KR920018521A - 광감지성 조성물 및 방법 - Google Patents

광감지성 조성물 및 방법 Download PDF

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알. 이. 다니엘즈 조오지
제이. 오디 마이클
제이. 치담 케빈
에스. 로드리게즈 스티븐
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원본 미기재
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Abstract

내용 없음

Description

광감지성 조성물 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 기판(1)에 솔더마스크(Soldermask) 피복물(2)을 피복시킨 것을 나타낸다,
제2도는 광산(photoacid)생성기를 사용하여 솔더마스크 피복물(2)을 노출시킨 것을 나타낸다.
제3A도는 저온 경화시틴 것을 나타낸다.
제3B도는 고온 경화시킨 것을 나타낸다.

Claims (38)

  1. 페놀 수지 〔여기서, 페놀 수지는 조성물의 비노출된 부분이 알칼리 용해성이되도록 하기에 충분한 양으로 존재한다〕와, 에폭시 라디칼, 비닐 에테르 라디칼 및 에폭시와 비닐 에테르 라디칼의 혼합물의 그룹으로부터 선택된 2개 이상의 반응성 관능그룹을 갖는 화합물〔여기서,반응성 관능 그룹을 갖는 화합물은 조성물을 경화시킬 수 있는 양으로 존재한다〕의 혼합물을 포함하는 결합체; 및 결합제의 성분에 대한 경화촉매를 생성시킬 수 있는 광활성 화합물을 포함하는 결합제의 성분에 대한 경화 시스템〔여기서, 경화 시스템은 활성화 방사선에 노출됨에 따라 결합제의 성분들을 경화시킬 수 있는 양으로 존재한다〕을 포함하는 수성 현상가능한 광영상성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 경화시스템이 페놀 수지에 대한 가교결합제와 혼합된 광물성 화합물을 포함하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 광활성 화합물이 광산(photoacid)발생제인 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 경화 시스템이 광산 발생제이고 페놀성 가교결합제가 포름알데히드와 멜라민의 반응 생성물인 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 관능적으로 반응성인 화합물이 에폭시 화합물인 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 성분이 25 내지 65중량부의 페놀수지, 15 내지 50중량부의 에폭시 화합물, 5 내지 35중량부의 멜라민 수지 및 1 내지 15중량부의 광산 발생제로 존재하는 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 성분이 40 내지 50중량부의 페놀수지, 25 내지 35중량부의 에폭시 화합물, 1 내지 20중량부의 멜라민 수지 및 2 내지 10중량부의 광산 발생제로 존재하는 조성물.
  8. 제5항에 있어서, 페놀 수지가 폴리비닐페놀인 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 폴리 비닐 페놀이 폴리-(ｐ비닐페놀)인 조성물.
  10. 제5항에 있어서, 페놀 수지가 노볼락 수지인 조성물.
  11. 제5항에 있어서, 멜라민과 포름알데히드의 반응 생성물이 부분 또는 완전히 알킬화된 멜라민 수지인 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 멜라민 수지가 알콕시메틸멜라민인 조성물.
  13. 제11항에 있어서, 멜라민 반응물이 헥사메톡시메틸 멜라민인 조성물.
  14. 제5항에 있어서, 광활성 화합물이 오늄 화합물인 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 오늄 화합물이 설포늄 화합물인 조성물.
  16. 제2항에 있어서, 용매에 용해된 조성물.
  17. 제16항에 있어서, 용액속의 고체의 농도가 총 조성물의 약 10 내지 50중량%인 조성물.
  18. 제2항에 있어서, 건조 막 형태인 조성물.
  19. 25 내지 65중량부의 페놀 수지, 15 내지 50중량부의 에폭시 수지, 5 내지 35중량부의 멜라민 수지 및 1내지 15중량부의 오늄 염 및 포름알데히드와 멜라민의 반응 생성물의 혼합물을 포함하는 수성 현상 가능한 광영상성 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 성분이 40 내지 50중량부의 페놀수지, 25 내지 35중량부의 에폭시 수지, 1 내지 20 중량부의 멜라민 수지 및 2 내지 10중량부의 오늄 염으로 존재하느 조성물.
  21. 제19항에 있어서, 페놀 수지가 폴리비닐 페놀인 조성물.
  22. 제19항에 있어서, 페놀 수지가 노볼락 수지인 조성물.
  23. 제19항에 있어서, 멜라민 수지가 알콕시메틸멜라민인 조성물.
  24. 제23항에 있어서, 멜라민 수지가 헥사메톡시메틸멜라민인 조성물.
  25. 제19항에 있어서, 오늄 화합물이 설포늄 화합물인 조성물.
  26. 제19항에 있어서, 용매에 용해된 조성물.
  27. 제19항에 있어서, 건조 막 형태인 조성물.
  28. 제19항에 있어서, 인쇄 회로판의 도체 선상에 있는 조성물.
  29. a. 페놀수지와, 에폭시 라디칼, 비닐 라디칼 및 에폭시와 비닐 라디칼의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 반응성 관능 그룹을 갖는 화합물의 혼합물을 포함하는 결합제; 및 결합제의 성분에 대한 경화 촉매를 생성시킬수 있는 광활성 화합물을 포함하는 상기 결합제의 성분에 대한 경화 시스템을 포함하는 조성물을 사용하여 기판을 피복시키고, b. 수득된 피복물의 적어도 일부분을 활성화 방사선에 노출시켜 피복물의 노출된 부분속에 경화 촉매를 생성시키고, c. 피복물의 노출된 부분을 가열함으로써 경화시킨 다음, d. 피복물을 수계 현상제와 접촉시킴으로써 현상시키는 단계들을 포함하는, 기판 상에 영상된 막을 형성시키는 방법.
  30. 제29항에 있어서, 페놀 수지가 노블락 수지 및 폴리비닐 페놀로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 반응성 관능 그룹을 갖는 화합물이 에폭시 수지이고, 경화 시스템이 오늄 염 및 페놀 수지용 산 활성화된 가교결합제이며, 각각이 25 내지 65중량부의 페놀 수지, 15 내지 50중량부의 에폭시 수지, 5 내지 35중량부의 가교결합제 및 1 내지 15중량부의 오늄 염으로 존재하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 성분이 40 내지 50중량부의 페놀수지, 25 내지 35중량부의 에폭시 수지, 1 내지 20중량부의 가교결합제 및 2 내지 10중량부의 오늄 염으로 존재하는 방법.
  32. 제30항에 있어서, 가교결합제가 멜라민 수지인 방법.
  33. 제32항에 있어서, 멜라민 수지가 헥사메톡시메틸멜라민인 방법.
  34. 제30항에 있어서, 오늄 염이 설포늄 화합물인 방법.
  35. 제30항에 있어서, 조성물이 액체 피복 조성물로서 가해지고, 용액속의 고체의 농도가 총 조성물의 약 10내지 50 중량%인 방법.
  36. 제30항에 있어서, 조성물이 건조 막으로서 가해지는 방법.
  37. 제30항에 있어서, 현상시키기 전의 경화단계가 약 85 내지 120℃의 온도로 가열시킴으로써 수행되는 방법.
  38. 제30항에 있어서, 현상된 피복물을 약 120 내지 160℃의 온도로 가열시킴으로써 후 현상 열 경화 시킴을 포함하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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