KR940001551B1 - 라미네이트성 포지티브 포토레지스트 - Google Patents

라미네이트성 포지티브 포토레지스트 Download PDF

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미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
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Abstract

내용 없음.

Description

라미네이트성 포지티브 포토레지스트
본 발명은 라미네이트성 건식 필름인 포지티브 포토레지스트(photoresist)에 관한 것이다. 이러한 포토레지스트는 기판을 부식시키는 공정 또는 상형태대로 기판의 표면에 물질을 용착시키는 공정에 유용하다.
원래, 레지스트는 액체 상태로 기판에 적용되었다. 상기 레지스트는 조사되면 상형태대로 가용성 부위와 불용성 부위를 형성한다. 적당한 현상용액으로 처리하면 가용성 부위는 제거되고 목적하는 영상 패턴의 물리적인 마스크가 기판표면에 남게된다.
기판의 노출부위는 노출부위에 물질을 용착시키거나, (예로 증기코팅 또는 전해공법에 의한 금속도금) 또는 마스크를 통해 노출된 부위의 기판 표면을 부식시킴으로서 처리된다.
미합중국 특허 제3,469,982호는 건식필름의 포토레지스트 물질의 사용을 최초로 발전시켰는데, 그 내용은 라미네이트성 네가티브 단일층 필름을 기판에 부착시켜서 포토레지스트로 사용하는 것이었다.
미합중국 특허 제4,193,797호는 포토레지스트 공정에 사용되는 건식필름 형태의 포지티브 포토레지스트 조성물의 단일층 라미네이트성 필름의 사용에 관해 기술하고 있다.
미합중국 특허 제4,247,616호는 개선된 건식필름 포토레지스트 조성물에 관해 기술하고 있다. 이 조성물은 우수한 감광도, 안정성 및 뛰어난 레지스트 특성을 나타낸다.
미합중국 특허 제4,349,620호는 서로 다른 접착 특성을 갖는 다수의 층으로 구성된 다층의 감광성 필름 레지스트(포지티브-또는 네가티브-)에 관한 것이다. 특히, 일차 감광성 레지스트 조성물 및 일차 감광 조성물과는 서로다른 접착 특성을 갖는 이차 포토레지스트를 포함하는 운반체 층이 기술되어 있다.
재래 기술에서 또다른 개선점은 두층이나 다층의 라미네이트성 포토레지스트 물질 또는 그것의 코팅물을 사용하여 건식필름 레지스트의 감광도 또는 물리적 특성을 향상시켰다는 것이다.
영국특허 제1,493,833호는 운반체층, 감광층(포지티브 감광층을 포함함) 수성이나 유기 용매에 용해되는 비감광층을 포함하는 포토레지스트 사용에 관한 것이다. 많은 천연 중합체와 합성 중합체가 비감광층에 사용된다. 미합중국 특허 제4,204,009호는 처리될 기판의 상부에 서로다른 반응성을 지닌 두개의 감광층을 서로 이웃하여 포함하고 있는 레지스트 사용을 기술하고 있다. 미합중국 특허 제4,217,407호는 투과성이며, 팽창성이며, 알칼리성 엔벨로퍼에 가용성인 적어도 하나의 다른 층과 결합되어 있는 O-퀴논 디아지드가 함유된 다층의 레지스트 물질의 사용에 관한 것이다. 여기에 비감광성 조성물의 간단한 목록이 실려있다.
미합중국 특허 제4,191,573호는 플레이트되거나 또는 부식되는 지지체와 독립적으로 사용된 광용해성 층의 두개의 액체 레지스트를 포함하는 감광성 영상 엘리먼트에 관한 것이다. 이 레지스트 층은 아지드 화합물과 폴리아미드를 포함하고 있다.
미합중국 특허 제4,180,604호는 두개의 개별 코팅된 액체 감광성 레지스트층의 사용을 기술하고 있다. 조성물은 2차 층을 코팅시키는데 사용되었던 다량의 용매 희석제와 똑같은 조성물을 나타낸다.
층의 두께가 얇으면 쉽게 용해되므로 레지스트 영상 형성시에 언더커팅(undercutting)이 증가될 수 있다.
1982년 9월 29일 P.M.Koelsch와 J.P.Vikesland에 의해 출원된 미합중국 특허 일련번호 제428,475호는 개선된 두개의 층으로 이루어진 포토레지스트에 대해 설명하고 있다. 한 층은 감광성이며 포지티브 레지스트 조성물로 이루어졌고, 부식되거나 또는 플레이트되는 제품 표면에 조성물을 결합시키는 또다른 층은 가교성이며 빛과 무관한 라미네이트성 열 접착층이다. 가교됨으로써 레지스트 상의 언더커팅을 감소시킨다.
본 발명은 부식과 플레이트 공정에 유용한 다층의 라미네이트성 포지티브 건식필름 포토레지스트 제품에 관한 것이다.
라미네이트성 제품은 일차 포지티브 포토레지스트 층에 포함된 광용해제의 양보다 적은 유효량을 포함하는 열가소성 2차 포지티브 포토레지스트 접착층과 결합된 적어도 하나의 포지티브 포토레지스트 층을 포함하고 있다. 2차층의 조성물 및 결합의 물리적 특성을 개선시키기 위해서 이차층은 바람직하게 가교되었거나 또는 가교성이다.
라미네이트성 포지티브 건식필름 포토레지스트 제품은 적어도 두개의 작용층과 임의로 스트립성 운반층을 포함하고 있다. 하나의 작용층은 포지티브 건식필름 포토레지스트 조성물로 이루어졌으며 다른 하나의 작용층은 라미네이트성 포지티브 포토레지스트열 접착층이다.
건식필름 포토레지스트 조성물은 해당 기술분야에 공지되어 있다. 중합성 결합제(열가소성 또는 가교된 결합제)는 중합체에 부속된 상태로 감광물질 또는 감광부분을 운반하며, 선택된 용매의 용해도는 조사에 노출되었을때 증가한다. 광용해성 부분은 중합체 골격의 일부이다. 가장 바람직한 포지티브 감광제 종류는 O-퀴논 디아지드기를 갖는 것들이다.
이러한 물질은 일반적으로 해당 기술 분야에 O-퀴논 디아지드 또는 디아조옥사이드로 알려져 있다. 이 조성물은 하기 문헌에 소개되어 있다[참고 : 미합중국 특허 제4, 349,620; 4,345,020; 4,346,163; 4,193,797; 4,217,407; 4,247,616; 4,211,834; 4,007,047; 3,666,473; 3,201,239; 및 4,180,604호]
상기 포지티브 감광제는 일반적으로 레지스트 층의 5 내지 80중량%, 바람직하게는 10 내지 50중량%의 양으로 사용된다. 상기 특허는 포지티브 작용성 O-퀴논 디아지드와 함께 사용될 수 있는 여러가지 다양한 결합제에 관해 기술하고 있다. 바람직한 결합물질은 페놀 포름알데히드 수지(미합중국 특허 제4,247,616호에서는 노볼락 또는 레졸 단독으로 사용되거나 또는 가교된 에폭사이드와 함께 사용되는 노볼락 또는 레졸에 관해 기술함.)이나, 다양한 결합제가 해당 기술에 사용될 수 있다. 이러한 결합제는 재래 기술에 공지된 것처럼 아크릴 수지(예, 알킬 메타아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 공중합체등,) 중합성 폴리올(예, 폴리비닐 알코올, 및 폴리아크릴레이트 및 폴리메틸 아크릴레이트 폴리에스테르 같은 히드록시 치환된 부가 폴리에스테르), 히드록시치환된 공중합체(예, 폴리[메틸 메타아크릴레이트/히드록시 메틸아크릴레이트]), 천연 콜로이드(예, 젤라틴 및 쉘락), 폴리비닐 수소 프탈레이트, 에틸렌 옥사이드 중합체와 공중합체, 폴리아크릴 아미드, 폴리에틸렌성 불포화 물질(예, 폴리스티렌 및 이것의 공중합체), 폴리아미드, 폴리에스테르 및 천연 및 합성의 열가소성 및 가교된 기타 다양한 중합성물질을 포함한다. 필요한 조건은 상기 물질이 수성 알카리 현상액 또는 유기현상액에 대해 적어도 어느 정도의 용해도를 갖는 것이어야 한다. 일차 감광층의 두께는 일반적으로 0.05 내지 2.0mil, 바람직하게는 0.10 내지 0.50mil이고, 더욱 바람직하게는 0.1 이상 0.3mil 이하이다.
열가소성 접착층은 건식필름 포지티브 포토레지스트 기술의 상업적 성공에 필수 불가결한 것이다. 단일층 구성물은 아직까지 현재의 상업적 요구조건도 만족시키지 못했는데, 그 요구조건은 (1) 보관시에 필름의 파손 방지(필름이 부서지기 쉬운 성질 때문에), (2) 감광력, (필름의 감광속도가 상업 공정에 너무 느리다), (3) 플레이팅 공정 및 부식 공정시에 필름에 대한 열안정도 등이다.
상술된 미합중국 특허 출원일련번호 제428,475호의 기술에 따르면 포토레지스트 제품을 라미네이트화하는데 비감광성 접착층은 사용함으로써 상술된 세가지 문제점을 극복한다. 포토 레지스트층과 수용층 사이에는 접착층이 존재하여 건식필름 포지티브 포토레지스트 기술을 향상시키는 반면 단일층 구조물은 상기 기술의 요구 조건을 만족시키지 못한다.
본 발명의 열가소성 접착층은 열에 의해 라미네이트화 되는 감광성 접착층이다. 이 층은 일차 감광층 보다 적은 유효량의 광용해제(포지티브 감광제)를 지니고 있다. 라미네이트된 접착층이 언더커팅 정도를 조절하고 고감광성 일차층이 상을 조절할 수 있도록 한다. 광용해제의 "소량의 유효량"이란 소정의 활성화 노광에서 일차 감광층에서의 광용해제의 양 보다 층을 광용해시키는 더 적은 비율로 라미네이트성 접착층에 존재하는 광용해제의 실제 작용량을 뜻한다. 그러므로 접착층의 용해도 증가는 레지스트 상부층의 용해도 증가 보다 적다. 예로, 일차층과 접착층이 둘다 페놀-포름 알데히드 수지로 구성되고 두층의 포지티브 감광제가 동일하다면, 저농도 또는 낮은 퍼센트의 광용해제가 접착층에서 사용된다. 일차 감광층과 접착층의 중합 조성물이 똑같더라도 서로다른 속도를 갖는 포지티브 감광제가 사용된다면, 저속도로 작용하는 감광제는 감광층을 용해시키기 위해 일차 감광층에서 광용해제의 유효능 보다 더 적은 범위의 양으로 접착제에 사용될 수 있다.
보다 덜 감광되는 광용해제 다량이 일차층에서 사용될 수 있으며 보다 많이 감광되는 광용해제 소량이 접착층에서 사용될 수 있다.
이러한 변화는 상술된 구조물에 있어서 어떠한 잇점도 가져오지 않는다.
바람직하게, 일차 감광층이 빛에 노광되었을 때처럼 접착층은 용해되는 물질에 대해 10-90%의 광용해제를 포함하고 있다. 바람직하게, 접착층은 용해되는 물질의 양에 대해 30-90%를 지니고 있는데 이것은 일차 포토레지스트 층과 똑같은 것으로서 바람직하게는 40-85%의 물질을 생성할 수 있다. 접착층은 보다 적은 농도를 지니며 두층에서의 광용해제는 바람직하게 거의 동량이다.
전술한 바와 같은 라미네이트성 접착층은 2차원, 3차원(가교된) 또는 가교성 중합체를 포함할 수 있다. 가교된 중합체가 본 발명에 있어서 바람직하다.
가교된 또는 가교성 라미네이트성 층은 수용성 알카리용액 또는 유기용매 용액에 용해되며 가압과 가열시에 기질에 대한 그 층의 결합을 방지하기 위해서 충분히 가교되지 않는 어떠한 조성물로 구성될 수 있다. 일반적으로, 가교된 또는 가교성 층은 20초 이하동안 150℃ 이하의 온도에서 10파운드/(inch) 2이하의 힘으로 기질에 대해 가압될때 완만하게 연마된 구리, 알루미늄, 주석 또는 폴리에스테르의 적어도 하나의 기질에 접착될 수 있어야 한다. 카미네이트성 접착층은 주표면을 노망시켜서(용융 또는 화학적 처리없이 물리적으로 박리 가능한 있는 커버 시이트를 제거함) 라미네이트 될 수 있다.
