KR940004740A - 열처리 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 열처리장치에서는, 열처리부의 프로세스튜브내에는, 열처리하여야 할 웨이퍼를 수평으로 유지하여 프로세스튜브내에 인입하는 웨이퍼홀더가 배설된다. 이 프르세스튜브의 상벽면과 대향하는 상방위치에는 면형상 발열원이 배설된다.
이 면형상 발열원과 프로세스튜브의 상벽면과의 사이에 형성되는 제1의 영역과, 프로세스튜브의 상벽면과의 사이에 형성되는 제1의 영역과, 프로세스튜브의 상단쪽으로 둘러싸도록 형성되는 제2영역내는, 각각 균열부재가 배설되어 있다. 그 때문에, 이 면형상 발열원 및 균열부재에 의하여 웨이퍼에 대해 열처리의 면내균일성을 높일수 있게 된다. 또, 이균열부재는 제2영역에도 배설되어 있기 때문에, 피처리 체인 웨이퍼의 둘레로부터의 방열을 효과적으로 저지할 수 있음과 동시에, 처리의 종류에 따라서 웨이퍼로의 복사열의 입사방향으로 제어할 수 있기때문에, 웨이퍼의 전면을 균일한 온도로 효율좋게 열처리할 수 있게 된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 열처리장치의 제1실시예로서 이것을 종형열처리 장치에 사용한 예의 개략중단면도,
제2도는 본 발명의 열처리장치에 사용하는 웨이퍼홀더로서 여러 장의 웨이퍼를 유지가능한 것을 종단면도,
제3도는 제2도에 나타낸 웨이퍼 홀더를 위에서 본 평면도,
제4도는 A내지 재4도 D는 본 발명의 열처리장치에 사용하는 면형상발열원의 각종 개략구성을 나타내는 구성도,
제5도는 재4도 A내지 제4도 D에 나타낸 면형상 발열원의 다른 변형예의 구성도.
Claims (14)
- 피처리체의 반출입용의 개구부를 가지는 프로세스튜브(10)와, 피처리체를 수평으로 지지하고 상기 개구부를 통하여 상기 프로세스튜브(1O) 내에 반입하여 소정의 처리위치에 피처리체를 설정하는 피처리체 홀더(112)와, 상기 프로세스튜브(10)의 상벽면 혹은 하벽면과 대향하는 상방 혹은 하방 위치에 배설된 면형상 발열원과, 상기 프로세스튜브(10)의 상벽면 혹은 하벽면과 상기 면형상 발열원과의 사이에 형성된 제1영역과 상기 프로세스튜브(10)의 상단쪽 또는 하단쪽의 측벽을 둘러싸도록 형성된 제2영역에 각각 배설된 균열부재를 가지는 열처리장치.
- 피처리체의 반출입용의 하단개구부를 가지는 종형프로세스 튜브와, 피처리체를 수평으로 지지하고 상기 하단개구부를 통하여 상기 종형프로세스튜브내에 반입하여 소정의 처리위치에 피처리체를 설정하는 피처리체 홀더와, 상기 종형프로세스튜브의 상벽면과 대향하는 상방위치에 배설된 면형상 발열원과, 상기 종형프로세스튜브의 상기 상벽면과 대향하는 상방위치에 배설된 면형상 발열과, 상기 종형프로세스튜브의 상기 상벽면과 상기 면형상 발열원과의 사이에 형성된 제1영역과 상기 중형프로세스튜브의 상단쪽의 측벽을 둘러 싸도록 형성된 제2영역에 각각 배설된 균열부재를 가지는 종형 열처리장치.
- 제2항에 있어서, 상기 피처리체 홀더는 처리의 종류에 따라서 상기 피처리체의 처리면을 상기 종형프로세스튜브의 축선방향이 다른 높이의 처리위치에 설정할 수 있도록 구성되고, 또한, 상기 균열부재의 하단부가 하한의 상기 처리위치와 동일 높이의 위치 또는 그보다 상방의 위치까지 뻗어서 형성되어 있는 종형열처리장치.
- 제2항에 있어서, 상기 균열부재가 단면이 대략ㄷ자형으로 일체화되어 있는 있는 종형열처리장치.
- 제2항에 있어서, 상기 균일부재가 탄화규소로 형성되고, 또한, 상기 균열부재의 하단부보다 하방에 위치하는 상기 중형 프로세스튜브의 측벽의 주위를 탄화규소관 또는 석영관으로 덮은 종형열처리장치.
- 제2항에 있어서. 상기 피처리체 홀더가 처리하여야 할 피처리체의 상방에 상기 면형상 발열원(31)으로부터의 열을 흡수 혹은 반사시키는 부재를 지지할 수 있도록 구성되어 있는 종형열처리장치.
- 피처리체의 반출입용의 측방개구부를 가지는 프로세스튜브와, 피처리체를 수평으로 지지하고 상기 측방개구부를 통하여 상기 프로세스튜브 내에 반입하여 소정의 처리위치에 피처리체를 설정하는 피처리체 홀더와, 상기 프로세스튜브의 상벽면 및 하벽면과 대향하는 상방 및 하방위치에 각각 배설된 면형상 발열원과, 상기 프로세스튜브의 상벽면 및 하벽면과 상기 면형상 발열원 사이에 각각 형성된 제1영역과 상기 프로세스튜브의 상단측 및 하단측의 측벽을 둘러싸도록 각각 형성된 제2영역에 각각 배설된 균열 부재를 가지는 횡형열처리 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 균열부재(24)가 각각 단면이 대략 ㄷ자형으로 일체화되어 있는 횡형열처리 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 면형상 발열원은 각각 별개로 독립하여 제어 가능한 횡형열처리 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 면형상 발열원은 그 면내에 있어서 동심형상으로 여러 개의 분할된 부분발열체로 이루어지고, 이 부분발열체는 각각 별개로 독립하여 제어가능한 횡형열처리장치.
- 제7항에 있어서, 상기 피처리체를 홀더는 링형상 유지부와, 이 링형상유지부로부터 상부로 뻗은 수직부재(162)와, 이 수직부재(162)로부터 상기 링형상 유지부의 반경방향 안쪽으로 돌출시킨 수평부재(164)로 이루어지는 횡형열처리장치.
- 제7항에 있어서, 상기 피처리체를 홀더는 링형상 유지부와, 이 링형상 유지부로부터 상부로 얻은 수직부재(162)와, 이 수직부재(162)의 선단부 안쪽에 형성한 절단부(166)로 이루어지는 횡형열처리장치.
- 제7항에 있어서, 상기 측방개구부가 상기 프로세스튜브의 좌우 양쪽에 형성되어 있는 횡형열처리장치.
- 제7항에 있어서, 상기 프로세스튜브(122)의 중심부에 원통형상의 웨이퍼수용부(166)를 설치한 횡형열처리장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP92-250565 | 1992-08-26 | ||
| JP25056592A JPH0677153A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 熱処理装置 |
| JP92-252138 | 1992-08-26 | ||
| JP25213892A JP3240187B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 熱処理方法及びそれに用いる縦型熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940004740A true KR940004740A (ko) | 1994-03-15 |
| KR100299910B1 KR100299910B1 (ko) | 2001-10-22 |
Family
ID=66817503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019930016580A KR100299910B1 (ko) | 1992-08-26 | 1993-08-25 | 열처리장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100299910B1 (ko) |
-
1993
- 1993-08-25 KR KR1019930016580A patent/KR100299910B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100299910B1 (ko) | 2001-10-22 |
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