KR950029244A - 신규한 폴리엔계 화합물, 그를 함유하는 약제학 및 미용상의 조성물 및 용도 - Google Patents

신규한 폴리엔계 화합물, 그를 함유하는 약제학 및 미용상의 조성물 및 용도 Download PDF

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Abstract

신규한 폴리엔계 화합물, 그를 함유하는 약제학 및 미용상의 조성물 및 본 발명은 하기 일반식 (Ⅰ)로 나타내는 신규한 폴리엔계 화합물 :
및 의학 또는 수의학 약품 (특히, 피부, 류마티스성, 호흡, 심혈관 및 안과질환) 으로 사용되는 약제학적 조성물, 또는 선택적으로 미용 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

신규한 폴리엔계 화합물, 그를 함유하는 약제학 및 미용상의 조성물 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 일반Ⅰ(a)의 화합물을 수득하는 경로를 나타내며, 제2도는 일반Ⅰ(b) 및 Ⅰ(c)의 화합물을 수득하는 경로를 나타낸다.

Claims (24)

  1. 하기의 일반식 (Ⅰ)에 대응함을 특징으로 하는 폴리엔계 화합물과 그의 염 및 광학적, 기하학적, 이성질체 :
    〔상기 식에서, R1은ㅡCH3라디칼, ―CH2―O―R2라디칼, ㅡCH2―O―CO―R10라디칼, 또는 ―CO―R11라디칼(식중, 라디칼 R9, R10및 하기에 나타낸 의미를 갖는다)을 나타내며, R2은 수소 원자 또는 저급 알킬라디칼을 나타내며, R3은 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼 을 나타내며, R4은 수소 원자를 나타내며,R5은 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼 을 나타내며, R6은 수소 원자, 탄소수 1∼20 의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼 ,ㅡO―CH2―O―CH3라디칼, 또는 ―O―R13라디칼,(식중, R13은 하기에 나타낸 의미를 갖는다)을 나타내며, R7및 R8은 각각 독립적으로 (ⅰ) 수소 원자, (ⅱ)탄산수 1∼20의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼 ,(ⅲ) 시클로지방족 라디칼 , (ⅳ) ㅡO―CH2―O―CH2ㅡCH2―O―CH3라디칼, (ⅴ) ―O―R13라디칼 , 또는 (ⅵ)ㅡS(O)11R13라디칼 (식중 R13및 n은 하기에 나타낸 의미를 갖는다)을 나타내며, 상기 기재내용에서, 다음과 같이 이해한다 : ㅡR4및 R6은 함께 인접한 벤젠 고리와 나프탈렌 고리를 형성할 수 있으며, ㅡ하나 이상의 R7및 R8은 상기의 (ⅱ) 또는 (ⅲ)의 의미를 가지며, ㅡR9는 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내며, ㅡR10은 저급 알킬라디칼 을 나타내며,ㅡR11은 :(a)수소 원자, (b) 저급 알킬 라디칼 , (c)하기 식의라디칼 :
    (상기식에서, R' 및 R"은 각각 수소 원자,저급 알킬 라디칼 , 모노ㅡ 또는 폴리히드록시 알킬 라디칼 , 임의로 치환된 아릴 라디칼 또는 아미노산 잔기 또는 펩티드 잔기 또는 당 잔기를 나타내거나 또는 함께 헤테로고리를 형성할 수 있다).
    (d) ㅡOR12라디칼(식중, 수소원소 1∼20 의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼 , 알케닐 라디칼,모노ㅡ 또는 폴리히드록시 알킬 라디칼 , 임의로 치환된 아릴 또는 아르알킬 라디칼 또는또는 당 잔기 아미노산 잔기 또는 펩티드 잔기 를 나타낸다)를 나타내며, ㅡR13은 수소원자 또는 탄소수 1∼20 의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼을 나타내며, ㅡn은 0,1 또는 2의 정수이다〕.
  2. 제1항에 있어서, 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속 염, 또는 아연염 또는 유기 아민염 형태임을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 저급 알킬라디칼을 메틸, 에틸, 이소프로필, 부틸, tㅡ부틸 및 헥실 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄소수 1∼20 의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼 메틸, 에틸, 프로필, 2ㅡ에틸헥실, 옥틸, 도데실, 헥사데실 및 옥타테실 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,모노히드록시알킬 라디칼을 2ㅡ히드록시에틸,2ㅡ히드록시프로필 및 3ㅡ히드록시프로필 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리히드록시알킬 라디칼을 2,3ㅡ디히드록시프로필, 2,3,4ㅡ트리히드록시부틸 및 2,3,4,5ㅡ테틀히드록시펜틸 라디칼 또는 페타에리트리톨 잔기로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아릴 라디칼이 하나 이상의 할로겐 원자, 하나의 히드록실기 또는 하나의 니트로기로 임의로 치환된 페닐 라디칼을특징으로 하는 화합물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아르알킬 라디칼을 하나 이상의 할로겐 원자, 하나의 히드록실기 또는 하나의 니트로기로 임의로 치환된 벤질 또는 펜에틸 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 알케닐 라디칼을 탄소수 2∼5이며 및 하나 이상의 에틸렌계 불포화를 갖는 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 당 잔기를 글루코스, 갈락토오스, 만노오스 또는 글루쿠론산 잔기로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아미노산 잔기를 리신, 글리신 또는 아스파르트산으로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 펩티드 잔기를 디펩티드 및 트리펩티드 잔기로 구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서, 헤테로시클릭 라디칼을 4위에서 C1∼ C6알킬 라디칼 또는 모노ㅡ 또는 폴리히드록시 알킬 라디칼 로 임의로 치환된 피페리디오, 모르폴리노, 피로리디노 및 피페라지노 라디칼로구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 시클로지방족 라디칼을 1ㅡ메틸시클로헥실 및 1ㅡ아다만틸 라디칼로구성되는 군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물.
  15. 제1항에 있어서, 화합물을 단독 또는 혼합물로서, 다음의군으로부터 선택함을특징으로 하는 화합물 : 트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―히드록시페닐〕―3,7―디메틸―1,2,4,6―헵타트리에노산,에틸트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노에이트,트랜스―7―〔3―(1―아다만틸〕―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, (2Z, 4E, 6E)―7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7 ―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, 트랜스―5―〔―7―(1―아다만틸)―6―메톡시에톡시메톡시―2―나프틸〕―3―메틸―2,4―펜타디에노산, 트랜스―5―〔―7―(1―아다만틸―6―히드록시―2―나프틸〕―3―메틸―2,4―펜타디에노산, 트랜스―5―〔―7―(1―아다만틸)―6― 히드록시―2―나프틸〕―3―메틸―2,4―펜타디에노산, 트랜스―5―〔―7―(1―아다만틸)―6―메톡시―2―나프틸〕 ―3―메틸―2,4―펜타디에노산, 트랜스―7―〔―3(1―메틸시클로헥실)―4―히드록시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, (2Z,4E, 6E)―7―〔3―(1―메틸시클로헥실)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, 트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―이소프로필옥시페닐―3,7―디메틸―2,4,6―헵타르리에노산, 트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―이소프로필옥시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, 트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산,트랜스― 7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕――3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리엔―1―올, 트랜스―7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리엔―1―알, 트랜스―N―에틸―7―〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리엔카르복스아미드, 트랜스―N―4―히드록시페닐―7〔3―(1―아다만틸)―4―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리엔―카르복스아미드, 트랜스―7―(3―t―부틸―4―메톡시에톡시메톡시페닐)―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노산, 에틸 트랜스―7―(3―t―부틸―4―히드록시페닐)―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노에이트, 에틸 트랜스―7―(3―t―부틸―4―메톡시페닐)―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노에이트, 에틸 트랜스―7―〔4―(1―아다만틸)―3―메톡시페닐〕―3,7―디메틸―2,4,6―헵타트리에노에이트.
  16. 제1항에 있어서, 화합물이 하기의 특성을 하나 이상 가지는 것을 특징으로 하는 화합물 : R1은 ㅡCOㅡR11라디칼이며 ; R7은 아다민틸 라디칼이며; R4는 수소 원자이며; R6은 수소 원자 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼이며; R4및 R6은 인접한 벤젠 고리와 나프탈렌 고리를 형성한다.
  17. 제1항 또는 제2항에 있어서, 약제로 사용되는 화합물.
  18. 제17에 있어서, 골다공증치료 또는예방용 외에,피부, 류마티스성, 호흡, 심혈관 및 안과질환 치료용 약제로 사용되는 화합물.
  19. 골다공증치료 또는예방용 외에,피부, 류마티스성, 호흡, 심혈관 및 안과질환 치료용 약제 제조용제1항 또는 제16중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 화합물.
  20. 약제학적으로 허용 가능한 부형제 중에 제1항 내지 16항중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 화합물을함유함을 특징으로 하는 약제학적 조성물.
  21. 제20항에 있어서, 제1항 또는 제16중 어느 한 항에 따른 화합물의 농도가 총 조성물에 대해 0.001∼5중량%임을 특징으로 하는 조성물.
  22. 미용상 허용 가능한 부형제 중에 제1항 또는 제16중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 화합물을 함유함을 특징으로 하는 약제학적 조성물.
  23. 제22항에 있어서, 제1항 또는 제16중 어느 한 항에 따른 화합물의 농도가 총 조성물에 대해 0.001∼3중량%임을 특징으로 하는 조성물.
  24. 신체 또는 모발 위생용 제22항 또는 23항에 따라 정의된 미용 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950009987A 1994-04-26 1995-04-26 신규한 폴리엔계 화합물, 그를 함유하는 약제학 및 미용상의 조성물 및 용도 KR100191818B1 (ko)

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