KR940018395A - 프레그난의 신규 17,20-에폭시드 유도체, 그의 제조방법, 코르티손 유도체의 제조에 있어서의 그의 용도 및 중간체 - Google Patents

프레그난의 신규 17,20-에폭시드 유도체, 그의 제조방법, 코르티손 유도체의 제조에 있어서의 그의 용도 및 중간체 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물, 그의 제조방법, 코르티손 유도체 제조에 있어서의 그의 용도 및 중간체에 관한 것이다.
상기 식에서, R은 옥소 또는 β-히드록시기이고,
고리 A 및 B는 하기 식
[식중, n은 2 또는 3이고, K는 옥소기 또는 하기 식
(식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기이고, R1은 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K은 옥소기이거나 또는 옥심, 히드라존 또는 세미카르바존 형태의 보호기임]의 잔기이고, 파선은 이성질체 혼합물을 나타낸다.

Description

프레그난의 신규 17,20-에폭시드 유도체, 그의 제조방법, 코르티손 유도체의 제조에 있어서의 그의 용도 및 중간체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물.
    상기 식에서, R은 옥소 또는-히드록시기이고,
    고리 A 및 B는 하기 식
    [식중, n은 2 또는 3이고, K는 옥소기 또는 하기 식
    (식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기이고, R1은 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K은 옥소기이거나 또는 옥심, 히드라존 또는 세미카르바존 형태의 보호기임]의 잔기이고, 파선은 이성질체 혼합물을 나타낸다.
  2. 제 1 항에 있어서, 하기 일반식(I1)에 대응하는 것인 화합물.
    상기 식에서, R 및 파선은 상기 정의한 바와 동일하고, 고리 A1및 B2는 하기 식
    [식중, n 및 R1은 상기 정의한 바와 동일하고, K1및 K1′은 상기한 바와 같은 옥소기 보호기임)의 잔기이다.
  3. 제 1 항 또는 2항에 있어서, 하기 일반식(I1)에 대응하는 것인 화합물.
    상기 식에서, R,n 및 파선은 상기 정의한 바와 동일하다.
  4. 제 1 항에 있어서, 하기 일반식(I2)에 대응하는 것인 화합물.
    상기 식에서, R 및 파선은 상기 정의한 바와 동일하다.
  5. 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물(식중, 점선은 임의의 제 2 탄소-탄소 결합임)의 3번 위치이 케톤 관능기를 보호시켜 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물을 얻고, 이 화합물(Ⅲ)을 하기 일반식(Ⅳ)이 알킬 시안아세테이트로 처리시켜 하기 일반시(Ⅴ)의 화합물을 얻고, 이 화합물(Ⅴ)를 에폭시화제로 처리시켜 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물을 얻고, 이 화합물(Ⅵ)의 에스테르 관능기를 환원시켜 하기 일반식(I1a)의 화합물을 얻고, 적합할 경우, 이 화합물(I1a)의 11번 위치의 케톤 관능기를 환원시켜 하기 일반식(I1b)의 화합물을 얻고 적합할 경우, 일반식 (I1a) 및 (I1b)의 화합물의 3번 위치의 케톤 관능기를 탈보호시켜 하기 일반식(I2)의 화합물을 얻는 것을 특징으로 하는, 제 1 항에 기재된 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
    상기 식에서, R은 옥소 또는 β-히드록시기이고,
    고리 A 및 B는 하기 식
    [식중, n은 2 또는 3이고, K는 옥소기 또는 하기 식
    또는
    (식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기이고, R1은 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K'은 옥소기이거나 또는 옥심, 히드라존 또는 세미카르바존 형태의 보호기임]의 잔기이고, 파선은 이성질체 혼합물을 나타내고, R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다.
  6. 제 5 항에 있어서, 3번위치의 케톤 관능기가 에틸렌 케탈 형태로 보호되고, 에폭시화제가 과산화수소이고, 반응이 염기성 매질 중에서 수행되고, 에스테르 및 케톤 관능기의 환원제가 알칼리 보로하이드라이드인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 일반식(Ⅰ)이 화합물의 21번 위치의 히드록시 관능기를 보호시켜 하기 일반식(Ⅶ)의 화합물을 얻고, 이 화합물(Ⅶ)의 니트릴 관능기를 수화시켜 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물을 얻고, 이 화합물(Ⅷ)을 호프만 분해 반응시켜 하기 일반식(Ⅸ)이 화합물을 얻고, 적합할 경우 이 화합물(Ⅸ)의 3번 위치의 케톤 관능기를 탈보호시켜 하기 일반식(A)의 목적 화합물을 얻는 것을 특징으로 하는, 하기 일반식(A)의 화합물 제조에 있어서 제 1 항에 기재된 일반식(Ⅰ)의 화합물의 용도.
    상기 각 식에서, R, 고리 A 및 B는 상기 정의한 바와 동일하며, R3은 히드록시기의 보호기이고, 점선은 임의의 제 2 탄소-탄소 결합이다.
  8. 제 7 항에 있어서, 분해가 일반식(Ⅶ)의 아미드의 중간 단리없이 수행되는 것인 용도.
  9. 제 7 항 또는 8항에 있어서, 히드록시기의 보호기가 에테르 잔기, 바람직하기로는 탄소수 1 내지 6의 알킬기인 것인 용도.
  10. 제 7 항 또는 9항중 어느 하나의 항에 있어서, 니트릴 관능기의 수화 반응이 극성 용매 중의 수성 무기 염기의 작용에 의해 수행되는 것인 용도.
  11. 하기 일반식의 화합물.
    상기 식에서, 고리 A1및 B1은 하기 식
    [식중, n은 2 또는 3이고, R1은 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K1및 K1′은 하기식
    또는
    (식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기임]의 잔기이고, R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R4및 R5느 함께위치에 탄소-탄소 결합 또는 에폭시를 형성하고, 파선은 이성질체 혼합물을 나타낸다.
  12. 하기 일반식의 화합물.
    상기 식에서, R은 옥소 또는 β-히드록시기이고,
    고리 A 및 B은 하기 식
    [식중, n은 2 또는 3이고, K는 옥소가 또는 하기 식
    또는
    (식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기이고, R1는 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K은 옥소기이거나 또는 옥심, 히드라존 또는 세미카르바존 형태의 보호기임]의 잔기이고, 파선은 이성질체 혼합물을 나타내고, R3는 히드록시기의 보호기이고, R6은 시아노기 또는 카르바모일기이다.
  13. 하기 일반식의 화합물.
    상기 식에서, R은 옥소 또는 β-히드록시기이고,
    고리 A1및 B1은 하기 식
    [식중, n은 2 또는 3이고, R1은 에테르 또는 에스테르 잔기이고, K1및 K1′은 하기식
    또는
    (식중, n은 상기 정의한 바와 동일함)의 옥소기 보호기임]의 잔기이고, R3은 히드록시기의 보호기이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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