KR940011292B1 - Grinding apparatus - Google Patents

Grinding apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR940011292B1
KR940011292B1 KR1019910013297A KR910013297A KR940011292B1 KR 940011292 B1 KR940011292 B1 KR 940011292B1 KR 1019910013297 A KR1019910013297 A KR 1019910013297A KR 910013297 A KR910013297 A KR 910013297A KR 940011292 B1 KR940011292 B1 KR 940011292B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing
abrasive
tank
rotation
rotating
Prior art date
Application number
KR1019910013297A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR930004034A (en
Inventor
이에따쯔 오노
Original Assignee
이에따쯔 오노
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이에따쯔 오노 filed Critical 이에따쯔 오노
Priority to KR1019910013297A priority Critical patent/KR940011292B1/en
Publication of KR930004034A publication Critical patent/KR930004034A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR940011292B1 publication Critical patent/KR940011292B1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/02Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving rotary barrels
    • B24B31/033Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving rotary barrels having several rotating or tumbling drums with parallel axes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

내용 없음.No content.

Description

연마장치Polishing device

제1a도는 본 발명의 제1실시예의 구성을 도시하는 측면설명도.1A is a side explanatory diagram showing a configuration of a first embodiment of the present invention.

제1b도는 제1a도의 정면설명도.1B is a front explanatory diagram of FIG. 1A.

제2도는 본 발명의 제1실시예의 연마조의 설명도.2 is an explanatory view of a polishing tank of a first embodiment of the present invention.

제3a도는 본 발명의 제1실시에의 연마조의 정면설명도.3A is an explanatory front view of the polishing bath according to the first embodiment of the present invention.

제3b도는 제3a도의 측면설명도.Figure 3b is a side explanatory view of Figure 3a.

제4a도는 본 발명의 각 실시예의 연마조의 다른예를 도시하는 정면도.4A is a front view showing another example of the polishing bath of each embodiment of the present invention.

제4b도는 연마조의 또다른 예를 도시하는 정면도.4B is a front view showing another example of the polishing tank.

제5도는 본 발명의 제2의 실시예의 구성을 도시하는 설명도.5 is an explanatory diagram showing a configuration of a second embodiment of the present invention.

제6도는 본 발명의 제3의 실시예의 구성을 도시하는 설명도.6 is an explanatory diagram showing a configuration of a third embodiment of the present invention.

제7도는 본 발명의 제4의 실시예의 연마조 부분 설명도.7 is an explanatory view of a part of the polishing tank of the fourth embodiment of the present invention.

제8도는 본 발명의 제1실시예 및 제2실시예의 피연마물 및 연마재의 유동궤적을 도시하는 설명도.FIG. 8 is an explanatory diagram showing flow trajectories of the abrasive and abrasive materials of the first and second embodiments of the present invention. FIG.

제9도는 본 발명의 제3실시예의 피연마물 및 연마재의 유동궤적을 도시하는 설명도.Fig. 9 is an explanatory diagram showing the flow trajectories of the abrasive and abrasive of the third embodiment of the present invention.

제10도는 종래의 연마장치의 피연마물 및 연마재의 유동궤적을 도시하는 설명도.10 is an explanatory diagram showing flow trajectories of the abrasive and abrasive of the conventional polishing apparatus.

제11a도는 종래의 연마장치의 구성을 도시하는 측면설명도.11A is a side explanatory view showing the structure of a conventional polishing apparatus.

제11b도는 제11a도의 정면설명도.11B is an explanatory front view of FIG. 11A.

제12도는 종래의 연마장치의 연마조내의 피연마물과 연마재의 유동상태의 설명도.12 is an explanatory diagram of a flow state of an abrasive and an abrasive in a polishing tank of a conventional polishing apparatus.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 회전드럼 2 : 연마조1: rotating drum 2: polishing tank

3 : 회전축 4 : 주축3: axis of rotation 4: spindle

5, 5a : 벨트 12 : 본체5, 5a: belt 12: main body

25 : 추25: weight

본 발명은 피연마물을 연마재로 연마하는 연마장치와 그 연마방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing apparatus for polishing a workpiece with an abrasive and a polishing method thereof.

