KR920011683A - 폴리에스테르필름의 성형방법 - Google Patents

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KR920011683A
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타쯔야 이토오
켄지 쯔나시마
히데유키 야마우치
세이조오 아오키
히로카즈 쿠로메
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마에다 카쯔노수케
토오레 카부시키가이샤
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Abstract

내용 없음

Description

폴리에스테르필름의 성형방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는, 항복점이 없는 필름의 신장 응력과 변형과의 관계를 나타내는 그래프이다. 제2도는, 항복점을 갖는 필름의 신장 응력과 변형과의 관계를 나타내는 그래프이다. 제3도는, 온도의 변화 (T1-T5)에 수반하는 필름의 신장 응력과 변형곡선의 변화를 나타내는 그래프이다.

Claims (15)

  1. 항복점이 일어나지 않는 조건에서, 대체적으로 비정위이고 주성분이 폴리에틸렌 테레프탈레이트인, 폴리에스테르필름의 성형단계로 구성되는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  2. 제1항의 방법에 있어서, 항복점이 없는 상태를 실현 할 수 있는 온도범위가 35℃ 이하의 범위이고, 성형되어지는 상술한 폴리에스테르필름으로서 사용되는 필름을 특징으로 하는 폴리에스테르 필림의 성형방법.
  3. 제1항의 방법에 있어서, 주성분이 폴리에틸렌 테레프탈레이트인 필름으로부터 성형된 B-층위에 항복점을 보유하지 않는 폴리에스테르(A)로부터 성형된A-층이 층을 이루는 것에 의해 만들어지고, 성형되어지는 상술한 폴리에스테르 필름으로서 사용되는 필름을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  4. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층의 신장력은 상술한B- 층 신장력의 5배에서 100배까지의 범위임을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  5. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A- 층의 걀정도는 5-20% 범위이내이고, 상술한 B-층의 결정도는 5%미만임을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  6. 제3항의 방법에 있어서, 100℃온도에서 상술한 A-층의 표면과 금속사이의 접착력이 20G 이하인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  7. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층이 평균 표면조도가 0.005-0.1㎛ 범위이내임을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  8. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층이 두께가 1 ㎛ 이상 5O㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  9. 제8항의 방법에 있어서, 상술한 A-층이 두께가 3 ㎛ 이상 1O㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  10. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층이 두께가 성형되어지는 상술한 폴리에스테르 필름 전체두께의 15% 미만인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  11. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층이 불활성 미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  12. 제11항의 방법에 있어서, 상술한 불활성 미립자의 평균입자 지름은 0.01-10㎛의 범위이내인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  13. 제11항의 방법에 있어서, 상술한 불솰성 미립자는 산화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘과 활석입자로 구성되는 그룹에서 선택되는 무기입자인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  14. 제11항의 방법에 있어서, 상술한 불활성 미립자는 교차결합 폴리스티렌, 교차결합 다비닐벤젠, 벤조구아나민이나 실리콘 입자로 구성되는 그룹에서 선택되는 유기입자인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
  15. 제3항의 방법에 있어서, 상술한 A-층과 상술한B-층 사이의 두께비율은 1:200-1:4 의 범위이내인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 성형방법.
    ※ 참고사항：최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910022793A 1990-12-13 1991-12-12 폴리에스테르필름의 성형방법 KR920011683A (ko)

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