예컨대, 두개의 다른 층에 융합되어 그것들 사이에 삽입된 층은 라미네이트화 될 수 없다. 이러한 특징이 본 발명의 실시에서 라미네이트성이란 어휘를 정의한다. 본질적으로 가교성 수지(즉, 가교성 케미칼 물질의 외적인 적용없음)는 라미네이트화될 정도로 가교될 수 있고, 보다 더 가교될 수 있다. 가열등에 의해 더욱 가교될 수 있는 원 조성물을 부분적으로 가교시킬 수 있는 광활성 가교제의 포함은 해당 기술분야의 기술자에게 공지된 여러 방법으로 성취될 수 있다.
라미네이트성 층에서 바람직한 가교성 또는 가교 능력은 건조 필름 포토레지스트 제품의 다양한 적용은 그 다양한 적용 목적에 따른 상이한 특성을 필요로 할 것이라는 사실로부터 비롯된다. 이것은 그 층에 제공된 가교 자극 정도로써 조절될 수 있는 그 층의 가교성 능력이 본 발명의 바람직한 실시예가 되는 이유이다. 가교는 그 층에 제공될 수 있는 향상된 용해도 조절성 때문에 종래 기술에서 라미네이트성 층으로서 열가소성 물질의 일반적인 사용에 대한 개선점이다. 가교성 조성물은 본 발명에 의한 가교의 정의를 만족시킬 정도로 가교되어야 한다.
열가소성 라미네이트 층에서의 용해도를 조절함으로써 감소 반환점에 빠르게 도달한다. 특히 우기 용매가 현상액으로서 사용될때, 라미네이트층에서 사용된 열가소성 중합체의 분자량이 증가되면 용해도의 조절은 더욱 어려워지며 현상액에서 그 층의 본래 용해도가 감소된다.
예컨대, 열가소성 중합체의 분자량을 500,000에서 1,000,000으로 2배 증가는 용해도를 용이하게 조절하지 못하게 되며 그 중합 물질내에서 분자량의 분포 때문에 일정한 특성의 중합체를 용이하게 산출하지 않는다.
한편, 조절된 가교는 더욱 정확하게 조절된 용해 특성을 가진 더욱 일정한 조성물을 제공한다. 특히 플레이팅 공정과 같은 고온이 사용되는 많은 정밀 공정에서 대단히 중요한 라미네이트화된 레지스트에서의 열적 안정도에 대하여서는 이것이 특히 해당된다.
불완전한 가교상태(즉, 적어도 부분적으로 가교된)의 가교될 수 있는 어떠한 중합성 물질은 수용성 알카리용액 또는 본 발명 실시에 유용한 유기용매에 용해된다. 가교됨으로써, 중합 조성물은 이것에 대하여 적어도 삼차 구조를 가지며 가교되지 않은 중합성 조성물 보다 적어도 10% (바람직하게는 적어도 15 또는 20%, 더욱 바람직하게는 25 또는 50%) 정도가 선택된 현상액에 (절대량 또는 용해화의 비율로) 덜 용해된다.
라미네이트성 층에 대해 사용될 수 있는 여러 종류들중에 페놀 포름알데히드 수지(노볼락 포함), 에폭시수지, 아크릴수지(및 공중합체), 폴리에스테르, 폴리아미드 등이 있다. 이들 물질의 각각은 가교될 수 있거나 또는 가교된 수지와 혼합될 수 있는 것으로 기술상 공지되었으며 당업자는 여러가지 중합성 물질에 대하여 사용할 수 있는 많은 가교제를 알고 있다. 이들은 예컨대, 디이소시아네이트와 에폭사이드, 이산클로라이드, 디안히드라이드, 이산, 폴리이소시아네이트, 폴리에폭시드, 다가산, 아지리딘, 아즈락톤, 디헬라이드, 폴리헬라이드 등을 포함한다.
