KR930007964A - 저 산소 국재화 잔기를 함유하는 레늄 및 테크네륨 착물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 금속, 바람직하기로는 레늄 또는 테크네륨의 방사성 핵종, 저 산소 국재화 잔기 및 착화 리간드로 이루어진, 저 산소 국재화 잔기에 결합된 금속착물 및 그의 제조 방법에 관한 것이며, 상기 리간드 및 혼합된 방사성 핵종은 슈크로스 보다 더욱 큰 세포막 투과성을 갖는다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (62)
- 하기 일반식의 화합물.상기 각 식에서, 하나 이상의 R은 -(A)p-R2이고, 여기서 (A)p는 연결기이고, (R)2는 저 산소 국재화 잔기이고, 나머지 R기는 동일 또는 상이한 것으로서 수소, 할로겐, 히드록시, 알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 아릴, -COOR3,-NH2, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 히드록시아릴, 할로알킬, 아릴알킬, -알킬-COOR3, -알킬-CON(R3)2, -알킬-N(R3)2, -아릴-COOR3, -아릴-CON(R|3)2, -아릴-N(R3)2, 질소 또는 산소 함유 5 또는 6원 헤테로사이클로 부터 독립적으로 선택되거나, 또는 2개의 R기는 이들이 결합된 1개 이상의 원자와 함께 R기로 치환될 수 있는 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭, 포화 또는 불포화 스피로 또는 융합고리를 형성하고, R1은 수소, 티올 보호기 또는 -(A)p-R2이고, R3은 수소, 알킬 또는 아릴이고, m은 2 내지 5이고, p는 0 내지 20이다.
- 14C-슈크로스 보다 더 큰 세포막 투과성을 갖는, 금속과 저 산소 국재화 잔기를 함유하는 리간드와의 착물.
- 제2항에 있어서, 배위수가 7 미만인 착물.
- 제2항에 있어서, 금속이 비방사성인 착물.
- 제2항에 있어서, 금속이 방사성인 착물.
- 제5항에 있어서, 상기 금속이 테크네튬 도는 레늄인 착물.
- 제6항에 있어서, 상기 금속이 +5의 산화 상태인 착물.
- 제2항에 있어서, 상기 리간드가 상기 금속과 킬레이트를 형성하는 착물.
- 제8항에 있어서, 상기 착물이 2좌 리간드로부터 형성되는 착물.
- 제8항에 있어서, 상기 착물이 3좌 리간드로부터 형성되는 착물.
- 제8항에 있어서, 상기 착물이 4좌 리간드로부터 형성되는 착물.
- 제2항에 있어서, 상기 리간드가 하기 일반식의 화합물로부터 선택되는 착물.상기 각 식에서, 하나 이상의 R은 -(A)p-R2이고, 여기서 (A)p는 연결기이고, (R)2는 저 산소 국재화 잔기이고, 나머지 R기는 동일 또는 상이한 것으로서 수소, 할로겐, 히드록시, 알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 아릴, -COOR3,-NH2, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 히드록시아릴, 할로알킬, 아릴알킬, -알킬-COOR3, -알킬-CON(R3)2, -알킬-N(R3)2, -아릴-COOR3, -아릴-CON(R|3)2, -아릴-N(R3)2, 질소 또는 산소 함유 5 또는 6원 헤테로사이클로 부터 독립적으로 선택되거나, 또는 2개의 R기는 이들이 결합된 1개 이상의 원자와 함께 R기로 치환될 수 있는 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭, 포화 또는 불포화 스피로 또는 융합고리를 형성하고, R1은 수소, 티올 보호기 또는 -(A)p-R2이고, R3은 수소, 알킬 또는 아릴이고, m은 2 내지 5이고, p는 0 내지 20이다.
- 제12항에 있어서, 금속이 테크네튬의 방사성 핵종인 착물.
- 제12항에 있어서, 상기 리간드가 일반식(Ⅰb)의 화합물이고, 상기 금속이 레늄의 방사성 핵종인 착물.
- 제12항에 있어서, 연결기 (A)p을 함유하고, 여기서 p는 0을 초과하는 정수이고 다양한 A 단위(직쇄 또는 분지쇄를 형성함)는 -CH2-, -CHR4-, -CR4R5-, -CH=CH-, -CH=CR4-, -CR4=CR5-, ,-C≡C-, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴, 헤테로시클로, 산소, 황,-NH-, -HC=N-, -NR4- 및 -CS-로부터 독립적으로 선택되고, 여기서, R4및 R5는 알킬, 알케닐, 알콕시, 아릴, 질소 또는 산소 함유 5 또는 6원 헤테로사이클, 할로겐, 히드록시 또는 히드록시알킬로부터 독립적으로 선택되는 착물.
- 제15항에 있어서, (A)p가 없거나, 또는 알킬, 옥사-알킬, 히드록시알킬, 히드록시알콕시, 알케닐아릴알킬, 알케닐, 아릴알킬아미드, 알킬아미드, 알킬아민 및 (알킬아민)알킬로부터 선택되는 착물.
- 제16항에 있어서, (A)p가 없거나, 또는 -(CH2)1-5-, -CH2-CH=CH-CH|2-, , -(CH2)0-3-NH-CO(CH2)0-3 -CH2CH(OH)CH2OCH2-,, -(A3-O-A3′)1-3-또는 -(A3-NH-A3′)1-3-로부터 선택되고, 여기서, A3및 A3′은 동일 또는 상이한 알킬인 착물.
- 제12항에 있어서, 저 산소 국재화 잔기(R2)가 저 산소 매기 니트로-헤테로시 클릭기인 착물.
- 제18항에 있어서, 상기 착물의 연결기/저 산소 국재화 부분이 다음 중에서 선택되는 것인 착물.상기 각 식에서, 고리 부분은 5원 또는 6원 시클릭 도는 방향족 고리이고, n은 5 또는 6원 고리 상에서 이용될수 있는 치환 지점의 총수이고, 1개 이상의 R7기는 수소, 할로겐, 알킬, 아릴, 알콕시, 히드록시, 히드록시알킬, 히드록시알콕시, 알케닐, 아릴알킬, 아릴알킬아미드, 알킬아미드, 알킬아민 및 (알킬아민)알킬로부터 독립적으로 선택되고, X1은 질소, 황, 산소, -CR7=또는 -CRR-이고, (A)p는 니트로-헤테로시클릭 저 산소 국재화 잔기가 질소 또는 탄소 원자를 통해 제18항의 착물의 나머지 부분에 연결되는 경우 존재하지 않을 수도 있거나, 또는 (A)p는 니트로-헤테로시클릭기와 상기 제18항의 착물의 나머지 부분 사이를 연결한다.
- 제18항에 있어서, 상기 저 산소 매개 니트로-헤테로시클릭기가 2-, 4- 또는 5-니트로이미다졸, 니트로푸란, 니트로티아졸 및 이들의 유도체로부터 선택되는 것인 착물.
- 제20항에 있어서, 상기 착물의 국재화 기가 다음 중에서 선택되는 것인 착물.및상기 각 식에서, R7은 상기 제19항에서 정의한 바와 동일하다.
- 제20항에 있어서, 착물의 연결기/국재화 잔기 부분이 다음 중에서 선택되는 것인 착물.
- 제12항에 있어서, 상기 리간드가 하기 일반식의 화합물인 착물.상기 식에서, R, R2및 (A)p는 상기 제12항에서 정의한 바와 동일하다.
- 제23항에 있어서, R2가 니트로헤테로시클릭기이고, 각각의 R이 수소, 히드록시 또는 알킬로부터 선택되는 것인 착물.
- 제12항에 있어서, 상기 리간드가 하기 일반식의 화합물인 착물.상기 식에서, R, R2및 (A)p는 상기 제12항에서 정의한 바와 동일하고, s 및 t는 각각 0 내지 4이되, 단 s+t=4 이하이다.
- 제25항에 있어서, R2는 니트로헤테로시클릭기이고, 각각의 R은 수소 또는 알킬인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 3,3,9,9-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 3,3,9,9-테트라메틸-1-(4-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 4,4,10,10-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-5, 9-디아자운데칸-3, 11-디온 디옥심인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 6-히드록시-3,3,9,9-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 3,3,9,9-테트라메틸-6-((2-니트로-1H-이미다조-1-일)아세트아미도)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 3,3,9,9-테트라메틸-6-((2-니트로-1H-이미다조-1-일)에틸)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 착물.
- 제12항에 있어서, 리간드가 하기 일반식의 화합물인 착물.상기 식에서, R1은 H 또는 티올 보호기로부터 선택되고, 나머지 R기들은 H, 히드록시 또는 알킬로부터 독립적으로 선택된다.
- 제33항에 있어서, 방사성 핵종 및 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드가 5,8-디아자-1, 2-디티아-5-(2-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)에틸)-3,3,10,10-테트라메틸시클로도데칸인 착물.
- 제12항에 있어서, 리간드가 하기 일반식의 화합물인 착물.상기 식에서, R1은 H 또는 티올 보호기로부터 선택되고, 나머지 R기들은 H, 히드록시 또는 알킬로부터 독립적으로 선택된다.
- 제12항에 있어서, 리간드가 하기 일반식의 화합물인 착물.상기 식에서, R1은 H 또는 티올 보호기로부터 선택되고, 나머지 R기들은 H, 히드록시 또는 알킬로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 2개의 R기는 이들이 결합된 1개 이상의 원자와 함께 R기로 치환될 수 있는 포화 또는 불포화된 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭 스피로 또는 융합 고리를 형성한다.
- 제1항의 화합물로부터 선택된 리간드원 및 환원제로 이루어진, 제2항의 착물 제조용으로 적당한 키트.
- 제37항에 있어서, 상기 환원제가 제1 주석 화합물인 키트.
- 제37항에 있어서, 상기 금속이 테크네튬 및 레늄으로부터 선택되는 것인 키트.
- 제1 바이알 중의 교환 리간드원 및 환원제와 제2 바이알 중의 제1항의 화합물로부터 선택된 리간드원으로 이루어진 제2항의 금속 착물 제조용으로 적당한 다중 바이알 키트.
- 제40항에 있어서, 상기 환원제가 제1 주석 화합물인 키트.
- 제40항에 있어서, 상기 교환 리간드가 글류코헵토네이트, 만니톨, 말레이트, 시트르산 및 타르타르산으로부터 선택되는 것인 키트.
- 제40항에 있어서, 상기 금속이 테크네튬 및 레늄으로부터 선택되는 것인 키트.
- 알킬렌 디아민을 2 당량의 할로케톤과 반응시켜 알킬렌 디아민디케톤을 얻은 후, 이를 알킬렌 디아민디옥심으로 전환시키거나, 또는 알킬렌 디아민을 1 당량의 제1 할로케톤과 반응시키고, 생성물을 1 당량의 제2 할로케톤과 반응시킨 다음, 알킬렌 디아민디옥심으로 전환시키거나, 또는 알킬렌 디아민을 1 당량의 클로로니트로소와 반응시키고, 이어서 생성물을 할로겐케톤과 반응시킨 다음, 알킬렌 디아민디옥심으로 전환시키는 것으로 이루어진 알킬렌 디아민디옥심의 제조 방법.
