KR930006034A - 중합체, 무기재료용 표면개질제 및 그의 개질 제품 - Google Patents

중합체, 무기재료용 표면개질제 및 그의 개질 제품 Download PDF

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KR930006034A
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마사하루 야마모또
마사또시 오하따
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후지이 히로시
닛폰 페인트 캄파니, 리미티드
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Abstract

분자에 하기 일반식(Ⅰ)의 구조를 가짐을 특징으로 하는, α, β-에틸렌성 불포화 화합물로부터 제조된 중합체가 기술되어 있다.
상기 식에서, R1및 R2는 같거나 다르며, C1-C4알킬 그룹을 나타내고, m은 1내지 10의 정수이며, n은 0, 1 또는 2이다.

Description

중합체, 무기재료용 표면개질제 및 그의 개질 제품
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예 1에 기술된 중합체의 H-NMR 스펙트럼을 도시한 것이고,
제2도는 벤젠/헥산(08/20 중량%)의 용매계 중에서 실시예 1의 중합체와 폴리스티렌에 대한 박충 크로마토그램(하부) 및 크로마토-스캐너(chromato-scanner)에 의해 얻은 곡선(상부)을 나타낸 것이며,
제3도는 3종류의 실리카(x), (y) 및 (z)에 대한 적외선 흡수 스펙트럼을 도시한 것이다.

Claims (15)

  1. 분자에 하기 일반식(Ⅰ)의 구조를 가짐을 특징으로 하는, α, β-에틸렌성 불포화 화합물로부터 제조된 중합체:
    상기 식에서, R1및 R2는 같거나 다르며, C1-C4알킬 그룹을 나타내고, m은 1내지 10의 정수이며, n은 0, 1 또는 2이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 α, β-에틸렌성 불포화 화합물이 CH2=CXR(여기서, X는 비치환되거나 치환된 페닐 그룹, C2-C4알킬 그룹 또는 -COO-Q이고, Q는 C1-C7알킬 그룹이며, R은 수소 원자 또는 메틸그룹이다)의 화학식을 갖는 중합체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 α, β-에틸렌성 불포화 화합물이 (메트)아크릴레이트, 스티렌 유도체, 디엔 유도체, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택되는 중합체
  4. 제1항에 있어서, 상기 일반식(Ⅰ)이 알콜시실릴-α-메틸스티렌 유도체에 의해 유도되는 중합체.
  5. 제4항에 있어서, 상기 알콕시실릴-α-메틸스티렌이 트리메톡시실릴-α-메틸스티렌, 디메틸메톡시실릴-α-메틸스티렌, 메틸메톡시실릴-α-메틸스티렌, 트리에톡시실릴-α-메틸스티렌, 디메틸에톡시실릴-α-메틸스티렌, 메틸디에톡시실릴-α-메틸스티렌, 디메틸이소프로폭시실릴-α-메틸스티렌, 메틸이소프로폭시실릴-α-메틸스티렌, 디메틸부록시실릴-α-메틸스티렌 및 이들의 혼합물중에서 선택되는 중합체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 일반식(Ⅰ)의 구조가 말단에나 양 말단 사이에 존재하는 중합체.
  7. 제1항에 있어서, 음이온성 중합에 의해 제조되는 중합체.
  8. 제1항에 있어서, 1,000 내지 1,000,000의 수평균 분자량을 갖는 중합체.
  9. 제1항에 따른 중합체를 포함하는 무기 재료용 표면 개질제.
  10. 제9항에 있어서, 신성 또는 염기성 촉매를 또한 포함하는 표면 개질제.
  11. 제10항에 있어서, 상기 산성 또는 염기성 촉매가 황산, 염산, p-톨루엔설폰산, n-부틸 포스페이트, 칼륨 메톡사이드, 나트륨 메톡사이드, 수산화 리튬, 수산화 칼륨, 테트라부틸암모늄 하이드록사이드 및 이들의 혼합물중에서 선택되는 표면 개질제.
  12. 제10항에 있어서, 상기 산성 또는 염기성 촉매가 표면 개질제의 중량을 기준으로 0.01내지 1중량%의 양으로 개질제중에 존재하는 표면 개질제.
  13. 제10항에 있어서, 용매 또한 포함하는 표면 개질제.
  14. 제9항에 있어서, 상기 무기 재료가 안료 또는 금속판인 표면 개질제.
  15. 제9항 내지 제14항중의 어느 한항에 따른 표면 개질제를 사용하는 개질시킨, 개질된 무기 재료.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920016667A 1991-09-13 1992-09-14 중합체, 무기재료용 표면개질제 및 그의 개질 제품 KR930006034A (ko)

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