KR920010005A - 금-주석 합금의 전착 방법 및 장치 - Google Patents

금-주석 합금의 전착 방법 및 장치 Download PDF

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KR920010005A
KR920010005A KR1019910019618A KR910019618A KR920010005A KR 920010005 A KR920010005 A KR 920010005A KR 1019910019618 A KR1019910019618 A KR 1019910019618A KR 910019618 A KR910019618 A KR 910019618A KR 920010005 A KR920010005 A KR 920010005A
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potassium
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KR1019910019618A
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안쏘니 애비스 죠셉
고란 홀름봄 라르스
죤 쿠드락 2세 에드워드
카를 스트라쉴 하인리히
Original Assignee
오레그 이. 앨버
아메리칸 텔리폰 앤드 텔레그라프 캄파니
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C5/00—Alloys based on noble metals
    • C22C5/02—Alloys based on gold

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

내용 없음

Description

금-주석 합금의 전착 방법 및 장치
제1도는 금-주석의 2상 다이아그램.
제2도는 0.5g/ℓ 금과 10g/ℓ주석과, pH=10.8, T=48℃의 전조온도와, 7.5cm/sec의 유속을 포함하는 전조로 부터의 금-주석 침착에 대해 평방 피트당 전류밀도 대주석의 중량비 함유를 도시한 다이아그램.

Claims (22)

  1. 제품의 도전면상에 19 내지 25중량 퍼센트의 Sn과 나머지가 Au를 포함하는 합금의 침착 방법에 있어서, 금 및 주석을 포함하는 나트륨 유리 전조를 전기 도금하는 단계와, Au-Sn합금을 상기 표면상에 침착시키는 단계를 포함하며, 상기 금은 건조내에서 금 시안화 칼륨 착물로 존재하고 주석은 칼륨 스테네이트로 존재하며, 금 및 주석은 전조에서 1 : 3내지 1 : 20의 중량비로 존재하며, 전조의 pH는 10 내지 11이고, 전조 온도는 40 내지 50℃이며, 전기 도금 침착은 3 내지 30mA/㎠의 전류밀도와 40 내지 65퍼센트 범위의 전류 효율로 실시되는 것을 특징으로 하는 침착방법.
  2. 제1항에 있어서. 상기 전조는 저발포성 나트륨 유리 계면활성제의 20 내지 100PPm을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 전조는 계면활성제로서 칼륨 퍼플루오로알킬 설포네이트의 20 내지 100ppm을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 시안화 칼륨 착물로서 0.1 내지 5g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트(k2SnO3,3H2O)로서 5 내지 30g/ℓ의 주석과, 10 내지 50g/ℓ의 칼륨의 인산염 성분(예를 들어 kHPO4) 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 20 내지 50g/ℓ의 시안화 칼륨(KCN)과, 20 내지 30g/ℓ의 탄산칼륨(K2CO3)과, 20 내지 100ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 전조는, 시안화 칼륨 착물로서 1.8 내지 2.2g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트로서 8 내지 12g/ℓ의 주석과, 30 내지 50g/ℓ의 칼륨의 인산염성분 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 30 내지 50g/ℓ의 시안화칼륨과, 12 내지 25g/ℓ의 탄산칼륨과, 50 내지 100ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로하는 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 전조의 pH는 10.55 내지 10.70의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제4항에 있어서, 상기 전조에서 금 대 주석 비율은 1 : 3 내지 1 : 10의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제4항에 있어서, 상기 전조는, 시안화 칼륨 착물로서 2.0g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트로서 10g/ℓ의 주석과, 10g/ℓ의 칼륨의 인산염성분 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 40g/ℓ의 시안화 칼륨(KCN)과, 20g/ℓ의 탄산 칼륨과, 60ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제5항에 있어서, 상기 전조의 pH는 10.65인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제5항에 있어서, 상기 계면 활성제는 칼륨 피플루오로알킬 설포네이트인 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제5항에 있어서, 상기 전조에서 금 대 주석 비율은 1 : 5인 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 제품은 아노드에 평행으로 이격된 수직 위치에서 캐소드상에 고정되며, 도금액은 충류형태로 2 내지 100㎝/sec의 선속으로 도금될 표면을 지나 흐르는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제품의 표면상에 19 내지 25중량 퍼센트의 Sn과 나머지가 금인 성분을 갖는 금 및 주석 합금을 전기도금하기에 적합한 수성 전기도금 전조에 있어서, 금은 전조에서 금-시안화 칼륨 착물로 존재하고 주석은 칼륨 스테네이트로 존재하며, 금 및 주석은 1 : 1 내지 1: 20의 금에 대한 주석의 중량비로 존재하고, 전조의 pH는 10 내지 11 범위이며, 도금중 전조 온도는 40 내지 50℃범위인 것을 특징으로 하는 전기도금 전조.
  14. 제13항에 있어서, 상기 전조는, 시안화 칼륨 착물로서 0.1 내지 5g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트(k2SnO33H2O)로서 5 내지 30g/ℓ의 주석과, 10 내지 50g/ℓ의 칼륨의 인산염 성분(예를 들어 k1HPO4) 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 20 내지 50g/ℓ의 시안화 칼륨(KCN)과, 10 내지 30g/ℓ의 탄산칼륨(K2CO3)과, 20 내지 100ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 전조.
  15. 제13항에 있어서, 상기 계면 활성제는 저발포성 나트륨 유리 성분인 것을 특징으로 하는 전조.
  16. 제13항에 있어서, 상기 계면활성제는 칼륨 퍼플루오로알킬 설포네이트인 것을 특징으로 하는 전조.
  17. 제13항에 있어서, 상기 전조는, 시안화 칼륨 착물로서 1.8 내지 2.2g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트로서 8 내지 12g/ℓ의 주석과, 30 내지 50g/ℓ의 칼륨의 인산염 성분(예를 들어 k2HPO4) 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 30 내지 50g/ℓ의 시안화 칼륨(KCN)과, 12 내지 25g/ℓ의 탄산칼륨과, 50 내지 100ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 전조.
  18. 제13항에 있어서, 전조의 pH는 10.55 내지 10.70의 범위인 것을 특징으로 하는 전조.
  19. 제13항에 있어서, 상기 계면활성제는 칼륨 퍼플루오로알킬 설포네이드인 것을 특징으로 하는 전조.
  20. 제13항에 있어서, 상기 전조는, 시안화 칼륨 착물로서 2.0g/ℓ의 금과, 칼륨 스테네이트로서 g/ℓ의 주석과, 40g/ℓ의 칼륨의 인산염 성분(예를 들어 k2HPO4) 또는 유사한 몰 농도의 인산과, 40g/ℓ의 시안화 칼륨과, 20g/ℓ의 탄산칼륨(K2CO3)과, 60ppm의 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 전조.
  21. 제20항에 있어서, 전조의 pH의는 10.65인 것을 특징으로 하는 전조.
  22. 제13항에 있어서, 상기 전조는 3 내지 20mA/㎠범위의 전류 밀도와 40 내지 65퍼센트 범위의 전류효율로 전기도금 침착을 실시하는 것을 특징으로 하는 전조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910019618A 1990-11-07 1991-11-06 금-주석 합금의 전착 방법 및 장치 KR920010005A (ko)

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