종래부터 연마조내에 피연마물과 연마재를 수용하여 연마조를 회전함으로써 피연마물과 연마재를 상대적으로 유동접촉시켜서 피연마물을 연마하는 것이 실시되고 있다. 예를들면 시계부품, 메리야스바늘, 주사바늘등 비교적 소형이고 복잡한 형상의 물품을 피연마물로서 이와같은 연마조에 의한 연마가 널리 실시되고 있다.Background Art [0002] Conventionally, polishing an object to be polished by relatively fluidly contacting the object to be polished with the abrasive by rotating the polishing tank by storing the object and the abrasive in the polishing tank. For example, as a polishing object, a relatively small and complicated shaped article such as a watch part, a mary needle, a needle, and the like are polished by such a polishing bath.

종래의 연마조의 회전에 의한 연마물의 연마로는 제11도의 도시와 같이 연마조(2)를 그 축심(3)을 중심으로 고속으로 회전시켜서 연마를 실시하고 있었다. 이와같이 회전하는 연마조(2)내의 피연마물(20)과 연마재(21)와의 유동은 제12도의 도시와 같은 사태형상의 따르는 동작에 의하여 염가가 이루어지고 있었다. 이 경우 동일한 피연마물 또는 연마재의 동작은 제10도의 도시와 같은 곡선을 그리고 있다. 한편 회전드럼을 설치하고, 이 회전드럼의 주변부에 연마조를 설치하여 회전드럼을 그 축심을 중심으로 회전(공전)시키면서 연마조를 각각의 축심을 중심으로 회전(공전)시켜서 연마하는 방식도 취해지고 있다.In the polishing of the polished product by the rotation of the conventional polishing tank, as shown in FIG. 11, the polishing tank 2 is rotated at a high speed around the shaft center 3 to perform polishing. Thus, the flow of the to-be-polished material 20 and the abrasive | polishing material 21 in the rotating grinding | polishing tank 2 was made cheap by the operation | movement which follows the shape of the situation as shown in FIG. In this case, the operation of the same abrasive or abrasive is drawn as shown in FIG. On the other hand, a rotating drum is provided, and a polishing tank is installed at the periphery of the rotating drum to rotate (rotate) the rotating drum about its axis, and to rotate (rotate) the polishing tank about each axis. ought.

그러나, 종래의 방법에서는 연마가 일정하지 않거나, 요부나 곡면, 뒤쪽부분에 연마잔재가 생겨서 불균등 하게 되거나 피과공물에 부딪친 자리가 생기는 등 많은 과제가 있다.However, in the conventional method, there are many problems such as uneven polishing, irregularities caused by recessed portions, curved surfaces, and rear portions, resulting in unevenness, and bumps on the workpiece.

또 종래의 연마방법에 있어서는 목적을 달성하기 까지의 연마를 할 경우 회전수를 늦추어 많은 시간을 연마해도 충분히 고품질의 연마를 얻을 수가 없었다.In addition, in the conventional polishing method, when polishing to achieve the object is achieved, even if polishing is performed for a long time by slowing down the rotation speed, it is not possible to obtain sufficiently high quality polishing.

이와같이 피연마물의 형상이 복잡하면 더욱 피연마물과 연마재와의 접촉유동을 복잡하게 실시하는 것이 충분한 연마를하는데 있어서 필요하다.In this manner, when the shape of the polished object is complicated, it is necessary to perform a sufficient polishing to perform a complicated contact flow between the polished object and the abrasive.

본 발명은 상기와 같이 이와같은 종류의 연마현상을 고려하여 연구된 것으로, 그 목적은 피연마물과 연마재의 상호 유동 접촉을 충분히 실시하는 연마장치와 연마방법을 제공하는 것이다.The present invention has been studied in consideration of this kind of polishing phenomenon as described above, and an object thereof is to provide a polishing apparatus and a polishing method which sufficiently perform mutual flow contact between the abrasive and the abrasive.