- 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 2 당량의 하기 일반식(Ⅵ)의 할로케톤과 반응시켜 하기 일반식(Ⅶ)의 디케톤을 얻은 후, 이를 대응하는 디옥심 화합물로 전환시키거나, 또는 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 1 당량의 하기 일반식(Ⅵ)의 제1할로케톤과 반응시켜 하기 일반식(Ⅷ)의 중간체를 얻은 후, 이를 1 당량의 하기 일반식(Ⅵ)의 제2할로케톤(하나 이상의 R이 제1 할로 케톤의 대응하는 R기와 다르다)과 반응시켜 하기 일반식(Ⅶ)의 중간체를 얻은 후, 이를 전환시켜 대응하는 디옥심(일반식 (Ⅰa)의 화합물의 제1 아민 옥심 부분에 치환된 R기가 제2 아민 옥심 부분에 치환된 R기와 상이하다)으로 전환시키는 것으로 이루어진, 하기 일반식(Ⅰa)의 화합물의 제조방법.상기 각 식에서 하나 이상의 R은 -(A)p-R2이고, 여기서 (A)p는 연결기이고, (R)2는 저 산소 국재화 잔기이고, 나머지 R기는 동일 또는 상이한 것으로서 수소, 할로겐, 히드록시, 알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 아릴, -COOR3, , -NH2, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 히드록시아릴, 할로알킬, 아릴알킬, -알킬-COOR3, -알킬-CON(R3)2, -알킬-N(R3)2, -아릴-COOR3, -아릴-CON(R|3)2, -아릴-N(R3)2, 질소 또는 산소 함유 5 또는 6원 헤테로사이클로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 2개의 R기는 이들이 결합된 1개 이상의 원자와 함께 R기로 치환될 수 있는 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭, 포화 또는 불포화 스피로 또는 융합 고리를 형성하고, R3은 수소, 알킬 또는 아릴이고, m은 2 내지 5이고, p는 0 내지 20이다.
- a) 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물을 2 당량의 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물과 반응시켜 하기 일반식(Ⅶ′)의 디케톤을 얻은 후, 이 디케톤을 대응하는 디옥심으로 전환시키거나, 또는 b) 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 1 당량의 하기 일반식(Ⅵ)의 제1 화합물과 반응시켜 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물을 얻은 후, 이를 하기 일반식(Ⅵ′)의 화합물과 반응시켜 하기 일반식(Ⅸ)의 디케톤을 얻은 후, 이를 대응하는 디옥심으로 전환시키는 것으로 이루어진 하기 일반식(Ⅰa)의 화합물의 제조 방법.상기 각 식에서, 하나 이상의 R은 -(A)p-R2이고, 여기서 (A)p는 연결기이고, (R)2는 저 산소 국재화 잔기이고, 나머지 R기는 동일 또는 상이한 것으로서 수소, 할로겐, 히드록시, 알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 아릴, -COOR3,-NH2, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 히드록시아릴, 할로알킬, 아릴알킬, -알킬-COOR3, -알킬-CON(R3)2, -알킬-N(R3)2, -아릴-COOR3, -아릴-CON(R|3)2, -아릴-N(R3)2, 질소 또는 산소 함유 5 또는 6원 헤테로사이클로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 2개의 R기는 이들이 결합된 1개 이상의 원자와 함께 R기로 치환될 수 있는 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭, 포화 또는 불포화 스피로 또는 융합 고리를 형성하고, R3은 수소, 알킬 또는 아릴이고, m은 2 내지 5이고, p는 0 내지 20이고, 할로겐은 Br, Cl, I 또는 F이고, R′은 R기와 동일하지만, R′기 중 어느 하나는 반드시 -(A)p-R2이다.
- 테크네튬의 방사성 핵종인 금속과, 저 산소 국재화 잔기가 저 산소 매개 니트로-헤테로시클릭기이거나 또는 이를 함유하는 것인 제11항의 일반식(Ⅰa) 또는 일반식(Ⅰb)의 리간드와의 금속 착물을 투여하는 것으로 이루어진, 포유동물의 저 산소 조직의 영상 진단법.
- 제47항에 있어서, 심장의 허혈 조직 진단에 사용되는 방법.
- 제47항에 있어서, 폐의 허혈 조직 진단에 사용되는 방법.
- 제47항에 있어서, 신장 또는 간의 허혈 조직 진단에 사용되는 방법.
- 제47항에 있어서, 뇌의 허혈 조직 진단에 사용되는 방법.
- 제47항에 있어서, 종양의 저 산소 조직 진단에 사용되는 방법.
- 레늄의 방사성 핵종인 금속과, 저 산소 국재화 잔기가 저 산소 매개 니트로-헤테로시클릭기이거나 또는 이를 함유하는 것인 제11항의 일반식(Ⅰa) 또는 일반식(Ⅰb)의 리간드와의 금속 착물을 투여하는 것으로 이루어진 방사성 치료를 요하는 포유동물의 방사성 치료 방법.
- 테크네튬의 방사성 핵종인 금속과 제11항의 일반식(Ⅰa) 또는 일반식(Ⅰb)의 리간드와의 금속 착물을 투여하는 것으로 이루어진 포유 동물의 혈류량의 환류 영상법.
- 제1항에 있어서, 상기 화합물이 3,3,6,6,9,9-헥사메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-이아자운데칸-2, 10-이온 디옥심인 화합물.
- 제1항에 있어서, 상기 화합물이 6,6-디에틸-3,3,9,9-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 화합물.
- 제1항에 있어서, 상기 화합물이 6,6-디에틸-3,3,9,9-테트라메틸-1-(4-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 화합물.
- 제1항에 있어서, 상기 화합물이 3,3,9,9-테트라메틸-1, 11-비스(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 화합물.
- 제1항에 있어서, 상기 화합물이 3,3,9,9-테트라메틸-6-메톡시-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥심인 화합물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종과 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 〔99mTc〕옥소〔〔4,4,10,10-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-5, 9-디아자도데칸-3, 11-디온 디옥시마토〕(3-)-N, N′, N″, N′″〕테크네튬(Ⅴ)인 착물.
- 제2항에 있어서, 핵종과 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 〔99mTc〕옥소〔〔3,3,6,6,9,9-헥사메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥시마토〕(3-)-N, N′, N″, N′″〕테크네튬(Ⅴ)인 착물.
- 제2항에 있어서, 방사성 핵종과 저 산소 국재화 잔기에 결합된 리간드로 이루어지고, 상기 리간드/국재화 잔기가 〔99mTc〕옥소〔〔3,3,9,9-테트라메틸-1-(2-니트로-1H-이미다조-1-일)-4, 8-디아자운데칸-2, 10-디온 디옥시마토〕(3-)-N, N′, N″, N′″〕테크네튬(Ⅴ)인 착물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US78448691A | 1991-10-29 | 1991-10-29 | |
| US784,486 | 1991-10-29 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019920019885A KR930007964A (ko) | 1991-10-29 | 1992-10-28 | 저 산소 국재화 잔기를 함유하는 레늄 및 테크네륨 착물 |
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|---|---|
| KR (1) | KR930007964A (ko) |
| NZ (1) | NZ272277A (ko) |
| TW (1) | TW212803B (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100439962B1 (ko) * | 2002-06-05 | 2004-07-12 | 한국원자력연구소 | 방사성 의약품용 테크네튬 또는 레늄 착물의 제조방법 |
| KR100445971B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2004-08-25 | 한국원자력연구소 | 수소화붕소 교환수지를 이용한 테크네튬 또는 레늄의표지방법 |
| KR100800623B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2008-02-05 | 주식회사 엘지이아이 | 공기조화기의 운전제어방법 |
-
1992
- 1992-10-03 TW TW081107872A patent/TW212803B/zh active
- 1992-10-28 KR KR1019920019885A patent/KR930007964A/ko active IP Right Grant
-
1995
- 1995-06-02 NZ NZ272277A patent/NZ272277A/en unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100800623B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2008-02-05 | 주식회사 엘지이아이 | 공기조화기의 운전제어방법 |
| KR100445971B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2004-08-25 | 한국원자력연구소 | 수소화붕소 교환수지를 이용한 테크네튬 또는 레늄의표지방법 |
| KR100439962B1 (ko) * | 2002-06-05 | 2004-07-12 | 한국원자력연구소 | 방사성 의약품용 테크네튬 또는 레늄 착물의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW212803B (ko) | 1993-09-11 |
| NZ272277A (en) | 1996-05-28 |
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