KR940010502A - 온도 의존 특성을 가지는 내부전원전압 발생회로 - Google Patents

온도 의존 특성을 가지는 내부전원전압 발생회로 Download PDF

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KR940010502A
KR940010502A KR1019920018436A KR920018436A KR940010502A KR 940010502 A KR940010502 A KR 940010502A KR 1019920018436 A KR1019920018436 A KR 1019920018436A KR 920018436 A KR920018436 A KR 920018436A KR 940010502 A KR940010502 A KR 940010502A
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정철민
최진영
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김광호
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    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits

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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 장치에서 특히 온도 의존성을 가지는 내부전원전압 발생회로를 실현하기 위한 것으로, 칩의 초기불량을 검출하는 번-인 모드를 가지는 반도체 메모리 장치의 내부전원전압 발생회로에 있어서, 모오스 트랜지스터의 드레쉬 홀드 전압을 이용한 온도보상동작을 수행하는 적어도 4개의 직렬 연결된 전압강하소자를 가지는 번-인용 레벨 시프터를 구비하는 내부전원전압 발생회로를 실현하므로서, 안정한 내부전원전압을 공급하고 특히 칩의 액티브 동작시 번-인 모드로의 동작변환이 방지되고, 또한 번-인 트리거전압이 온도에 따라 변하는 특성을 가지므로서 동작영역의 폭이 넓어지는 내부전원전압 발생회로를 제공하여 동작 특성을 향상시킬 뿐만 아니라 결과적으로 칩의 신뢰성을 향상시키는데 기여한다.

Description

온도 의존 특성을 가지는 내부전원전압 발생회로
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 번-인용 레벨시프터를 가지는 내부전원전압 발생회로,
제4도는 제3도의 등가회로도,
제5도는 제3도의 전압 파형도.

Claims (5)

  1. 칩의 초기불량을 검출하는 번-인 모드를 가지는 반도체 메모리 장치의 내부전원전압 발생회로에 있어서, 모오스 트랜지스터의 드레쉬 홀드전압을 이용한 온도보상동작을 수행하는 적어도 4개의 직렬 연결된 전압강하소자를 가지는 번-인용 레벨 시프터를 구비함을 특징으로 하는 내부전원전압 발생회로.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전압강하소자가 피모오스 트랜지스터로 이루어짐을 특징으로 하는 내부전원전압 발생회로.
  3. 제1항에 있어서, 상기 번-인용 레벨 시프터는 상기 전압강하소자의 드레쉬 홀드전압의 특성에 의해 온도가 고온으로 될수록 낮은 전압에서 트리거되고, 온도가 저온으로 될수록 높은 전압에서 트리거됨을 특징으로 하는 내부전원전압 발생회로.
  4. 칩의 초기불량을 검출하는 번-인 모드를 수행하기 위하여 번-인 전압감지부를 가지는 반도체 메모리장치의 내부전원전압 발생회로에 있어서, 상기 번-인 전압 감지부가, 외부전원전압에 연결되고 모오스 트랜지스터의 드레쉬 홀드전압을 이용한 온도보상동작을 수행하는 적어도 4개의 직렬 연결된 전압강하소자부와, 상기전압강하소자부 및 소정의 기준신호를 입력하로 이를 차동증폭하여 출력하는 비교기를 구비하고, 상기 번-인 전압 감지부가 상기 전압강하소자의 드레쉬 홀드전압의 특성에 의해 온도가 고온으로 될수록 낮은 전압에서 트리거되고, 온도가 저온으로 될수록 높은 전압에서 트리거됨을 특징으로 하는 내주전원전압 발생회로.
  5. 제4항에 있어서, 상기 전압강하소자가 피모오스 트랜지스터로 이루어짐을 특징으로 하는 내주전원전압 발생회로.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920018436A 1992-10-08 1992-10-08 온도 의존 특성을 가지는 내부전원전압 발생회로 KR950010563B1 (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6635589B2 (en) 1994-08-11 2003-10-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Methods of heat treatment and heat treatment apparatus for silicon oxide films
KR100464113B1 (ko) * 2001-01-24 2005-01-03 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 반도체 회로
KR100549938B1 (ko) * 1999-01-12 2006-02-07 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 내부 전압 변환회로
KR100871111B1 (ko) * 2004-01-14 2008-11-28 인피니언 테크놀로지스 아게 온도 보상 트랜지스터 장치 및 온도 보상 방법

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