상기의 목적은 회전축을 중심으로 자유로이 회전하는 연마조를 배설하고, 이 연마조내에 연마재와 피연마물을 수용하여 상기 회전축을 회전시키므로서 상기 연마조를 회전 구동하여 상기 연마재와 상기 피연마물을 상호 접촉유동하여 상기 피연마물의 연마를 실시하는 연마장치에 있어서 상기 회전축이 상기 연마조의 중심으로부터 편위하여 설치되는 수단을 취함으로써 달성된다.The above object is to provide a polishing tank which rotates freely about the rotating shaft, accommodate the abrasive and the abrasive in the polishing tank and rotate the rotating shaft while rotating the rotating shaft to contact the abrasive and the polished object mutually. In a polishing apparatus which flows and polishes the to-be-polished object, it is achieved by taking means in which the rotating shaft is provided to be shifted from the center of the polishing vessel.

또, 상기 목적은 연마재와 피연마물을 수용한 연마조의 중심에서 편위(偏位 : 한쪽으로 치우침)하여 설치한 회전축을 중심으로 상기 연마조를 회전함으로써 상기 연마재와 상기 피연마물을 상호 접촉유동시키고, 상기 피연마물의 연마를 실시함으로써 달성된다.In addition, the above object is to cause the abrasive and the abrasive to flow in contact with each other by rotating the polishing tank about a rotating shaft installed by shifting (deviating to one side) from the center of the polishing tank containing the abrasive and the abrasive. It is achieved by performing polishing of the to-be-polished object.

상기와 같은 수단을 취함으로써 연마조는 그 축심으로 부터 편위한 회전축을 중심으로 회전하므로 피연마물에 인가되는 원심력이 시간을 따라 변화하여 이 원심력으로 피연마물과 연마재가 강력히 접촉한 상태로 더욱 미진등이 발생되도록 연마조의 회전이 실시된다. 이와같은 연마조의 회전에 의하여 연마효율이 향상된 상태로 복잡한 형상의 피연마물에 대해서도 균일한 연마를 실시할 수 있다.By adopting the above means, the polishing tank rotates about the axis of rotation that is easy from the shaft center. Therefore, the centrifugal force applied to the polished object changes over time. The polishing bath is rotated so that it is generated. As a result of the rotation of the polishing bath, even polishing of a complicated shape abrasive article can be performed even in a state where the polishing efficiency is improved.

이하, 본 발명을 연마장치의 실시예를 따라 제1도 내지 제9도를 참조하여 설명하고, 방법의 발명의 설명은 상기 실시예의 설명에 포함시킨다. 여기에서 제1도는 본 발명의 제1의 실시예의 구성을 나타내는 설명도, 제2도는 제1의 실시예의 연마조 부분의 구성을 도시하는 설명도, 제3도는 제1의 실시예의 연마조의 외관도, 제4도는 각 실시예의 연마조의 다른예를 도시하는 설명도, 제5도는 본 발명의 제2의 실시예의 구성을 도시하는 설명도, 제6도는 본 발명의 제3의 실시예의 구성을 도시하는 설명도, 제7도는 제3의 실시예의 연마조의 설명도, 제8도는 제1 및 제2의 실시예의 연마재 및 피연마물의 유동궤적을 도시하는 설명도, 제9도는 제3의 실시예의 연마재 및 피연마의 유동궤적을 도시하는 설명도이다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9 according to an embodiment of the polishing apparatus, and the description of the invention of the method is included in the description of the above embodiment. Here, FIG. 1 is an explanatory view showing the structure of the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view showing the structure of the polishing tank part of the first embodiment, and FIG. 3 is an external view of the polishing tank of the first embodiment. 4 is an explanatory diagram showing another example of the polishing bath of each embodiment, FIG. 5 is an explanatory diagram showing the configuration of the second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a configuration of the third embodiment of the present invention. Explanatory drawing, FIG. 7 is explanatory drawing of the grinding | polishing tank of 3rd Example, FIG. 8 is explanatory drawing which shows the flow trace of the abrasive | polishing material and to-be-polished material of 1st and 2nd Example, FIG. 9 is the abrasive material of 3rd Example, and It is explanatory drawing which shows the flow trace of a to-be-polished.

