KR920015703A - 표면파 장치 - Google Patents

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KR920015703A
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미찌오 가도따
가즈히꼬 모로즈미
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무라따 야스따가
가부시끼가이샤 무라따 세이사꾸쇼
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    • H—ELECTRICITY
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Abstract

내용 없음

Description

표면파 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 따른 SAW 공진자를 도시하는 단면도, 제2도는 제1실시예에 사용된 SAW 공진자 부품을 도시하는 사시도.

Claims (8)

  1. 변위가 압전기판상에 전달되는 표면파로 부터의 표면과 진행방향에 수직하는 방향의 변위를 주체로 하는 SH식 표면파를 이용하는 표면파 장치에 있어서, 압전기판과, 상기 압전기판상에 형성된 하나 이상의 교차지 트랜스듀서와, 상기 하나이상의 교차지 트랜스듀서를 피복하도록 제공된 겔상이거나 30이상의 쇼어경도를 가지는 수지층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  2. 제1항에 있어서, 절연파우더는 상기 수지층에 첨가되어, 내부에 분산되는 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 표면파장치는 단부표면 반사식의 표면파공진자인 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 SH식 표면파는 BGS파인 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  5. 제1항에 있어서, 외방 돌출 단차부는 표면파 전달의 방향에 존재하는 상기 압전기판의 단부면의 중간 높이에서의 위치에 형성되고, 단착부 아래의 단부면 부분은 단차부위의 단부면 부분보다 더욱 거칠은 면으로 형성되며, 상기 수지층은 상기 압전기판의 상부면 및 상기 단차부위의 단부면 부분을 피복하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 표면파 장치는 단부면 반사식의 표면파 공진자인 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 SH식 표면파는 BGS파인 것을 특징으로 하는 표면파 장치.
  8. SH식 표면파를 이용하는 표면파 제조 방법에 있어서, 압전머더기판을 제조하는 단계와, 상기 압전머더기판의 상부면부터의 중간깊이에서 및 각각의 표면파 장치에 대한 압전머더기판을 분활하는 경계층에의 위치로 도입되도록 홈을 형성하는 단계와, 상기 압전머더기판의 상부면에 수지를 도포하고, 압전머더기판의 상부면 및 상기홈의 내부에 수지를 제공하고, 수지를 경화하여 수지층을 형성하는 단계와, 상기 압전머더기판을 상기 홈을 따라 표면파장치로 분활하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 SH식 표면파를 이용하는 표면파 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920000238A 1991-01-11 1992-01-10 표면파 장치 KR0126909B1 (ko)

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JP1991-2036 1991-01-11
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JP91-2036 1991-01-11
JP91-284903 1991-10-30
JP1991-284903 1991-10-30
JP28490391 1991-10-30

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