KR950002054B1 - 아연의 전기 추출방법 - Google Patents

아연의 전기 추출방법 Download PDF

Info

Publication number
KR950002054B1
KR950002054B1 KR1019920000070A KR920000070A KR950002054B1 KR 950002054 B1 KR950002054 B1 KR 950002054B1 KR 1019920000070 A KR1019920000070 A KR 1019920000070A KR 920000070 A KR920000070 A KR 920000070A KR 950002054 B1 KR950002054 B1 KR 950002054B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
zinc
additive
electrolyte
mmol
Prior art date
Application number
KR1019920000070A
Other languages
English (en)
Other versions
KR920014945A (ko
Inventor
까쉐 샹딸
마리오떼 발레리에
위아르 로베르
Original Assignee
아토샹
쟝 르블랑제
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아토샹, 쟝 르블랑제 filed Critical 아토샹
Publication of KR920014945A publication Critical patent/KR920014945A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950002054B1 publication Critical patent/KR950002054B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
    • C25C1/16—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of zinc, cadmium or mercury

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

아연의 전기 추출방법
본 발명은 산성 매질, 특히 황산 매질중에서 아연의 전기 추출방법에 관한 것이다.
산성 황산염 매질중에서 수행하는 아연의 전기 추출방법의 경우, 소량의 금속 불순물(Ge, Sb, Ni, Co, As등)의 존재는 아연의 전기 결정화 과정에서 전기 결정화의 패러데이 효율의 저하, 수소 방출에 의한 자극 및 아연 침전물의 재용해와 같은 문제점을 야기한다. 따라서, 예를 들면 5mg/ℓ 이상의 Ni 또는 Co 농도에서는 안정한 유발 기간후에 효율이 급속히 감소하며, 이러한 유발기간의 정도는 불순물의 농도에 좌우된다. 원소 Ge 및 Sb는 매우 낮은 농도(약 0.1 ppm)조차에서도 실질적인 유발기간이 없이 효율에 특히 유해한 영향을 준다. 불순물로 야기되는 효율의 저하는 니켈 또는 코발트의 경우 유발기간 후지만, 게르마늄의 경우는 사실상 즉각적으로, 아연 전극의 감극이 일반적으로 진행되어진다.
이러한 문제점을 해결하기 위한 노력은 전해질에 첨가제를 사용하는 것에 기초를 두고 있다. 다음의 첨가제가 특히 조사되어져 왔다 :
-납(E.J. Frazer, J. Electrochem. Soc., 135, 1988, p. 2465)
-아라비아 검(M. Maja et al, Oberflache-Surface, 24, 1983, p. 234)
-아교(D.J. Mackinnon et al, J. Appl. Electrochem., 17, 1987, p. 1129)
-감초(liguorice)(T.J. O'Keefee et al, J. Appl. Electrochem, 16, 1986, p. 913)
-2-부틴-1, 4-디올(M. Sider et al, J. Appl. Electrochem, 18, 1988, p. 54)
-몰리브덴산염(M. M. Jaksic, Surf. Coat. Technol., 28, 1986, p. 113)
-테트라부틸-또는 테트라에틸 암모늄 클로라이드(D. J. Mackinnon et al, J. Appl. Electrochem, 9, 1979, p. 603)
-에톡시아세틸렌 알콜(HOCH2C≡CCH2OCH2CH2OH), 트레에틸벤질암모늄 클로라이드 및 폴리에틸렌 글리콜의 혼합물(Chr. Bozhkov et al, Proceedings of the 7th European Symposium on Corrosion Inhibitors, Ferrara, Suppl. No. 9, 1990, p. 1211)
고농도로 존재하여야만 하는 에톡시아세틸렌 알콜은 상업적 제품이 되지 못한다. 더욱이, 이것은 전기분해시 소모되는 단점을 가지고 있다.