제1의 실시예는 제1도의 도시와 같이 본체(12)에 회전축(3)이 설치되고, 이 회전축(3)에 연마조(2)가 고정되고, 회전축(3)은 본체(12)의 상부에 설치되는 제어부(12a)에 연마조건에 상응하는 설정을 함으로써 설정되는 회전속도, 회전방향 및 구동계속시간으로 회전 구동된다. 제2도, 제3도의 도시와 같이 상기 회전축(3)은 연마조(2)의 축심(11)으로 부터 편위하여 설치되고, 이 연마조(2)내에 연마와 피연마물을 수용하여 연마조(2)를 회전하면 연마재 또는 피연마물은 제8도의 도시와 같이 회전축(3)에 대하여 편위되는 타원궤적을 취하여 유동한다. 이와같이 제1의 실시예에 의하면 피연마물과 연마재에 인가되는 원심력이 시간과 함께 변화하여 이 원심력으로 피연마물과 연마재가 강력히 압접한 상태로 더욱 미진동이 발생되도록 피연마물과 연마재가 서로 접촉유동한다. 이것으로 피연마물의 복잡한 형상을 이루는 경우에도 고품질의 연마가 실행된다.In the first embodiment, as shown in FIG. 1, the rotating shaft 3 is installed on the main body 12, the polishing tank 2 is fixed to the rotating shaft 3, and the rotating shaft 3 is formed of the main body 12. It is driven to rotate at the rotational speed, the rotational direction, and the driving duration time which are set by setting the control part 12a provided in the upper part corresponding to the polishing conditions. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the rotary shaft 3 is provided to be biased from the shaft center 11 of the polishing tank 2, and the polishing and polishing objects are accommodated in the polishing tank 2 so that the polishing tank ( When 2) is rotated, the abrasive or polished object flows by taking an elliptic trajectory which is biased with respect to the rotation axis 3 as shown in FIG. As described above, according to the first embodiment, the centrifugal force applied to the abrasive and the abrasive is changed with time, and the abrasive and the abrasive are brought into contact with each other so that the microscopic vibration is generated while the abrasive and the abrasive are strongly pressed by the centrifugal force. . As a result, even when a complicated shape of the polished object is formed, high quality polishing is performed.

제2의 실시예에서는 제5도의 도시와 같이 회전드럼(1)이 본체(12)에 대하여 주축(4)을 중심으로 자유로이 회전하도록 장치되고, 모터(M1)의 회전이 벨트(5)에 의하여 회전드럼(1)에 전달되고, 회전드럼(1)이 설정된 회전속도로 설정된 방향으로 회전구동된다. 또 모터(M2)의 회전이 각각의 연마조(2)의 회전축(3)에 벨트(5a)에 의하여 전달되고, 연마조(2)가 회전한다. 이와같이 제2의 실시예에서는 주축(4)을 중심으로 연마조(2)는 공전하면서 회전축(3)을 중심으로 자전하는 운동을 한다. 이 경우의 연마조(2)내의 피연마물 및 연마재는 제1의 실시예의 경우보다 장경(長徑)은 크나, 제8도의 도시와 같은 궤적을 그리며 유동한다.In the second embodiment, as shown in FIG. 5, the rotating drum 1 is freely rotated about the main shaft 4 with respect to the main body 12, and the rotation of the motor M1 is driven by the belt 5. It is transmitted to the rotating drum 1, the rotating drum 1 is driven to rotate in the set direction at the set rotation speed. Moreover, rotation of the motor M2 is transmitted to the rotating shaft 3 of each grinding | polishing tank 2 by the belt 5a, and the grinding | polishing tank 2 rotates. As described above, in the second embodiment, the polishing tank 2 rotates around the rotating shaft 3 while the polishing tank 2 revolves around the main shaft 4. In this case, the abrasives and abrasives in the polishing tank 2 are larger in diameter than in the first embodiment, but flow in the same trajectory as shown in FIG.

제2의 실시예에서는 제1의 실시예의 경우보다 연마재와 피연마물에는 큰 원심력이 인가되고, 우수한 연마효과가 얻어진다.In the second embodiment, greater centrifugal force is applied to the abrasive and the abrasive than in the first embodiment, and excellent polishing effect is obtained.

제3의 실시예에서는 제6도, 제7도의 도시와 같이 회전축(3)에 대하여 연마조(2)가 경사를 취하여 장치되고 있다. 제3의 실시예의 기타부분의 구조는 이미 설명한 제2의 실시예와 동일하다. 제3의 실시예에서는 연마조(2)내의 연마재와 피연마물과의 유동궤적은 제9도의 도시와 같이 복잡한 곡선이 된다. 제3의 실시예에서는 피연마물이나 연마재는 제9도의 도시와 같은 복잡한 귀적으로 유동하여 상호 접촉마찰되므로 복잡한 형상의 피연마물에 대하여 고품질의 연마가 효율적으로 실시된다.In the third embodiment, as illustrated in FIGS. 6 and 7, the polishing tank 2 is inclined with respect to the rotation shaft 3. The structure of the other part of the third embodiment is the same as that of the second embodiment already described. In the third embodiment, the flow trajectory between the abrasive in the polishing bath 2 and the polished object becomes a complicated curve as shown in FIG. In the third embodiment, the abrasive or abrasive material flows into a complex ear as shown in FIG. 9, so that the abrasive is contacted with each other, so that high-quality polishing can be efficiently performed on the abrasive of complicated shape.

제4도는 각 실시예에 있어서의 연마조(2)의 다른 예이고, 이 연마조(2)에는 밸런스용의 추(25)가 부착되고, 이 추(25)에 의하여 연마조(2)의 축심(11)에 편위한 회전축(8)을 중심으로 하는 회전의 원활히 실시된다.4 is another example of the polishing tank 2 in each embodiment, and the weight 25 for balance is attached to this polishing tank 2, and the weight 25 of the polishing tank 2 is attached. The rotation about the rotating shaft 8 which is knitted on the shaft center 11 is performed smoothly.

이 추(25)는 상기의 제 1 내지 제3의 실시예의 어느것에나 적용할 수 있다.This weight 25 can be applied to any of the first to third embodiments described above.

이와같이 각 실시예에 따르면 복잡한 형상의 피연마물의 연마가 고품질로 단시간으로 효율적으로 실시되고, 광택면이나 경면연마에 최적의 연마장치와 그 연마방법을 제공할 수 있다.As described above, according to each embodiment, polishing of a to-be-grinded object of a complicated shape is performed efficiently in a short time with high quality, and it is possible to provide a polishing device and a method for polishing thereof that are optimal for polishing or mirror polishing.

상기의 상세한 설명과 같이 본 발명에서는 연마조의 중심으로부터 편위하여 설치되는 회전축에 의하여 피연마물과 연마재를 수용한 연나조를 회전하므로 피연마물과 연마재가 복잡한 궤적으로 유동하여 서로 전방향에서 강하게 접촉 마찰하여 치밀하고 고품질의 연마가 단시간으로 설치된다.As described above, in the present invention, since the soft thread containing the abrasive and the abrasive is rotated by a rotating shaft provided to be offset from the center of the abrasive, the abrasive and the abrasive flow in a complicated trajectory so as to be in strong contact friction with each other in all directions. Dense and high quality polishing is installed in a short time.

Claims (6)

회전축을 중심으로 자유로이 회전하도록 연마조를 배설하고, 이 연마조내에 연마재와 피연마물을 수용하여 상기 회전축을 회전하므로서 상기 연마조를 회전구동하여 상기 연마재외 상기 피연마물을 상호 접촉유동시켜서 상기 피연마물의 연마를 실시하는 연마장치에 있어서, 상기 회전축이 상기 연마조의 중심으로부터 편위하여 설치되는 것을 특징으로 하는 연마장치.The polishing tank is disposed so as to rotate freely about the rotating shaft. The polishing tank is rotated by receiving the abrasive and the abrasive object in the polishing tank, and the polishing tank is rotated to drive the polishing object and the abrasive to be in contact with each other. A polishing apparatus for polishing water, wherein the rotating shaft is provided to be shifted from the center of the polishing vessel. 제1항에 있어서, 회전축이 회전 드럼의 주변부에 복수개 설치되고, 회전드럼이 축심을 중심으로 공전하고, 연마조가 회전축을 중심으로 자전하는 것을 특징으로 하는 연마장치.The polishing apparatus according to claim 1, wherein a plurality of rotating shafts are provided at the periphery of the rotating drum, the rotating drum revolves around the shaft center, and the polishing tank rotates around the rotating shaft. 제1항 내지 제2항중 어느 한 항에 있어서, 연마조의 축심의 회전축에 대하여 경사하고 있는 것을 특징으로 하는 연마장치.The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 2, wherein the polishing apparatus is inclined with respect to the axis of rotation of the shaft center of the polishing tank. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 회전축의 회전방향 및 회전속도가 변경할 수 있는 것을 특징으로 하는 연마장치.The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the rotation direction and rotation speed of the rotation shaft can be changed. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 연마조의 밸런스용인 추가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는 연마장치.The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 4, further provided for balancing the polishing bath. 연마재와 피연마물을 수용한 연마조의 중심으로 부터 편위하여 설치한 회전축을 중심으로 상기 연마조를 회전함으로써 상기 연마재의 상기 피연마물을 상호 접촉 유동시켜서 상기 피연마물의 연마를 설치하는 연마방법.A polishing method comprising: polishing the to-be-polished material by causing the abrasive to flow in contact with each other by rotating the polishing tank about an axis of rotation provided so as to be shifted from the center of the polishing tank containing the abrasive and the abrasive.
KR1019910013297A 1991-08-01 1991-08-01 Grinding apparatus KR940011292B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019910013297A KR940011292B1 (en) 1991-08-01 1991-08-01 Grinding apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019910013297A KR940011292B1 (en) 1991-08-01 1991-08-01 Grinding apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930004034A KR930004034A (en) 1993-03-22
KR940011292B1 true KR940011292B1 (en) 1994-12-05

Family

ID=19318142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910013297A KR940011292B1 (en) 1991-08-01 1991-08-01 Grinding apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR940011292B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102041077B1 (en) * 2019-07-26 2019-11-05 김원박 Grinding apparatus for inner surface of cylinder container

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000021325A (en) * 1998-09-28 2000-04-25 서평원 Method for automatically re-dialling of simple exchange system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102041077B1 (en) * 2019-07-26 2019-11-05 김원박 Grinding apparatus for inner surface of cylinder container

Also Published As

Publication number Publication date
KR930004034A (en) 1993-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960007591B1 (en) Grinding device and grinding method
US6184139B1 (en) Oscillating orbital polisher and method
US5707274A (en) Chemical mechanical polishing apparatus for semiconductor wafer
US5674109A (en) Apparatus and method for polishing workpiece
KR100425937B1 (en) Surface machining method and apparatus
US4227347A (en) Two motor drive for a wafer processing machine
US3662498A (en) Redressing of laps in lapping or honing machines
KR940011292B1 (en) Grinding apparatus
JPH10180622A (en) Device and method for precision grinding
KR930002185B1 (en) Rotating barrel finishing method under heavy resultant force
JP2916937B2 (en) Barrel polishing method and apparatus
JPH1133888A (en) Mirror finished surface chamfering device for wafer
JPH05154758A (en) Barrel device
JP2001038603A (en) Dresser, grinding device with the dresser, and dressing method
JPH10156712A (en) Wafer polishing device
KR860008002A (en) Method and apparatus for polishing outer circumference of ordinary or columnar objects
JP3050899B2 (en) Sphere processing equipment
JP2005074521A (en) Ferrule end face polishing machine
JP3781576B2 (en) Polishing device
JPS6158270B2 (en)
JP3651923B2 (en) Polishing apparatus and method
JP2000024899A (en) Traction surface grinding method for half-toroidal cvt disc
JPH08309659A (en) Method and device for polishing workpiece
JP2750756B2 (en) Wheel repair device
JP2004255483A (en) Polishing device and polishing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20011206

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee