JP2612172B2 - 遮光性マスキングフィルム - Google Patents

遮光性マスキングフィルム

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【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、印刷製版分野において使用して好適な遮光
性マスキングフィルムに関する。
<従来の技術> 従来、上記のような分野において使用される遮光性マ
スキングフィルムは公知である。
該フィルムは、一般にプラスチックフィルムからなる
支持体の片面に、遮光性を有し、剥離可能な層(以下、
単に遮光性剥離層という)を形成してなり、該遮光性剥
離層は、ある種の組成物を塗布、乾燥することにより形
成される。
そして、前記遮光性剥離層を形成する組成物として
は、種々の組成からなるものが公知とされている。
具体的には、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニト
リルゴム、遮光性の染・顔料からなるものが公知であ
る。
他方、遮光性剥離層の光の反射を防止する目的でつや
消し処理を施すことが行なわれ、これには、該組成物
に、シリカ、クレイ、アルミナ、酸化チタン等の無機質
の微粉末を配合することが知られている。
このような無機質のものを配合してなる組成物から得
られる遮光性剥離層は、確かに光反射防止性を有するよ
うになる。しかし、該無機質のものは、光反射防止効果
以外の特性を何ら改良するものではなく、それどころ
か、カッター刃の摩耗を促進させるという問題を生じ
る。
<発明が解決しようとする問題点> 本発明の目的は、遮光性剥離層が光反射防止性等の性
能を有すると同時に、切削刃の摩耗を減少させる等の新
しい機能を有するマスキングフィルムを提供することに
ある。
<問題点を解決するための手段> 本発明によれば、支持体上に、 (A)塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体とニトリル
ゴムからなる遮光層形成有機高分子化合物、 (B)遮光性の染・顔料、 (C)有機質充てん剤、 からなる遮光性剥離層を形成させてなる遮光性マスキン
グフィルムが提供される。
まず、本発明の遮光性マスキングフィルムを構成する
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレートなどのポリエステル、脂肪族又は
芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどからなる合成
樹脂フィルム、セルロースアセテートなどの半合成樹脂
フィルム、合成樹脂フィルム同志、合成樹脂フィルムと
半合成樹脂フィルム、さらには、合成樹脂フィルムおよ
び/または半合成樹脂フィルムと紙とのラミネートフィ
ルム等をあげることができる。
この支持体は、無色透明のものが好適である。上記の
内でもポリエチレンテレフタレートフィルムは、引張
り、引裂き強度が大きく、寸法安定性にすぐれているこ
とから、とくに好ましい。該支持体は、厚さが50〜250
μmのものがよい。前記支持体を構成するフィルムは、
その製法からみた場合、延伸、無延伸のいずれでもよ
い。
つぎに、本発明の最大の特長である遮光性剥離層を形
成する組成物について詳述する。
まず、剥離層形成有機高分子化合物としては、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体とニトリルゴムからなる
混合物を用いる。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とニトリルゴムとの
組合せを用いた遮光性剥離層は、以下に示す如き難点を
有するが、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体とニト
リルゴムとの組合せを用いる時には、それらの難点を克
服し得る。
(1)支持体への接着力が大きすぎて、特に大きな面積
のものを剥離するような場合には、作業性に難点があ
る。このため、具体的には、以下のような問題を生じ
る。
剥離除去すべき膜が剥離途中で異常に伸びたり、また
切断してしまったりして作業に時間がかかる。
カットした塗膜の端部を刃先で持ち上げ、その塗膜を
指先でつかみ引き剥がす様に、接着が強すぎるためその
作業が困難である。
(2)はねおこし性が悪い。このため、カットした塗膜
の端部を刃先で持ち上げる(はねおこし)際に、その作
業が困難である。
(3)温度、湿度の変化により、剥離特性に影響がみら
れ、常に一定した剥離特性を維持することが困難であ
る。
本発明において、遮光性剥離層の組成物における高分
子化合物として、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体
を用いる場合、その共重合割合は、塩化ビニル60〜95重
量%、好ましくは70〜90重量%、塩化ビニリデン40〜5
重量%、好ましくは30〜10重量%である。塩化ビニリデ
ンの割合が余りにも多くなると、塗膜にべとつきを生
じ、一方、余りにも少なくなると、塗膜が硬く剥離した
ときに割れやすくなる。また、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体の平均重合度は、300〜600、好ましくは40
0〜500の範囲である。重合度が余りにも高くなると溶解
性が悪くなるため、塗工液の調製に時間がかかり、また
高粘度となるため、均一な塗工が難しくなる。重合度が
余りにも低すぎると塗膜が剥離時に割れやすくなる。
つぎに、ニトリルゴムとしては、ブタジエンとアクリ
ロニトリルを主成分とするものが用いられる。
このようなものとしては、アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体で、
他にカルボキシル基を含有する単量体を含む三元共重合
体樹脂等が挙げられる。本発明においては、アクリロニ
トリル含有量が18〜53重量%、好ましくは25〜43重量%
の範囲にあるものがよい。
有機高分子化合物として塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体とニトリルゴムとを併用する場合、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体とニトリルゴムとの使用割合
(重量比)は、50/50〜95/5、好ましくは60/40〜90/10
がよい。塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体の使用量
が少なすぎると塗膜が柔らかくなり、はねおこし性が悪
くなるし、支持体への密着が強くなりすぎる。また、重
ねて置いた場合、ブロック状となり易い。さらに、剥離
しようとする塗膜が伸び易くなり剥離作業が困難とな
る。逆に多すぎると、支持体への密着力が弱くなる上、
剥離する塗膜が割れ易くなる。
遮光性を有する染・顔料としては、マスキングフィル
ムと共に使用される、感光性フィルム等の感光波長域を
遮光することができる限り、色調、種類等に特に制限は
ないが、一般には、有機溶媒に可溶な油溶性染料が用い
られる。なお、この染・顔料は、使用に際しては1種類
のみでなく、2種類以上を併用してもよい。遮光性の染
・顔料の使用量については、マスキングフィルムと共に
使用される、感光性フィルム等の感光波長域の光線を十
分に遮光することができる量とすることが必要である。
この使用量は、染・顔料の種類、色調、さらには、併用
等によって若干異なる。
本発明においては、遮光性剥離層に有機質充てん剤を
配合するものである。本発明では、シリカなどの無機質
充てん剤を用いても目的を達成することができない。こ
の有機質充てん剤としては、架橋ポリスチレン、ベンゾ
グアナミン−ホルムアルデヒド縮合物、ナイロン(6,6
−ナイロン、6−ナイロン、12−ナイロン等)、シリコ
ーン樹脂、結晶セルロース、フェノール−ホルムアルデ
ヒド系樹脂、ふっ素樹脂、ポリエチレン樹脂、アクリル
樹脂等からなる微粉末があげられる。これらの内でも、
ポリスチレンビーズは、組成物を調製する際の分散性に
すぐれ、又得られる遮光性剥離層が支持体に適度な接着
力をもって接着し、さらに表面も光反射防止性を有して
見やすく、その上積層してもブロッキングを起すことが
ないなどの特性を付与する点から特に好適である。充填
剤の粒径は、0.5〜20μm、好ましくは2〜15μmであ
る。この有機質充填剤の使用量は、塩化ビニル共重合体
とニトリルゴムの合計量100重量部に対して、0.1〜30重
量部、好ましくは0.5〜20重量部である。
本発明のマスキングフィルムは、支持体の片面に上記
した組成からなる組成物を任意の方法を採用して均一に
塗布することにより得られる。
遮光性剥離層の厚さは、通常10〜50μm、好適には20
〜30μmの範囲で十分である。
この際、必要であれば、適当な有機溶剤、例えば、ア
ルコール系、エステル系、炭化水素系、ハロゲン化炭化
水素系、などが使用できる。
さらに、該組成物には、本発明の目的を阻害しない限
り、レベリング剤、ブロッキング防止剤、可塑剤などを
適宜配合することは何ら差支えない。
<発明の効果> 以上、説明したように、有機質充てん剤を含む遮光性
剥離層を有する本発明のマスキングフィルムは、無機質
充てん剤を配合してなるものと比較し、カッター刃の磨
耗が少なく、また塗工液安定性にすぐれるほか、次のよ
うな利点を有する。
光の反射を防止する事で目の疲労を防ぐ。
マスキングフィルムの様なプラスチックフィルムは、
その使用の際中に摩擦帯電や剥離帯電を起こし易いが、
有機質充填剤を加え、粗面化する事で、帯電を減少させ
る事ができる。
剥離層に使用される樹脂は一般に柔軟性に富むものが
使用されるが、マスキングフィルムをロール状あるいは
シート状で放置した場合、支持体と塗膜が相互にくっつ
き、極端な場合はブロック状となってしまう。この現象
は有機質充填剤を粗面化剤として添加する事で抑制でき
る。
有機質充填剤を加え、粗面化する事で、塗膜に鉛筆、
ボールペン等の筆記具で筆記する事ができる。
製版カメラでの撮影時にハレーションを起こさない。
焼き付け機での真空密着性を良くする。
表裏判別性を付与する。
次に、粗面化剤を配合しない場合、粗面化剤とし
て無機充填剤を用いた場合、粗面化剤として有機充填
剤を用いた場合のマスキングフィルムの性能比較した結
果を次表に示す。
なお、表−1に示した塗布液の安定性に関して、無機
充填剤の場合、その比重が有機充填剤の比重と比較し重
い為、塗布液を放置した場合に沈降し、塗工時の作業性
に難点がある。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例をあげる。以下において示す部
は全て重量部を示す。
実施例1 塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(共重合比80:2
0、平均重合度430)17部、アクリロニトリル−ブタジエ
ンゴム(アクリロニトリル含有量33重量%)4部、オレ
ンジ系金属錯塩染料2部、オルガノポリシロキサン0.1
部、架橋ポリスチレン(平均粒径6μm)0.5部及びメ
チルエチルケトン76.4部を均一に混合し、遮光性剥離層
形成組成物を調製した。
上記で調製した組成物が、厚さ75μmのポリエステル
フィルムの片面に均一に、乾燥後の膜厚が25μmとなる
ようにロールコーター法にて塗布した後、100℃で乾燥
させ、遮光性マスキングフィルムを得た。
このマスキングフィルムにつき、種々の物性を調べそ
れらの結果を表−2に示す。
比較例1 実施例1において、架橋ポリスチレンの代りに合成シ
リカ(平均粒径6μm)を用いた以外は同様にして、遮
光性マスキングフィルムを得た。このマスキングフィル
ムにつき、種々の物性を調べ、それらの結果を表−2に
示す。
比較例2 実施例1において、有機質充てん剤を用いない以外は
同様にして、遮光性マスキングフィルムを得た。このマ
スキングフィルムにつき種々の物性を調べ、それらの結
果を表−2に示す。
実施例2 実施例1と同じ原材料を使用し、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体とアクリロニトリル−ブタジエンゴム
の配合比(重量比)を変化させた以外は実施例1と同じ
配合比にした遮光性剥離層形成組成物を調製した。この
組成物を厚さ75μmのポリエステルフィルムの片面に均
一に、乾燥後の膜厚が25μmになる様にロールコーター
にて塗布した後、100℃で乾燥させ、遮光性マスキング
フィルムを得た。このフィルムについて種々の物性を調
べた結果を表−3に示す。
なお、表中に示した符号は次のことを示す。
VC/VDC……塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体 NBR……アクリロニトリル−ブタジエンゴム 比較例3 ポリウレタン樹脂、ニトロセルロース樹脂、オレンジ
系金属錯塩染料、オルガノポリシロキサン、架橋ポリス
チレン(平均粒径6μm)及びメチルエチルケトンを均
一に混合し、遮光性剥離層形成組成物を調製した。
上記で調製した組成物を、実施例1と同様に塗布、乾
燥し遮光性マスキングフィルムを得た。
このマスキングフィルムにつき、種々の物性を調べた
結果を表−4に示す。
処方 重量部 ポリウレタン樹脂(日本ポリウレタン工業社製ニッポラ
ン2304 固形分65%) 26.2 ニトロセルロース樹脂(旭化成工業社製 HIG 1固形
分70%) 5.7 オレンジ系金属錯塩染料 2 オルガノポリシロキサン 0.1 架橋ポリスチレン 0.5 メチルエチルケトン 65.5 なお、前記式中に示した物性の評価は、それぞれ下記
のようにして行ったものである。
〔はねおこし性〕
遮光性剥離層にカッターナイフで切れ目を入れ刃先で
剥離すべき塗膜を持ち上げた。そして下記基準にしたが
い判定した。
(評価) 3;剥離すべき塗膜を刃先で持ち上げるのが容易である 2;剥離すべき塗膜を刃先で持ち上げるのがやや難しい 1;剥離すべき塗膜を刃先で持ち上げるのが難しい 〔剥離力〕 表面性測定機(HEIDON140、新東製作所(株))に
て、測定した。
〔耐ブロッキング性〕
マスキングフィルムを支持体であるポリエチレンテレ
フタレート面と遮光性剥離層面が接するように重ね、温
度25℃、相対湿度50%雰囲気中に30kg/cm2の荷重を掛
け、24時間放置した。
そして放置後のブロッキングの状態を調べた。
〔評価〕
○;ブロッキング無し良好 △;ブロッキング部分的に発生 ×;ブロッキング全体に発生 〔膜割れ性〕 剥離層が剥離作業中に切断し易いか否かで判定した評
価 〔評価〕 ○;切断しにくい △;一部切断する場合あり ×;切断し易い
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 27/20 B32B 27/20 A Z

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持体上に、 (A)塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体とニトリル
    ゴムからなる遮光形成有機高分子化合物 (B)遮光性の染・顔料 (C)有機質充てん剤 からなる遮光性剥離層を形成させてなる遮光性マスキン
    グフィルム。
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