금속 불순물(특히, 게르마늄)의 존재시 아연의 전기 결정화의 상태는 폴리옥시에틸렌, 아민-산화물 또는 베타민 친수성기와 결합되어진 퍼플루오로알킬기를 함유하는 계면 활성제 화합물을 첨가제로서 사용하므로써 안정화시킬 수 있다는 것이 알려져 있다.
본 발명에 따른 계면활성제 화합물은 다음 일반식의 공지된 화합물중에서 선택되어질 수 있다 :
상기 식에서, RF는 탄소수 4∼20의 퍼플루오로알킬기이고, m은 6∼18이며, n은 0 또는 2이고, p는 2 또는 3이며, q는 1 또는 2이고, X는 CO 또는 SO2기이며; R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 일킬기이고, R' 및 R＂는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
본 발명에 따른 첨가제중 특히 바람직한 것은 RF가 탄소수 6∼10이고, R이 수소원자이며, R' 및 R＂는 메틸기이고, X는 SO2이며, m은 10∼12범위내의 수이고, n은 2이며, p는 3이고, q는 1인 화합물로 구성되어 있는 것이다.
전해질에 첨가되는 플루오로화된 계면활성제 화합물의 양은 전해질에 존재하는 금속 불순물의 성질과 농도의 함수로서 넓은 범위내에서 변화될 수 있다.
전기 추출공정의 진행에 방해되지 않는 한, 이러한 양은 일반적으로 전해질 1리터당 0.01 내지 5밀리몰의 첨가제 범위일 수 있다; 이러한 양은 약 0.1 내지 2mmol/ℓ의 범위가 바람직하다.
주어진 금속 불순물의 경우에, 최적 효율을 달성하도록 하기 위하여 플루오르화 첨가제의 최적 농도가 일반적으로 결정될 것이다. 문제의 첨가제와 금속 불순물의 농도에 따라 변할 수 있는 이러한 최적 농도는 당업계의 기술자에게는 쉽게 결정될 수 있을 것이다.
다음의 실시예는 본 발명을 한정함이 없이 예시하기 위한 것이다.
[실시예 1]
120g/ℓ의 H2SO4, 55g/l의 Zn2 +및 90mg/l의 니켈을 함유하는 전해질을 사용한다. 전해는 다음 조건하에서 수행된다 :
-전류 밀도 : 50mA/cm2
-온도 : 36℃
-수직 알루미늄 전극
-교반 없음
전극 전위는 시간의 경과에 따라 변할 경우, 유발 기간(즉, 계를 불안정하게 하는 동안의 시간)은 15분인 것이 밝혀졌다.
이러한 시간은 전해질에 0.33mmol/ℓ의 C6F13CH2CH2O(CH2CH2O)11H 화합물을 가하여 시험을 재차 수행할 경우의 48시간보다 긴 시간이다.
전해질에 망간이 존재(15.4g/ℓ)할 경우, 망간이 수소 발생을 자극하기 때문에 유발기간이 4시간으로 떨어진다. 이러한 기간은 전해질중의 C6F13CH2CH2O(CH2CH2O)11H 화합물의 농도를 2mmol/ℓ로 조절할 경우 72시간으로 다시 증가한다.
[실시예 2]
120g/ℓ H2SO4, 55g/ℓ의 Zn2 +및 다양한 농도의 게르마늄을 함유하는 전해질로서 실시예 1과 동일한 조건하에 전해를 실시한다.
첨가제의 부재시, 아연 침전물의 재용해와 함께 전해 상태의 실질적이면서 즉각적인 불안정이 관찰되었다.
화합물 C6F13CH2CH2O(CH2CH2O)11H의 첨가는 전극 전위를 적어도 8시간 동안 안정화시킬 수 있다. 그러므로 전기결정화의 패러데이 효율은 게르마늄의 농도 및 폴리플루오로 화합물(다음 표 1을 참조)의 함수로서 변한다.
[표 1]
폴리플루오로 화합물의 존재시에, 최적 효율은 수소거품에 의하여 남겨진 특정한 자극없이 미세 알갱이의 아연 침전물에 항상 상응하게 된다.
[실시예 3]
120g/ℓ H2SO4, 55g/ℓ의 Zn2 +및 1.18mg/ℓ의 게르마늄을 함유하는 전해질을 사용하여, 실시예 1과 동일한 조건으로 전해과정을 수행한다.
하기의 화합물(A) 또는 (B)의 첨가는 전극 전위를 적어도 8시간 이상 안정하게 유지시킬 수 있게 한다.
(A)=C6F13C2H4SO2NHC3H6NO(CH3)2
(B)=C6F13C2H4SO2NHC3H6N+(CH3)2CH2CO2 -
다음에 나타낸 표 2는 화합물(A) 또는 (B)의 농도 함수로서 전기결정화의 패러데이 효율의 변화를 보여주고 있다.
[표 2]
이러한 화합물(A) 및 (B)의 경우, 상당히 균일한 효율을 얻었다. 아연 침전물은 알루미늄 기질에 수직적으로 배열되어진 평형판상의 응집물로 구성되어 있다.
[실시예 4]
120g/ℓ H2SO4, 55g/ℓ의 Zn2+및 4.16(또는 8.32)mg/ℓ의 니켈을 함유하는 전해질을 사용하여, 실시예 1과 동일한 조건에서 전해과정을 수행하였다.
계면활성제의 부재하에 전위는 불안정하고 패러데이 효율은 8시간내에 영으로 떨어졌다.
전극 전위는 0.094mmol/ℓ의 화합물 C6F13CH2CH2O(CH2CH2O)11H를 전해질에 가할 경우 8시간 이상 동안 안정하였다. 페러데이 효율은 약 86%이였다.

Claims (7)

  1. 하기 일반식의 화합물들중에서 선택된 플루오르화 계면활성제 화합물을 전해질에 첨가함을 특징으로 하는, 황산 매질중에서 아연의 전기 추출 방법.
    상기 식에서, RF는 탄소수 4∼20의 퍼플루오로알킬기이고, m은 6∼18이며, n은 0 또는 2이고, p는 2 또는 3이며, q는 1 또는 2이고, X는 CO 또는 SO2기이며; R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 일킬기이고, R' 및 R＂는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
  2. 제1항에 있어서, 계면활성제 화합물이 RF가 탄소수 6∼10이고, R이 수소원자이며, R' 및 R＂는 메틸기이고, X는 SO2이며, m은 10∼12범위내의 수이고, n은 2이며, p는 3이고, q는 1인 것인 방법.
  3. 제1항에 있어서, 화합물 C6F13CH2CH2O(CH2CH2O)11H를 첨가제로서 사용하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 화합물 C6F13CH2CH2SO2NHC3H6NO(CH3)2를 첨가제로서 사용하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 화합물 C6F13C2H4SO2NHC3H6N+(CH3)2CH2CO2 -를 첨가제로서 사용하는 방법.
  6. 제1항 내지 5항중 어느 한 항에 있어서, 전해질이 0.01 내지 5mmol/ℓ의 플루오르화 첨가제를 함유하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 전해질이 0.1 내지 2mmol/ℓ의 플루오르화 첨가제를 함유하는 방법.
KR1019920000070A 1991-01-07 1992-01-07 아연의 전기 추출방법 KR950002054B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR91-00110 1991-01-07
FR9100110 1991-01-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR920014945A KR920014945A (ko) 1992-08-26
KR950002054B1 true KR950002054B1 (ko) 1995-03-10

Family

ID=9408486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920000070A KR950002054B1 (ko) 1991-01-07 1992-01-07 아연의 전기 추출방법

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5194125A (ko)
EP (1) EP0494563B1 (ko)
JP (1) JPH0757918B2 (ko)
KR (1) KR950002054B1 (ko)
AU (1) AU635872B2 (ko)
CA (1) CA2058829A1 (ko)
DE (1) DE69110652T2 (ko)
FI (1) FI920044A (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4811880B2 (ja) * 2006-01-06 2011-11-09 エントン インコーポレイテッド 艶消し金属層を堆積するための電解液および工程

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4040916A (en) * 1975-11-28 1977-08-09 General Electric Company Zinc plating bath and method of forming a non-dendritic zinc layer
US4384930A (en) * 1981-08-21 1983-05-24 Mcgean-Rohco, Inc. Electroplating baths, additives therefor and methods for the electrodeposition of metals

Also Published As

Publication number Publication date
CA2058829A1 (fr) 1992-07-08
EP0494563B1 (fr) 1995-06-21
EP0494563A1 (fr) 1992-07-15
DE69110652T2 (de) 1996-02-01
AU1006892A (en) 1992-07-09
FI920044A (fi) 1992-07-08
JPH0757918B2 (ja) 1995-06-21
FI920044A0 (fi) 1992-01-03
DE69110652D1 (de) 1995-07-27
JPH04333586A (ja) 1992-11-20
KR920014945A (ko) 1992-08-26
US5194125A (en) 1993-03-16
AU635872B2 (en) 1993-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4430173A (en) Additive composition, bath and process for acid copper electroplating
EP0652041B1 (en) Method for producing high purity hydroxides and alkoxides
Baik et al. Electrodeposition of zinc from high acid zinc chloride solutions
US4306003A (en) Zinc halogen battery electrolyte composition with lead additive
US4789442A (en) Method for producing adiponitrile
US5296128A (en) Gallic acid as a combination antioxidant, grain refiner, selective precipitant, and selective coordination ligand, in plating formulations
JPH0322478B2 (ko)
KR950002054B1 (ko) 아연의 전기 추출방법
EP1287184B1 (en) Satin-finished nickel or nickel alloy coating
KR101940593B1 (ko) 전기 동 도금용 첨가제 및 전기 동 도금욕
EP0144711A2 (en) Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy
EP0028839A1 (en) Process for reducing lead peroxide formation during lead electrowinning and an electrolyte for electrowinning lead
Siddagangappa et al. 2, 4‐Dinitrophenylhydrazine as a Corrosion Inhibitor for Copper in Sulphuric Acid
US4667049A (en) Method of making dialkylamino-thioxomethyl-thioalkanesulfonic acid compounds
US7384533B2 (en) Electrolytic processes with reduced cell voltage and gas formation
SU1813806A1 (ru) Способ получения медного порошка
Bucko et al. The importance of using hydrogen evolution inhibitor during the Zn and Zn-Mn electrodeposition from ethaline
EP1417357B1 (en) Hydrogen evolution inhibiting additives for zinc electrowinning
MX2009002436A (es) Agentes anti-niebla bloqueados en su extremo con sulfonato-o sulfato.
US6569310B2 (en) Electrochemical process for preparation of zinc powder
Calas et al. Electroreductive synthesis of organomercurials from n-perfluorobutyl-1, 4-diiodide
SU1514831A1 (ru) Способ электролитического рафинировани никел
US20030106806A1 (en) Electrochemical process for preparation of zinc metal
SU1186707A1 (ru) Электролит свинцевани
Hu et al. The effects of arsenic and lead impurities on the current efficiency and deposit composition in alkaline zinc electrowinning

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee