KR940006275B1 - 입자의 표면 연마장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

입자의 표면 연마장치

제1도는 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 일실시예를 나타내는 일부 절단정면도.

제2도는 제1도에 도시한 분리탑 내부의 분리수단을 나타내는 사시도.

제3도는 제1도의 표면 연마장치의 일부 절단측면도.

제4도는 입자가 숫돌 표면에서 연마되는 상태를 도시한 설명도.

제5도는 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 다른 실시예를 나타내는 부분단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 케이싱 2 : 블레이드

3,3a,3b,3c : 숫돌

본 발명은, 주물사등의 입자의 표면을 연마하는 장치에 관한 것이다.

주물산업에서 사용되는 각종 주물사나 콘크리트 산업에서 사용되는 모래등의 입자는, 그들의 표면에 부적당한 성분이 부착되어 있어, 여러가지의 페해를 생기게 하는 경우가 많다.

예컨대, 주물용의 원사의 표면에는 점도등이 부착되어 있어, 사용에 있어서 통기를 저해하든지, 해사등에는 염분이 부착되어 있어 박아 넣은 콘크리트에 악영향을 미치는 것이다.

또한, 일반적으로 원사의 표면에는 모난 형상의 것이 많고, 사형을 형성하는 경우에 성형성이 나쁘다고 하는 문제가 있다.

한편, 이들의 입자에는 용도에 따라서 여러가지의 점결제등이 피복되어서 사용되는 경우도 많다. 이와같은 입자를 한번 사용한 후 그대로 재 이용하는 것은, 주조품에 폐해를 초래한다. 그래서, 원사나 사용이 끝난 입자의 표면을 연마하기 위하여, 지금까지 여러가지의 장치가 생각되고 있다.

예컨대, 주물사를 에어노즐에서 분출시켜 충돌부재에 충돌시키도록 해서 모래의 표면을 연마하는 장치(실개소 50-50808호 공보)나, 회전 블레이드를 가지는 장치내에 모래를 투입하여 원심력으로 모래를 강하게 충돌시켜서 그의 표면을 연마하는 장치(특개소 57-109540호 공보)나, 모래를 회전조에 투입하여 서로 문지르는 장치나, 모래를 가열해서 표면에 부착한 수지등을 연소휘발시키는 장치, 혹은 모래를 수세해서 표면의 불요물을 씻어버리는 장치등이 있다.

그러나, 이들 장치로는 이하에 기술한 바와같은 여러가지의 문제점이 있었다. 에어노즐에서 분출시킨 충돌부재에 충돌시키는 장치로는, 모래와 충돌하는 부분의 소모가 격심하여 장치의 수명이 짧다. 회전 블레이드를 가지는 장치를 사용하는 방법은, 모래의 파쇄율이 높고 미세분이 발생하기 쉽다. 서로 문지르는 장치를 사용하는 방법에서는, 모래의 각을 취하기 어렵고, 사형을 형성할때의 성형이 나쁘다. 또한 연소휘발시키는 장치로는, 모래의 각은 취할 수 없고, 연소에 있어서는 모래끼리의 소결이 생기든지 한다. 수세하는 장치로는, 불용성의 부착물의 경우는 효과가 없고, 모래의 각도 취할 수 없다.

그래서, 본 발명은 상기 결점이 없고 모래등의 입자의 표면을 효과적으로 연마하고, 그의 표면의 불필요한 부착물 혹은 각을 확실하게 제거할 수 있는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 특징 구성은, 입자가 수납되는 케이싱과 상기 케이싱내에 구비된 블레이드와 숫돌로 이루어지고, 상기 숫돌과 상기 블레이드가 서로 근접해서 상대운동하는 점에 있다.

이하에 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 작용·효과를 설명한다.

모래등의 입자를 케이싱내에 삽입하면, 케이싱내에 구비되어 서로 근접하는 블레이드와 숫돌사이에 입자가 보내진다. 블레이드와 숫돌은 상대 운동하고 있기 때문에, 입자는 블레이드에 의해 소분되어서 반복하여 숫돌과 접촉하도록 된다.

이와같은 작용에 의해, 케이싱내에 삽입된 입자는 효율좋게 숫돌과 접촉하게 되어, 입자표면의 불필요한 부착물이나 입자의 각을 확실하게 제거할 수가 있다. 부착물의 종류가 달라도, 블레이드의 숫돌의 운동속도를 바꾸든지, 운전시간을 적당히 제어함으로써, 용이하게 목적을 달성할 수가 있다. 제거된 불필요한 부착물이나 입자의 각은, 통상의 집진장치등을 접속하면 간단하게 장치외로 배제할 수가 있다.

다음에, 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 실시예를, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.

제1도 및 제3도는, 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치의 전체구조를 도시한다.

즉, 이 표면 연바장치는, 장치본체(A)와 표면 연마되어서 제거된 불필요한 부착물이나 미분으로 된 입자의 각을 장치본체(A)에서 배제하기 위한 집진기(9)로 이루어져 있다.

장치본체(A)의 최상부에는, 상기 집진기(9)와 연통하는 배출구(10)가 설치되어 있고, 그의 하부에 미세한 분진과 입자를 분류하는 분리탑(11)이 접속되어 있다. 분리탑(11)에는, 제2도에 확대하여 도시한 바와 같은 분리수단을 설치하도록 하여도 좋다. 이 분리수단은, 분리탑(11)의 내벽에 접하는 2조의 서로 대향하는 판(21),(22)과, 이것을 지지하는 2개의 봉(23),(23)으로 이루어져 있다. 그리고, 대향하는 판(21),(22)은 상하가 서로 반대방향으로 되어 있음과 동시에, 각판과 판과의 사이에 공간기 설치되어 있어, 분진이 하방향에서 공기배출구에 향해서 이동할 수 있도록 되어 있다.

이와같은 분리수단을 설치하고 있으면, 상기 집진기(9)에 보내지는 분진을 포함한 입자가 소용돌이상으로 선회하여 상승하고, 형상이 큰 입자는 떨어지고, 가벼운 분진만이 빠른속도로 집진기(9)에 운반되도록 되어, 바람직한 결과를 초래한다.

또, 본 발명에 관한 입자의 표면 연마장치에 사용되는 집진기는, 특히 한정되는 것이 아니고, 일반적으로 사용되고 있는 것으로 좋다.

분리탑(11)의 하방향에는, 축(4)에 끼워넣어진 복수의 윤상숫돌편(3a),(3a)으로 이루어지는 숫돌(3)이 배치되어 있음과 동시에, 그의 외측에 숫돌(3)에 근접해서 복수의 블레이드(2),(2)가 숫돌(3)에서 방사상으로 되도록 배치되어 있다.

다만, 상기 숫돌(3)은 복수의 윤상숫돌편으로 구성되어 있을 필요는 없고, 1개의 원주상의 것이라도 좋다. 상기 블레이드(2)에 대해서도, 제3도에서 보는 바와같이, 상기 숫돌(3)의 외주면에 대해서 직각으로 위치되어 있지 않아도 좋다.

요컨대, 상기 블레이드(2)의 연장선과 상기 숫돌(3)의 외주면과의 교차가 직각일 필요는 없고, 예각 혹은 둔각을 형성하도록 되어 있어도 좋은 것이다.

이들의 블레이드(2)의 회전중심측 단부, 요컨대 숫돌(3)측 선단가까이에는, 블레이드(2)의 선단보다도 더욱 숫돌(3)에 접근하여 배치되어 있는 연마보조판(29)이, 볼트(도시생략)등의 고착구를 사용해서 설치되어 있다. 이 연마보조판(25)은, 각 블레이드(2) 사이에 소분되어서 투입된 입자가 블레이드(2)에 의해 회전되고 숫돌(3)표면에 접하면서 각 블레이드(2) 사이를 이동할때, 그의 이동량을 제한함으로써, 숫돌(3) 표면에 대한 입자의 접촉기회를 한층 증가시켜서 연마효율을 올리는 기능을 가진다.

더하여서, 블레이드(2)를 고속으로 회전시키는 경우, 블레이드(2)의 회전밸런스가 나빠지고, 그 결과, 입자가 균일하게 숫돌(3) 표면에 접촉되지 않게 되어 숫돌(3) 표면을 부분적으로 마모하는, 소위 편마모가 생기기 쉬우나, 블레이드(2)의 회전밸런스를 개선하여 이와같은 불합리를 확실하게 방지하는 기능도 가진다. 이 연마보조판(25)은, 고착구의 위치를 바꾸는 등에 의해 숫돌(3)로의 근접거리를 자유로 바꿀 수도 있다.

블레이드(2)의 외방향의 선단에는, 제3도에서 보는 바와같이, 고무등의 탄성체(24)가 설치되어 있어도 좋다. 이와같이 하면, 블레이드(2)의 외방향 선단과 케이싱(1)의 저부내벽과의 틈을 없애고, 또한 양자의 접촉에 의한 마모등의 페해를 피할 수가 있어 바람직하다. 또, 제3도에서는, 블레이드(2)의 선단이 일정의 각도를 가지고 구부려져 있으나, 반드시 구부릴 필요는 없고, 그의 선단을 똑바로 하여도 좋다. 그렇게 하면 굽힘가공 공수를 없게 할 수가 있다.

블레이드(2)의 양단(제1도의 좌우방향의 단)에는 도우닛상의 판(6),(6)이 설치되어 있어, 전체로서 회전드럼상으로 되어 있다. 따라서, 각 블레이드(2) 사이는 공간을 형성하고 있어, 상기 숫돌(3)의 표면에 연통되어 있다. 그리고, 숫돌(3)과 블레이드(2)는, 이들의 회전중심이 같게 되도록 동축상으로 위치되어 있다. 숫돌(3)은 본체하부의 모우터(12)에 의해 구동되도록 되어 있고, 블레이드(2)는 본체하부의 다른 모우터(도시생략)에 의해 구동되도록 되어 있다. 상기 복수의 블레이드(2),(2)를 설치한 회전드럼의 하부에는, 드럼의 길이방향(제1도에서는 좌우방향)의 전후에는 각각 한쌍의 드럼 지지로울러(19),(19),(19),(19)가 회전드럼을 지지하도록 되어 있따(제1도에서는 전후 합쳐서 2개만 도시되어 있고, 제3도에서는 복잡화를 피하기 위해 생략되어 있다).

이와같이, 숫돌(3)과 블레이드(2)가 각각의 모우터에 의해 구동되도록 되어 있으면 서로 역방향으로 회전하든지, 각각의 회전속도를 바꾸든지 할 수 있고, 입자의 종류에 따라서 연마효율을 높일 수가 있어서, 융통성이 좋은 것이다.

상기 숫돌(3)의 입자는, 일반적으로, 카아보런덤, 알루미나등 연마되는 입자보다 경도에 있어서 뛰어난 것을 사용하는 것이 바람직하다.

상기 축(4)의 양단에는, 나사를 겸한 웨이트로 조정하도록 되어 있는 균형조정판(5)이 설치되어 있음과 동시에, 본체(A)의 케이싱(1)을 지지하는 가대(17)에 축받이(18)를 통해서 접속되어 있다.

또한 분리탑(11) 하방향의 케이싱(1) 측면에는, 제3도에 도시한 바와같이, 입자를 투입하기 위한 투입구(8)가 설치되어 있고, 다른편의 측면에는, 상기 입자의 연마상태 혹은 숫돌(3)표면의 마모상태등을 관찰하기 위한 투시창(7)이 설치되어 있다. 투입구(8)로부터 투입된 입자는, 각 블레이드(2)에 소분되어서 케이싱(1)의 저부를 지나서 긁어올려진후, 숫돌(3) 표면에 낙하접촉한다. 숫돌(3)은 일정속도로 회전하고 있기 때문에, 소분되어서 차례차례로 낙하하는 입자와 숫돌(3)표면이 효과적으로 문질러 맞추어져서 입자의 표면이 연마되게 된다.

제4도에, 투입된 입자(14)의 표면이, 숫돌표면(13)과 접촉해서 연마되는 상태를 도시한다. 투입된 입자(14)는, 숫돌표면(13)과 접촉한 후, 연마되어서 분진(16)을 남기면서 자신은 구상에 가까운 형상으로 된다. 일정시간 연마된 입자는, 케이싱(1) 하부에 설치된 취출구(15) 상부의 에어실린더(26)에 의해 개폐덮개(25)를 열고 취출된다.

이와같이 해서 얻어진 입자의 표면에는, 불필요한 부착물을 거의 인정하지 않고, 그의 형상도 각이 취해져서 둥그스름한 모양을 한 바람직한 것이었다.

이 실시예에서는, 배치식의 처리장치로 되어 있으나, 여기에 한정되는 것이 아니고, 상기 숫돌(3)의 인단측에서 입자를 투입하고, 후단측 하부에 취출구를 설치하도록 해서 연속식의 처리장치로 할 수도 있다.

이 경우, 제3도에 표시한 상기 투시창(7)의 하방향에 설치되어 있는 커버(27)를 떼고, 상기 케이싱(1)에 설치되어 있는 덮개(28)를 개구한 후, 재차 커버(27)를 닫고 운전하도록 한다.

또한, 연속식의 처리장치로서 입자의 이송을 효과적으로 하기 위하여, 상기 숫돌(3)의 표면에 숫돌(3)의 일단에서 타단으로 향해서 원통을 선회하는 나선상의 요철을 설치하는 등의 것도 생각된다.

또, 상기 투입구(8)에 처리되는 입자를 직접 투입하는 대신에, 입자를 예비처리하기 위해 간단한 표면연마장치를 투입구(8)의 앞에 설치하도록 하여도 좋다. 예컨대, 케이싱내에 회전하는 블레이드만 설치해서 보다 입자를 문질러서 연마하는 장치나, 케이싱내에 회전하는 숫돌만을 배치해서 입자를 숫돌 표면에 접촉시켜서 연마하는 장치등이다.

이와같이, 2단계로 처리하도록 하면, 강고하게 부착하고 있는 부착물에 대하여도 단시간에 효과적으로 입자표면을 연마할 수가 있다.

상기 숫돌(3)을 회전드럼상으로 배치되어 있는 블레이드(2)와 동심상으로 위치시키지 않고, 케이싱(1) 하부의 내벽에 따라서 배치시키도록 하여도 좋다. 이 경우는 숫돌(3)과, 블레이드(2)의 어느 한편만을 회전시켜도 좋고, 쌍방을 회전시켜도 좋고, 요는 서로 상대운동하고 있으면 좋다.

또한, 투입된 입자를 1조의 숫돌의 사이에 보내고, 그 사이에서 연마하도록 하여도 좋다. 예컨대 제5도에 표시한 바와같이, 각 블레이드(2)의 외방향 선단가까이에 다른 숫돌편(3b)를 설치하는 것이다.

회전하는 숫돌편(3b)과 케이싱(1) 하부의 숫돌(3c)과의 사이에서, 투입된 입자표면이 연마되어지게 되어서, 연마효율을 한층 높일 수가 있다.

이 경우, 블레이드(2)의 수는 1개나 복수개라도 좋다.

Claims (13)

1. 입자가 수납되는 케이싱(1)과, 상기 케이싱(1)내에 구비된 블레이드(2)와 숫돌(3)로 이루어지고, 상기 숫돌(3)과 상기 블레이드(2)가 서로 근접해서 상대운동하는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 숫돌(3)이 상기 케이싱(1)내 하부에 배치되고, 또한, 상기 블레이드(2)가 화전하고 상기 숫돌(3)과 상대운동하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 블레이드(2)의 상기 케이싱(1)측 선단가까이에 다른 숫돌(3b)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
4. 제3항에 있어서, 상기 케이싱(1)이 회전하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
5. 제1항에 있어서, 상기 블레이드(2)가 복수개로 이루어져 회전하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 숫돌(3)이 상기 블레이드(2)와 거의 동축상으로 배치되어, 상기 블레이드(2)와 블레이드(2)와의 사이의 공간이, 상기 숫돌(3)의 표면에 연통되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
7. 제6항에 있어서, 상기 숫돌(3)이 회전하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
8. 제7항에 있어서, 상기 숫돌(3)과 상기 블레이드(2)가 서로 동방향으로 회전하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
9. 제7항에 있어서, 상기 숫돌(3)과 상기 블레이드(2)가 서로 역방향으로 회전하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 숫돌(3)과, 상기 블레이드(2)의 회전수가 서로 다른 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
11. 제1항에 있어서, 상기 블레이드(2)의 회전중심측 단부가까이에 연마보조판(29)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
12. 제1항에 있어서, 케이싱(1) 상부의 분리탑(11)에 입자와 분진을 분리하는 분리수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.
13. 제12항에 있어서, 분리수단이, 서로 이격해서 상하방향을 역으로해서 대향하는 2조의 판(21),(21),(22),(22)으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 입자의 표면연마장치.

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