가교되었을때, 라미네이트성 층은 라미네이트성이 보존되어야 한다.
지나치게 가교되어서 라미네이트화 되지도 않고 수용성 알카리용액과 유기용매 용액에 용해될 수도 없을때, 라미네이트화 되기전에 어떠한 가교층도 감광성 레지스트층과 함께 결합되지 않아야 한다. 이러한 조절은 당업자에게는 널리 공지된 사항이며 어떠한 가교성 물질 및 특정한 가교제에 대하여 일상적인 실험에 의해 결정될 수 있다.
열가소성 물질과 이들 가교성 물질과의 혼합물은 당업자에 의해 용이하게 제조될 수 있다. 예로써, 미국특허 제4,247,616호의 조성물은 포지티브 작용성 감광제에 대한 결합 조성물로서 뿐만 아니라 라미네이트성 층으로도 사용될 수 있다. 라미네이트성 층에 대한 본 발명의 바람직한 조성물에는 아크릴 수지 특히 레졸수지와 아크릴 삼중합체와 함께 혼합된 페놀 포름알데히드 수지가 포함된다. 상술한 바와 같은, 가교 물질에 대한 상대적 용해도 측정을 위한 전형적인 현상액은 pH 13.0 내지 13.5의 수용성 수산화나트륨 용액이다.
라미네이트성 감광층은 그들의 특정한 목적에 따라 그 두께를 변화시킬 수 있다. 일반적으로, 많은 층들이 일차 감광성 레지스트층과 그 접착층에 대하여 2 내지 25마이크론, 바람직하게는 4 내지 15마이크론 그리고 가장 바람직하게는 6 내지 12마이크론의 범위로 그 두께가 변화된다.
상기 라미네이트성 감광층은 동일하거나 보다 적거나 또는 더 큰 두께를 가질 수 있지만 감광성 레지스트층에 대해 제공된 광범위한 한계내에 포함되어야 한다. 그 조성물은 주름잡힘과 같은 구조적인 손상없이 그 조성물의 물리적 전이를 가능케 하는 4마이크론 이상, 바람직하게는 6마이크론 이상이어야 한다.
여러가지 다른 성분들이 이들 층에 포함될 수 있다는 것은 기술상 공지되어 있다. 계면활성제, 스펙트럼 감광제, 염료, 충진제, 윤활제, 코팅 보조제, 스펙트럼 흡수제(자외선 방사 흡수제 등) 등이 기술상 공지된 바와 같이 사용될 수 있다.
본 발명의 기타 양상들은 하기 실시예에서 소개될 것이다.
[실시예 1]
감광성 코팅 용액은 하기의 성분들을 혼합하여 제조했다.
아세톤 40g
"Resinox", 노볼락 페놀성(페놀-포름알데히드)수지 60g
아크릴로이드 AT-70, 스티렌, 에틸아크릴레이트 아클리 산 삼중합
체(크실렌과 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 50/50용매중의 4g
50% 고형수지)
DMP-30, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀 아민 촉매 0.2g
DDI-1410, C36지방족 디이소시아네이트 1.3g
페닐 이소시아네이트 2.5g
두시간 반응시킨 후, 이 용액을 하기의 첨가물과 혼합했다 :
DER 732, 프로필렌 글리콜 디(2,3-글리시딜프로필)에테르 3.2g
디아미노 디페닐설폰 1.3g
프탈산 무수물 0.4g
2,4-디히드록시벤조페논 비스-[나프토퀴논-(1,2)-디아지드-
(2)-5-설포네이트]감광제 7.4g
이 용액을 "Gantrez" S-95의 방출층, 말레산 무수물과 메틸 비닐에테르의 산성화된 공중합체를 포함하는 폴리에스테르 웹상에 피복시켰다.
그 건조 온도는 100℃이며 3분 동안 행했다. 감광층의 건조 두께는 0.2-0.3mil이었다. 미국특허 제4,247,616호에 기술된 다른 감광성 코팅물이 사용될 수도 있다.
라미네이트성 감광층을 제공하는 용액을 0.25-0.35mil 두께로 코팅하여 100℃에서 3분 동안 건조했다. 바람직한 코팅 용액은 하기와 같다 :
30g 아세톤
5.4g BKR 2620, 메졸형태의 페놀포름 알데히드 수지
0.05g 트리에틸렌디아민
0.2g DDI-1410, C36지방족 디이소시아네이트
2.0g "Carboset" 525, 에틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 아크릴산
삼중합체
2.5g 2,4-디히드록시벤조페논 비스-[나프토퀴논-(1,2)-디아지드-
(2)-5-설포네이트]광용해제
피복된 건식 필름을 110℃로 고정된 가열된-롤 라미네이터 세트를 사용하여 구리 호일에 3ft/분의 속도로 적층시킨다.
적층된 레지스트를 포토마스크를 통해 노광시키고 약 1.0% 수산화나트륨 용액으로 현상한다. 산출된 상의 질은 0.2mil의 선 넓이 해상력으로 우수하다. 용액중에 어떠한 광감제도 함유하지 않는 동일한 조성물은 단지 0.5mil의 선 넓이 해상력을 제공한다.
이 조성물은 열에 대해 안정하므로 77℃ (흔히 사용되는 전기 도금 용액의 최대 온도 보다 높음) 이하의 배드 온도에서 레지스트의 경계면 프로필 변화는 무시할 수 있을 정도이다. 66℃에서 FeCl3에칭액에 대한 화학적 내성이 대단히 우수하다.
실시예 1의 비 감광성 조성물로 사용된 것과 같은 비-가교성 조성물을 트리에틸렌 디아민(가교성 촉매)과 디이소시아네이트(DDI-1410 가고제)를 사용하지 않고 제조했다. 그 조성물을 감광층에 코팅시키고 실시예 1과 같은 방법으로 건조했다. 두층(bilayer)을 적층화하여, 노광시킨 후 실시예 1과 같이 현상했다. 현상된 포토레지스트를 현미경으로 분석한 결과 비가교성 두층상에서 심각한 언더커팅과 영상에서 해상력의 손실을 나타낸다.
[실시예 2-3]
상기 실시예 이외에, 실시예 1에서 사용된 감광제의 동일한 저 유효량과 함께 그 접착층으로서 하기 조성물들을 연속적으로 사용한다.
A. 38.1g 아세톤
5.1g BKR 2620
3.1g Carboset 525
0.13g Gantrez AN 119,(말레산무수물, 메틸 비닐 에테르 공중합체)
B. 40g 아세톤
0.05g 트리에틸렌 디아민
5.4g BKR 2620
0.1g 페닐이소시아네이트
2.0g Carboset 525
조성물 B는 가교성 조성물이다. 처음 라미네이트될때, 상기 조성물은 현상에 의해서 언더커트될 수 있다. 라미네이트화된 조성물을 가열함으로써 가교 반응은 개시되고 다양한 정도로 가교될 수 있다.
이런 방법에서는 마스크 또는 상의 정밀한 언더커팅 정도를 조절하여 공정의 최적합 범위를 제공할 수 있다. 적층된 후 15분간 122℃에서 조성물 B를 가열하면 그 현상액(pH 13+의 수용성 알카리용액)에 의해 거의 언더커트되지 않은 접착층이 산출된다.
[실시예 4]
감광성 코팅 용액을 하기 성분을 혼합하여 제조했다 :
아세톤 40g
레지녹스, 노볼락 페놀성 수지 20g
아크릴로이드 AT-70, 스티렌, 에틸 아크릴레이트 아크릴산 삼중합 4g
체(50% 고체)
DMP 30, 아민 촉매 0.2g
DDI 1140, 지방족 디이소시아네이트 1.3g
페닐 이소시아네이트 2.5g
두시간 반응시킨 후, 이 용액을 하기 물질과 혼합했다 :
DER 732, 비스 에폭시 3.2g
디아미노디페닐설폰 1.3g
프탈산 무수물 0.4g
1,2-나프탈로퀴논 디아지드 5-p-t-부틸 테닐설포네이트 7.4g
용액을 Gantrez S-95, 말레산무수물과 메틸 비닐 에테르의 산성화 공중합체의 방출층을 포함하는 폴리에스테르 웨브상에 코팅했다. 3분간 100℃로 건조했다. 건조된 감광층의 두께는 0.25mil이었다.
