KR950006642Y1 - 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치

제 1 도는 일반적인 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 구조를 보인 계통도

제 2 도는 본 고안에 의한 세정액 여과장치가 적용된 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 구조를 보인 계통도

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 프로세스 배스 2 : 세정액

3 : 플랫 히터 4 : 드레인 판

5 : 주배수라인 9 : 쿨링 코일

20 : 세정액 회수용 집수로 21 : 베수라인

22 : 회수세정액 저장탱크 23 : 연결관

24 : 공급펌프 25 : 필터

30 : 세정액 여과 및 공급수단 27 : 오버센서

본 고안은 세정액, 예컨대 이소프로필 알콜(IPA : Isopropyl Alcohol)을 이용하여 웨이퍼(Water)를 세정하는 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템에 있어서, 오염된 세정액을 여과시키기 위한 세정액 여과장치에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는 프로세서 배스(Process Bath)와 연통되게 세정액 여과 및 공급수단을 설치하여 쿨링코일(Cooling Coil)에 맺힌 오염된 세정액을 여과시켜 공급함으로써 웨이퍼의 오염방지에 적합하도록 한 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치에 관한 것이다.

일반적인 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템은 제 1 도에 도시되어 있는 바와 같이, 프로세서 배스(1)의 내저부에 세정액(2)이 담겨져 있고, 상기 배스(1)의 하단부에는 세정액(2)을 가열시켜 기화(Vapor)시키기 위한 플랫 히터(3)가 설치되어 있으며, 상기 배스(1)의 내부 하측에는 드레인 판(4)이 설치되어 주배수라인(5)과 연결되어 있고, 그 상부에는 웨이퍼(7)를 승, 하강시키기 위한 엘리베이터(8)가 상, 하 이동가능하게 설치되어 있다.

또한, 상기 프로세스 배스(1)의 상부 벽면에는 기화된 세정액(2)을 액화시켜 외부로 빠져 나가지 못하게 하는 쿨링 코일(9)이 설치되어, 프로세서 배스(1)내에서 기화된 세정액(2)이 쿨링 코일(9)에 맺혀 상기 배스(1)의 벽면을 타고 흘러내려와 다시 기화되는 과정을 반복하도록 구성되어 있다. 즉 웨이퍼(7) 표면에 있는 물과 증기화된 세정액(2)이 반응하여 물과 응결된 세정액(2')은 드레인 판(4)으로 떨어져 배수되고, 일부의 기화된 세정액(2")은 쿨링 코일(9)에의해 액화되어, 프로세서 배스(1)의 벽면을 타고 상기 배스(1)의 바닥면으로 흘러 다시 증기화 되게 되어 있다.

도면중 미설명 부호 10은 세정액 공급관, 11은 세정액 수위감지 센서부, 12는 세정액 배수용 개, 폐밸브를 각각 보인 것이다.

이와같이 구성된 종래 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템은 웨이퍼(7)가 적재된 카세트를 엘리베이터(8)에 장착하여 프로세스 배스(1)의 증기지역으로 하강시키면, 웨이퍼(7)표면에 있는 물과 증기화된 세정액(2)이 반응하게 된다.

이때 일부의 세정액(2')은 웨이퍼(7)표면의 물과 반응하여 응결되면서 드레인 판(4)으로 떨어져 배수되고, 쿨링 코일(9)에 맺힌 세정액(2")은 프로세스 배스(1)의 벽면을 타고, 바닥면으로 흘러내려 플랫 히터(3)에 의해 다시 증기화 된다.

이후, 기화타임의 완료되면, 엘리베이터(8)를 상승시켜 남아 있는 세정액을 건조시킴으로써 웨이퍼의 세정과정을 종료하게 되는 것이다.

그러나, 상기한 바와 같은 종래구조의 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템은 프로세스 배스(1)의 하단부에 설치된 플랫 히터(3)에 의해 기화된 세정액(2)중 일부는 웨이퍼 세정 후, 드레인 판(4)으로 떨어져 배수되고, 일부는 쿨링 코일(9)에 맺혀 다시 회수되어 기화되는 구조로서, 이때 회수되는 세정액(2")의 오염으로 인하여 공정시 웨이퍼(7)에 오염물이 부착되는 웨이퍼 오염현상이 발생되는 결함이 있었다.

이를 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 프로세서 배스의 쿨링 코일에 맺힌 오염된 세정액을 여과시켜 깨끗한 상태로 프로세스 배수로 공급시킴으로서 세정액의 오염을 방지하여 웨이퍼에 오염물이 부착되는 웨이퍼 오염현상을 방지하도록 한 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치를 제공함에 있다.

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 프로세스 배스의 내저부에 세정액이 수납되고, 상기 배스의 하단부에는 세정액을 기화시키기 위한 플랫 히터가 설치됨과 아울러 상부에는 기화된 세정액을 액화시키기 위한 쿨링 코일이 설치된 것에 있어서, 상기 프로세스 배스의 쿨링 코일 하부에 그 쿨링 코일에 의해 액화된 세정액을 모아 드레인시키기 위한 세정액 회수용 접수로를 형성하고, 드레인되는 세정액을 여과시켜 프로세스 배스로 다시 공급시키기 위한 세정액 여과 및 공급수단을 구비하여 세정액의 오염을 방지하도록 구성함을 특징으로 하는 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치가 제공된다.

상기 세정액 여과 및 공급수단은 프로세서 배스의 세정액 회수용 집수로에 연결된 배수라인과, 그 배수라인의 단부에 설치된 회수세정액 저장탱크와, 그 회수세정액 저장탱크와 프로세스 배스를 연통되게 연결되는 연결관과, 그 연결관의 도중에 설치된 공급펌프 및 필터로 구성된다.

이와같이 구성된 본 고안에 의한 세정액 여과장치를 적용하게 되면, 기화되어 쿨링 코일에 맺힌 오염된 세정액이 세정액 집수로에 회수되어 세정액 여과 및 공급수단에 의해 깨끗한 상태로 여과된 후 프로세스 배스로 공급되므로 세정액의 오염을 방지할 수 있고, 이에따라 종래와 같은 오염된 세정액의 기화로 인한 웨이퍼 오염현상을 방지할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.

이하, 상기한 바와 같은 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치를 첨부도면에 도시한 실시예를 따라서 보다 상세히 설명하겠다.

제 2 도는 본 고안에 의한 세정액 여과장치가 적용된 증기 건조 시스템의 계통도로서 이에 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치는 프로세스 배스(1)의 쿨링 코일(9) 하부에 그 쿨링 코일(9)에 의해 액화된 오염된 세정액(2)을 모아 드레인 시키기 위한 세정액 회수용 집수로(20)를 형성하고, 그 세정액 회수용 집수로(20)에 연결된 배수라인(21)과, 그 배수라인(21)의 단부에 설치된 회수세정액 저장탱크(22)와, 그 저장탱크(22)와 상기 프로세스 배스(1)를 연통되게 연결하는 연결관(23)고, 그 연결관(23)의 도중에 설치된 공급펌프(24) 및 필터(25)를 세정액 여과 및 공급수단(30)을 구비한 구성으로 되어 있다.

상기 회수세정액 저장탱크(22)는 프로세서배스(1)의 하측에 위치하도록 설치되어 공급펌프(24)에 의해 회수세정액(2)을 펌핑하는 것에 의하여 세정액(2)이 필터(25)를 거쳐 여과된 후, 프로세스 배스(1)로 공급되게 되어 있으며, 상기 저장탱크(22)의 일측에는 오버센서(26)과 공급센서(27)가 구비되고, 타측은 배수관(28)에 의해 드레인 판(4)의 배수라인(5)과 연통되게 연결되어 회수되는 세정액(2)애 적정수위에 도달하게 되면, 공급센서(27)가 작동되어 세정액(2)의 프로세스 배스(1)로 공급되며, 적장수위 이상이 되면 오버센서(26)가 작동되어 배수관(28) 및 주배수라인(5)를 통하여 배수되도록 되어 있다.

도면에서 미설명 부호 29 는 배수용 개·폐밸브를 보인 것이고, 상술한 세정액 여과장치 이외에 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템을 구성하는 여타구성은 종래와 동일하므로 동일한 구성에 대해서는 동일부호를 부여하고, 여기서는 상세한 설명을 생략한다.

이와같이 구성된 본 고안에 의한 세정액 여과장치가 적용된 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 동작을 살펴보면, 웨이퍼(7)가 적재된 카세트를 엘리베이터(8)에 장착하여 증기지역으로 하강시키게 되면, 플랫 히터(3)에 의해 기화되는 세정액(2)중 일부는 웨이퍼(7)표면의 물과 반응하여 응결되면서 드레인 판(4)으로 떨어져 주배수라인(5)으로 드레인되고, 일부의 세정액(2)은 쿨링 코일(9)에 의해 액화되어 그 하부의 세정액 회수용 집수로(20)에 집수되는 바, 이와같이 집수된 세정액(2)은 저장탱크(22)에 회수되고, 적정수위가 되면, 공급센서(27)의 작동에 의해 공급펌프(24)가 동작되어 필터(25)에서 여과된 후 프로세스 배스(1)로 공급된다.

이와같이 쿨링 코일(9)에 맺힌 오염된 세정액(2)이 세정액 여과 및 공급수단(30)에 의해 깨끗하게 여과되어 프로세스 배스(1)로 공급되므로 세정액(2)의 오염을 방지할 수 있는 것이다.

이후 기화타임이 완료되면, 엘리베이터(8)를 상승시켜 종래와 같이, 건조실(도시되지 않음)에서 남아있는 세정액(2)을 건조시키는 것에 의하여 웨이퍼 세정 과정을 종료하게 되는 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 세정액 여과장치를 적용하게 되면 쿨링 코일에 맺힌 오염 된 세정액을 배수시켜 보다 깨끗하게 여과시킨 후 다시 프로세스 배스로 공급시키므로 세정액의 오염을 방지할 수 있고, 이에 따라 종래와 같은 세정액 오염으로 인한 웨이퍼에 오염물이 달라 붙는 웨이퍼 오염현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 프로세스 배스(1)의 내저부에 세정액(2)이 수납되고, 상기 배스(1)의 하단부에는 세정액(2)을 기화시키기 위한 플랫 히터(3)가 설치됨과 아울러 상부에는 기화된 세정액(2)을 액화시키기 위한 쿨링 코일(9)이 설치된 것에 있어서, 상기 프로세스 배스(1)의 쿨링 코일(9) 하부에 그 쿨링 코일(9)에 의해 액화된 세정액(2)을 모아 드레인시키기 위한 세정액 회수용 집수로(20)를 형성하고, 드레인되는 세정액(2)을 여과시켜 프로세스 배스(1)로 다시 공급시키기 위한 세정액 여과 및 공급수단(30)을 구비하여 세정액의 오염을 방지하도록 구성함을 특징으로 하는 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 세정액 여과 및 공급수단(30)은 프로세스 배스(1)에 세정액 회수용 집수로(20)에 연결된 배수라인(21)과 그 배수라인의 단부에 설치된 회수세정액 저장탱크(22)와, 그 저장 탱크(22)와 프로세스 배스(1)를 연통되게 연결하는 연결관(23)과, 그 연결관(23)의 도중에 설치된 공급펌프(24) 및 필터(25)로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정용 증기 건조시스템의 세정액 여과장치.