KR950021341A - 정전척크 부착 세라믹 히터 - Google Patents

정전척크 부착 세라믹 히터 Download PDF

Info

Publication number
KR950021341A
KR950021341A KR1019940037553A KR19940037553A KR950021341A KR 950021341 A KR950021341 A KR 950021341A KR 1019940037553 A KR1019940037553 A KR 1019940037553A KR 19940037553 A KR19940037553 A KR 19940037553A KR 950021341 A KR950021341 A KR 950021341A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrostatic chuck
ceramic
ceramic heater
electrode
coating layer
Prior art date
Application number
KR1019940037553A
Other languages
English (en)
Inventor
노부오 가와다
도시히꼬 신도오
다따아끼 나가오
다께시 가께가와
주니찌 아라미
겐지 이시까와
Original Assignee
가나까와 지히로
신에쓰가가꾸고오교 가부시끼가이샤
이노우에 아끼라
도오꾜엘렉트론 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가나까와 지히로, 신에쓰가가꾸고오교 가부시끼가이샤, 이노우에 아끼라, 도오꾜엘렉트론 가부시끼가이샤 filed Critical 가나까와 지히로
Publication of KR950021341A publication Critical patent/KR950021341A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833Details of electrostatic chucks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 프로세서에 있어서의 승강은 프로세스에 사용해도 접합부에 박리가 생기지 않는 정천척크부착 세라믹 히터의 제공을 목적으로 하는 것이다.
본 발명의 정전척크 부착 세라믹 히터는, 전기 절연성 세라믹으로 이루어지는 지지기개의 표면에 도전성 세라믹으로 이루어지는 정전척크용 전극을 접합하는 동시에, 이면에 도전성 세라믹으로 이루어지는 발열층을 접합하고, 이들위에 전기절연성 세라믹으로 이루어지는 피복층을 설치하여 이루어지는 정전척크 부착 세라믹 히터에 있어서, 지지기재와 정전척크용 전극과의 선팽창 계수의 차, 지지기개와 발열충과의 선팽창 계수의 차, 정전척크용 전극과 피복층과의 선팽창 계수의 차 및 발열층과 피복층과의 선팽창 계수의 차를 함께 1×10-6/℃ 이하로 하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.

Description

정전척크 부착 세라믹 히터
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 정전척크 부착 세라믹 히터의 한 예의 종단면도를 표시한 것이다.

Claims (5)

  1. 전기 절연성 세라믹으로 이루어지는 지지기개의 표면에 도전성 세라믹으로 이루어지는 정전척크용 전극을 접합하는 동시에, 이면에 도전성 세라믹으로 이루어지는 발열층을 접합하고, 이들위에 전기절연성 세라믹으로 이루어지는 피복층을 설치하여 이루어지는 정전척크 부착 세라믹 히터에 있어서, 지지기개와 정전척크용 전극과의 선팽창 계수의 차, 지지기재와 발열층과의 선팽창 계수의 차, 정전척크용 전극과 피복층과의 선팽창 계수의 차 및 발열층과 피복층과의 선팽창 계수의 차를 함께 1×10-6/℃이하로 하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 정전척크 부착 세라믹히터.
  2. 제1항에 있어서, 지지기재와 피복층이 질화붕소, 질화붕소와 질화 알루미늄의 혼합물 또는 질화규소이고, 정전척크용 전극 및 발열층이 그라파이트 또는 탄화규소인 정전척크 부착 세라믹 히터.
  3. 제2항에 있어서, 정전척크용 전극, 발열층 및 피복층이 화학기상 증착법으로 제조되는 정전척크 부착 세라믹 히터.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 피복층 상에 확산 방지층이 접합되어 이루어지는 정전척크 부착 세라믹히터.
  5. 제4항에 있어서, 확산방지층이 산화규소 또는 질화규소인 정전 척크 부착 세라믹 히터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940037553A 1993-12-27 1994-12-27 정전척크 부착 세라믹 히터 KR950021341A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33087993 1993-12-27
JP93-330879 1993-12-27
JP31639694A JPH07297267A (ja) 1993-12-27 1994-12-20 静電チャック付セラミックスヒーター
JP94-316396 1994-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR950021341A true KR950021341A (ko) 1995-07-26

Family

ID=26568639

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940037553A KR950021341A (ko) 1993-12-27 1994-12-27 정전척크 부착 세라믹 히터

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPH07297267A (ko)
KR (1) KR950021341A (ko)
TW (1) TW289129B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477388B1 (ko) * 2002-08-26 2005-03-17 주성엔지니어링(주) 웨이퍼 공정용 히터블록

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202011000090U1 (de) 2011-01-14 2011-04-21 E-LEAD ELECTRONIC CO., LTD., Shengang Shiang Fahrzeug-Audiosystem mit auswechselbarem Plug-In-Computer
US10917942B2 (en) 2017-07-31 2021-02-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Structure, planar heater including the same, heating device including the planar heater, and method of preparing the structure

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2638649B2 (ja) * 1989-12-22 1997-08-06 東京エレクトロン株式会社 静電チャック
JPH0750736B2 (ja) * 1990-12-25 1995-05-31 日本碍子株式会社 ウエハー加熱装置及びその製造方法
JP3081279B2 (ja) * 1991-06-03 2000-08-28 電気化学工業株式会社 ホットプレート
JPH0513555A (ja) * 1991-07-01 1993-01-22 Toto Ltd 静電チヤツク及び静電チヤツクに対する電圧印加方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477388B1 (ko) * 2002-08-26 2005-03-17 주성엔지니어링(주) 웨이퍼 공정용 히터블록

Also Published As

Publication number Publication date
TW289129B (ko) 1996-10-21
JPH07297267A (ja) 1995-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950021343A (ko) 정전척크 부착 세라믹 히터
US5663865A (en) Ceramic electrostatic chuck with built-in heater
KR950000622A (ko) 정전척이 부착된 세라믹 히터
US5748436A (en) Ceramic electrostatic chuck and method
JPH0727962B2 (ja) 温度サイクル動作型セラミック静電式チャック
KR890001180A (ko) 세라믹 패키지
KR850002168A (ko) 반도체장치 및 노출층을 이용한 제조공정
EP1039537A3 (en) Heat conductive resin substrate and semiconductor package
JP2004023024A (ja) 静電吸着機能を有する加熱装置
US6140624A (en) Pyrolytic boron nitride radiation heater
KR870003678A (ko) 고열전도성 세라믹스 기판
TW200532842A (en) Electrostatic chuck including a heater mechanism
KR840002162A (ko) 반도체 장치(半導體裝置)
KR980006024A (ko) 더미 웨이퍼
DK0783830T3 (da) Elektrisk varmeelement
KR950021341A (ko) 정전척크 부착 세라믹 히터
EP0390598A3 (en) Metallized aluminum nitride substrate
KR960043075A (ko) 더미 웨이퍼
JPS63314790A (ja) 加熱要素
JP3914377B2 (ja) 静電吸着機能を有するウエーハ加熱装置
JP2000306986A (ja) 静電チャック
JP2756944B2 (ja) セラミックス静電チャック
KR890008939A (ko) 세로형 기상(氣相) 성장 장치 및 방법
JP3224629B2 (ja) ガス供給用部材及び成膜装置
JPH0940481A (ja) セラミックヒーター

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee