KR940020524A - 기준 표면을 갖는 웨이퍼 스테이지(wafer stage with reference surface) - Google Patents

기준 표면을 갖는 웨이퍼 스테이지(wafer stage with reference surface) Download PDF

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Abstract

전자기 서브-스테이지와 전자기 모노리딕 스테이지는 전자가 그들 사이에 배치된 단일 기준표면을 지니는 후자를 따르도록 연결된다. X-Y방향 이동을 위한 선형 모터를 지니는 서브-스테이지는 U모양의 브랙킷에 의해 모노리딕 스테이지에 장착된다. 그 모노리딕 스테이지는 평평한 전자기 코일에 의해 현수되어, X, Y, Z, 방향으로 모노리딕 스테이지 본체의 정확한 이동 및 Z축 또는 θ에 대한 회전을 제공한다. 종동 제어수단은 서브-스테이지에 대한 모노리딕 스테이지의 이동을 연결 또는 탐지하여, 코일을 배치하는 모노리딕 스테이지는 각각의 자기 구조체내에 중심 일치된다. 기준 표면상에 놓인 공기 베어링과 협력하는 모노리딕 스테이지에 이동을 제한한다. 단일 기준 표면은 모노리딕 스테이지의 전체 이동범위 위로 연장한다. 이것은 정확한 위치 및 상기 장치의 소제 및 정비하는데 개선점을 제공한다. 모노리딕 스테이지의 모듈 특성(modular nature)은 검사 및 수리를 위해 용이한 제거를 해야한다.

Description

기준 표면을 갖는 웨이퍼 스테이지(WAFER STAGE WITH REFERENCE SURFACE)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 서브-스테이지(sub-stage)를 도시하는 사시도,
제2도는 모노리딕 스테이지(monolithic stage)를 도시하는 부분단면을 지니는 사시도,
제3도는 본 발명의 개략도.

Claims (11)

  1. 베이스(base); 상기 베이스상에 놓인 서브-스테이지(sub-stage); 상기 서브-스테이지의 위치를 제어하기 위한, 상기 서브-스테이지와 연계된 모터 수단(motor means); 모노리딕 스테이지(monolithic stage); 상기 서브-스테이지와 상기 모노리딕 스테이지 사이에 배치된 기준 표면(reference surface); 상기 기준 표면 위로 상기 모노리딕 스테이지를 현수 및 배치시키기 위한, 상기 모노리딕 스테이지상에 장착된 현수 수단(suspension means); 상기 기준 표면으로부터 예정된 거리내에 상기 모노리딕 스테이지를 유지하기 위한, 상기 모노리딕 스테이지 및 상기 기준 표면과 연계된 정지 수단; 상기 모노리딕 스테이지의 위치를 감지하기 위한, 상기 모노리딕 스테이지와 연계된 감지 수단; 및 상기 서브-스테이지의 위치를 제어하여, 상기 모노리딕 스테이지의대략 위치를 따르기 위한, 상기 서브 스테이지, 상기 모노리딕 스테이지, 및 상기 감지수단과 연계된 종동 제어수단(follow control means);을 포함하는 전자기 정렬 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 정지수단은, 상기 모노리딕 스테이지에 부착된 최소한 1개의 기계적 정지 수단; 및 상기 서브-스테이지에 부착되고, 상기 기준표면상에 놓인 최소한 1개의 공기 베어링(air bearing);을 포함하는 전자기 정렬 장치.
  3. 제2항에 있어서, 한단부에서 상기 서브-스테이지에 부착되고, 타단부에서 상기 모노리딕 스테이지에 부착된 U-모양의 브랙킷;을 더 포함하는 전자기 정렬 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 모터수단은, X방향으로 이동하는 제1선형 모터; 및 Y방향으로 이동하는 제2선형 모터;를 포함하는 전자기 정렬 장치
  5. 제4항에 있어서, 상기 현수 수단은, 다수의 전자기 코일들;을 포함하는 전자기 정렬 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 다수의 전자기 코일들은, 최소한 2개의 X방향 배치 코일들; 최소한 2개의 Y방향 배치 코일들; 및 최소한 4개의 Z방향 배치 코일들;을 포함하는 전자기 정렬 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 감지 수단은, Z축을 따르는 상기 모노리딕 스테이지의 X-Y위치를 탐지하는 간섭계(interferometer); Z축을 따르는 상기 모노리딕 스테이지의 위치를 탐지하는 캡 게이지(cap gauge); 및 상기 서브-스테이지와 상기 모노리딕 스테이지 사이의 상대위치를 탐지하기 위한, 상기 서브-스테이지 및 상기 모노리딕 스테이지와 연계된 상대 위치 감지 수단;을 포함하는 전자기 정렬 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 기준 표면에 의해 형성된 면은 수직인 전자기 정렬 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 서브-스테이지의 하중을 지탱하기 위한, 상기 서브-스테이지에 부착된 서브-스테이지 저항력 수단(sub-stage counter force means); 및 상기 모노리딕 스테이지의 하중을 지탱하기 위한, 상기 모노리딕 스테이지에 부착된 모노리딕 저항력 수단(monolithic counter force means);을 더 포함하는 전자기 정렬 장치.
  10. 2개의 레그(leg)를 지니는 베이스 프레임(base frame); 상기 베이스의 2개의 레그 사이에 연장하는 비임; 상기 비임상에 장착된 X방향 선형 모터; 상기 비임상에 장착된 서브 스테이지; 상기 서브-스테이지의 일부상에 장착된 Y방향 선형 모터; 상기 서브-스테이지상에 장착된 U-모양의 브랙킷; 상기 U-모양의 브랙킷상에 장착된 코일 플레이트(coil plate); 상기 코일 플레이트상에 장착된 최소한 2개의 X방향 전자기 코일; 상기 코일 플레이트상에 장착된 최소한 4개의 Z방향 코일; 상기 Y방향 코일, X방향 코일, 및 Z방향 코일에 의해 현수되고 배치된 모노리딕 본체(monolithic body); 상기 모노리딕 본체에 부착된 웨이퍼 척(wafer chuck); 상기 모노리딕 본체와 상기 서브-스테이지 사이에 배치된, 충분히 넓어서 상기 서브-스테이지 및 상기 모노리딕 본체의 전체운동 범위를 포함하는 단일 기준표면; 상기 기준표면을 따라 활주하도록 배치된 상기 코일 플레이트상에 장착된 최소한 3개의 공기 베어링; 상기 모노리딕 본체의 회전을 포함하여, X-Y 위치를 탐지하기 위한, 상기 모노리딕 본체와 연계된 X-Y 방향 위치 감지수단; 상기 기준 표면과 상기 모노리딕 본체 사이의 변위를 탐지하기 위한 상기 모노리딕 본체와 연계된 Z방향 감지 수단; 상기 코일 플레이트와 상기 모노리딕 본체 사이의 상대 위치를 탐지하기 위한, 상기 코일 플레이트 및 상기 모노리딕 본체와 연계된, 상기 모노리딕 본체의 위치를 탐지하여, 상기 모노리딕 본체를 상기 Y방향 코일 및 상기 X방향 코일의 이동변위에 대하여 예정된 상대위치내에 유지하기 위한 상대위치 감지 수단; 및 상기 X방향 선형모터, 상기 Y방향 선형모터, 상기 Y방향 코일 및 상기 X방향 코일과 연계된 종동 제어수단(follow control measn);을 포함하는 반도체 제조에 사용하기 위한 전자기 정렬 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 예정된 위치는 상기 Y방향 코일과 상기 X방향 코일이 중심일치된 위치인; 반도체 제조용 전자기 정렬 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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