이차 감광 용액을 0.25-0.35mil 두께로 코팅하여 100℃에서 3분 동안 건조했다. 바람직한 비 감광성 코팅 용액은 하기와 같다.
30g 메틸에틸케톤
5.4g BKR 2620
0.05g 트리에티렌디아민
0.2g DDI 1410
2.0g Carboset 525, 에틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트,
아크릴 산 삼중합체
1.0g 1,2 나프탈로퀴논 디아지드 5-p-t-부틸 페닐 설포네이트
코팅된 건조 필름을 110℃로 가열된 롤 라미네이터를 사용하여 구리호일에 3ft/분의 속도로 적층했다. 적층된 레지스트를 포토마스크를 통해 농광시킨 후 1.0% 수산화나트륨 용액으로 현상했다.
산출된 영상의 질은 침지 현상에 의해 4마이크로미터의 라인 넓이 해상력까지는 우수했다.

Claims (12)

  1. a) 적어도 하나의 포지티브 감광제를 포함하며, 화학 광선에 노광된 후 알카리 수용액 또는 유기 용매에 용해되는 일차 포지티브 포토레지스트 층과, b) 수용층에 라미네이트되며, 일차층에 인접하여 부착되고, 화학 광선에 노광된 후 알카리 수용액과 유기용매에 일차층 보다 더 잘 용해되며, 상기의 일차층 보다 적은 유효량의 포지티브 감광제를 함유하는 라미네이트성 유기 중합체로 이루어진 이차 포토레지스트 층을 포함하는 적어도 두개의 층으로 이루어진 라미네이트성 건조필름 포지티브 포토레지스트.
  2. 제1항에 있어서, 스트립성 운반체층이 상기 일차층에 부착되는 포토레지스트.
  3. 제2항에 있어서, 상기의 일차 포토레지스트 층이 유기중합체성 결합제중에 O-퀴논 디아지드를 포함하고 있으며 상기 이차층의 유기 중합체는 가교된 것인 포토레지스트.
  4. 제3항에 있어서, 상기의 유기 중합성 결합제가 페놀 포름 알데히드 수지를 포함하는 포토레지스트.
  5. 제4항에 있어서, 상기 이차층의 유기 중합체가 아크릴 중합체를 포함하는 포토레지스트.
  6. 제2항에 있어서, 상기 이차층의 유기 중합체가 열에 의해 가교되는 포토레지스트.
  7. 제3항에 있어서, 상기 이차층의 유기 중합체가 페놀 포름알데히드 수지와 아크릴 중합체를 포함하며 일차층과 이차층의 두께는 적어도 2 마이크로미터인 포토레지스트.
  8. 제6항에 있어서, 상기 이차층의 유기 중합체가 페놀 포름 알데히드 수지와 아크릴 중합체를 포함하는 포토레지스트.
  9. 제5항에 있어서, 상기 이차층이 (1) 아크릴 공중합체 또는 아크릴 삼중합체 및 (2) 폴리이소시아네이트와 가교된 페놀 포름알데히드 수지를 포함하는 포토레지스트.
  10. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 상기 일차층과 이차층의 포지티브 감광제는 동일한 화합물을 포함하고 있으며 상기 이차층의 상기 화합물 농도는 일차층에 존재하는 상기 화합물 농도의 10 내지 90%의 범위이며, 일차층과 이차층의 두께가 적어도 2마이크로미터인 포토레지스트.
  11. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 상기 일차층과 이차층의 포지티브 감광제는 동일한 화합물을 포함하고 있으며 이차층의 상기 화합물 농도가 일차층의 상기 화합물 농도의 10 내지 90%의 범위인 포토레지스트.
  12. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 상기 일차층과 이차층의 포지티브 감광제는 동일한 화합물을 포함하고 있으며 이차층의 상기 화합물의 농도가 일차층의 상기 화합물 농도의 40 내지 85%의 범위인 포토레지스트.
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