A - 주사형 노광 장치 - Google Patents
주사형 노광 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR950033693A KR950033693A KR1019950010013A KR19950010013A KR950033693A KR 950033693 A KR950033693 A KR 950033693A KR 1019950010013 A KR1019950010013 A KR 1019950010013A KR 19950010013 A KR19950010013 A KR 19950010013A KR 950033693 A KR950033693 A KR 950033693A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- photosensitive substrate
- positional relationship
- relative
- projection optical
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
본 발명은 마스크를 조명하고 이 마스크의 상을 투영 광학 시스템을 거쳐서 감광 기판상에 투영함과 동시에 상기 마스크와 상기 감광 기판을 상기 투영 광학 시스템에 대해서 주사시키는 것에 의해, 상기 마스크의 전체면을 상기 감광 기판상에 노광하는 주사형 노광 장치에 관한 것이고, 상기 주사형 노광 장치는 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 검출하는 위치 검출기와, 상기 위치 검출기에 의해 얻어진 위치 정보를 기억하는 기어 장치와, 상기 기억 장치로부터 판독된 위치 정보에 의거해서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 보정하는 위치 보정 장치 및, 상기 마스크와 상기 감광 기판이 상기 투영 광학 시스템의 투영 영역을 통과하여 노광 시작 위치로 이동될 때 상기 위치 검출기에 의해 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치관계를 검출하고, 상기 마스크와 상기 감광 기판이 상기 노광 시작 위치에 정지될 때 및/또는 상기 노광시에 상기 위치 보정 장치에 의해 상기 기억 장치로부터 판독된 위치 정보에 의거해서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 보정하는 제어기를 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 주사형 노광 장치의 일 실시예를 도시한 개략 블록선도.
Claims (11)
- 마스크를 조명하고 이 마스크의 상을 투영 광학 시스템을 거쳐서 감광 기판상에 투영함과 동시에 상기 마스크와 상기 감광 기판을 상기 투영 광학 시스템에 대해서 주사시키는 것에 의해, 상기 마스크의 전체면을 상기 감광 기판상에 노광하는 주사형 노광 장치에 있어서, 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치관계를 검출하는 위치 검출기와, 상기 위치 검출기에 의해 얻어진 위치 정보를 기억하는 기억 장치와, 상기 기억 장치로부터 판독된 위치 정보에 의거해서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 보정하는 위치 보정 장치 및, 상기 마스크와 상기 감광 기판이 상기 투영 광학 시스템의 투영 영역을 통과하여 노광 시작 위치로 이동될 때 상기 위치 검출기에 의해 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 검출하고, 상기 마스크와 상기 감광 기판이 상기 노광 시작 위치에 정지될때 또는 상기 노광시에 상기 위치 보정 장치에 의해 상기 기억 장치로부터 판독된 위치 정보에 의거해서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치 관계를 보정하는 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 위치 정보는 상기 투영 광학 시스템의 광측에 수직한 방향에 관한 제1위치 정보와 상기 투영 광학 시스템의 광측 방향에 관한 제2위치 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1위치 정보는 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치이고, 상기 제2위치 정보는 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 광축 방향에 관한 상대 위치와 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 경사량인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 제어기는 상기 마스크와 상기 감광 기판이 상기 노광 시작 위치에 정지될 때 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치에 의거해서 상기 위치 보정 장치를 제어하고, 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 위치 관계에서 상기 투영 광학 시스템의 광축에 수직한 방향에 관한 위치 관계를 보정하며, 상기 제어기는 상기 노광 중에 상기 마스크와 상기 감광 기판 사이에서 상기 광축 방향에 관한 상대 위치 또는 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 경사량에 의거해서 상기 위치 보정 장치를 제어하고, 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 위치관계에서 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 관한 위치 관계를 보정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 기억 장치는 상기 위치 검출기에 의해 검출된 상기 주파 방향에 관한 임의 위치에서 상기 위치 정보에 의거하여 얻어진 데이타 맵을 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 위치 보정 장치는 상기 데이타 맵으로부터 판독된 상기 위치 정보에 의거하여 구해지는 상기 마스크면에 대해 존재할 평균적인 상기 감광 기판면 또는 상기 감광 기판면에 대해 존재할 평균적인 상기 마스크면과 일치하도록 상기 감광 기판과 상기 마스크간의 위치관계를 상기 노광 시작 위치에 정지하고 있을 때 미리 보정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 위치 보정 장치는 상기 데이타 맵으로부터 판독된 상기 위치 정보에 의거해서 상기 임의 위치에 보정값을 나타내는 보정 맵을 작성하고, 상기 보정 맵에 따라서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 위치 관계를 상기 노광 중에 연속적으로 보정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
- 제5항에 있어서, 상기 위치 보정 장치는 상기 데이타 맵으로부터 판독된 상기 위치 정보에 의거해서 상기 임의 위치에 보정값을 나타내는 보정 맵을 작성하고, 상기 보정맵에 따라서 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 위치 관계와 상기 위치 검출기에 의해 실제로 검출된 위치 관계를 상기 노광 중에 연속적으로 보정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 마스크상의 복수 영역을 각각 조명하고 이 복수 영역의 각 상을 복수의 투영 광학 시스템을 거쳐서 감광 기판상에 투영함과 동시에 상기 마스크와 상기 감광 기판을 상기 복수의 투영 광학 시스템에 대해서 주사시키는 것에 의해, 상기 마스크의 전체면을 상기 감광 기판상에 노광하는 주사형 노광 장치에 있어서, 상기 노광보다 먼저 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 간극을 상기 마스크와 상기 감광 기판상의 임의 위치에서 측정하는 측정 장치와, 상기 측정 장치에 의해 측정된 상기 상대적인 간극과 이와 관련한 위치를 기억하는 기억 장치와, 상기 마스크 또는 상기 감광 기판을 구동하고 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 위치관계를 보정하는 위치 보정 장치 및, 상기 노광시에 기억된 상기 상대적인 간극과 상기 위치에 의거해서 상기 마스크의 상이 투영되는 상기 복수의 영역에 대해 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 상대적인 간극이 소정 관계를 만족하도록 상기 위치 보정 장치를 제어하는 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 기억 장치는 상기 마스크와 상기 감광 기판의 주사 방향에 대해서 상기 복수의 투영 광학 시스템의 각 결상면의 위치에 관한 정보를 기억하고, 상기 제어기는 상기 복수의 투영 광학 시스템의 초점 거리간의 차이에 의거해서 상기 제어를 실행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 위치 보정 장치는 상기 마스크면 또는 상기 감광 기판면과 직교하는 방향과, 상기 주사 방향의 중심축에 관한 제1회전 방향 및, 상기 주사 방향과 상기 직교 방향에 수직한 방향의 중심축에 관한 제2회전 방향 중 적어도 하나를 구동 방향으로 하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6114782A JPH07302754A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 走査型露光装置 |
JP94-114782 | 1994-04-28 | ||
JP94-125691 | 1994-05-16 | ||
JP6125691A JPH07307284A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 走査型露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950033693A true KR950033693A (ko) | 1995-12-26 |
KR100346535B1 KR100346535B1 (ko) | 2002-11-13 |
Family
ID=66523613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950010013A KR100346535B1 (ko) | 1994-04-28 | 1995-04-27 | 주사형노광장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100346535B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100780761B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2007-11-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 마스크 프로세스를 통한 위치 보정 제어 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101882395B1 (ko) * | 2016-11-16 | 2018-07-26 | 주식회사 엠에스텍 | 기판 위치정렬 방법 및 그 방법을 사용하는 합착기 |
-
1995
- 1995-04-27 KR KR1019950010013A patent/KR100346535B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100780761B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2007-11-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 마스크 프로세스를 통한 위치 보정 제어 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100346535B1 (ko) | 2002-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950014931A (ko) | 스캐닝형 노출 장치 및 노출 방법 | |
KR970049074A (ko) | 노광장치 및 노광방법 | |
US20090097002A1 (en) | Exposure device | |
KR950034473A (ko) | 노광장치 및 방법 | |
KR970012018A (ko) | 면위치검출방법 및 이것을 이용한 주사노광방법 | |
KR970072024A (ko) | 투영노광장치 | |
KR960042227A (ko) | 투영노광장치 | |
KR950001869A (ko) | 노광장치와 이것을 이용한 디바이스제조방법 | |
KR970028831A (ko) | 투영 노광 장치. 투영상의 위치 어긋남 보정방법 및 투영 광학계의 결상 특성을 구하는 방법 | |
KR970059840A (ko) | 주사형 투사노광장치 및 이를 사용한 소자제조방법 | |
KR950009366A (ko) | 투영 노광 방법 및 장치 | |
KR960005918A (ko) | 투영광학계의 코마수차검출방법 | |
JP4871145B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
KR980005329A (ko) | 투영노광장치 | |
KR950033693A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
KR960026109A (ko) | 위치 맞춤 장치 및 방법 | |
JP5235062B2 (ja) | 露光装置 | |
KR960015096A (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
KR970002484A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
JPH07161614A (ja) | 走査露光方法 | |
JP4679999B2 (ja) | 露光装置 | |
KR960015753A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
JPH07302754A (ja) | 走査型露光装置 | |
KR950020975A (ko) | 스캐닝 노출방법 | |
KR960032583A (ko) | 주사노광방법 및 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120621 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130621 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |