KR920009826B1 - 금속박판의 표면에 흑색산화막을 형성하는 방법 - Google Patents

금속박판의 표면에 흑색산화막을 형성하는 방법 Download PDF

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다카시 이시모토
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가부시끼가이샤 도시바
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Abstract

내용 없음.

Description

금속박판의 표면에 흑색산화막을 형성하는 방법
제1도는 본 발명의 한 실시예인 노의 구성을 설명하기 위한 블럭도.
제2도는 제1도에 있어서 노의 단면도.
제3도는 제1도의 노에서 복수의 새도우마스크재를 수용하여 반송되는 수용기를 나타낸 측면도.
제4도는 제1도의 노를 이용한 흑색 산화막의 형성 처리공정과 새도우마스크재의 온도변화를 동일시간의 축위에 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 노 본체 12 : 예열실
14 : 예열 퍼어즈실 16 : 가열실
18 : 냉각실 20 : 냉각 퍼어즈실
30 : 예열 공기 발생장치 32,40,44,50,52 : 제어 밸브
34,36,46 : 가열장치 38 : 가스 발생장치
42 : 수증기 발생장치 48 : 공기공급장치
54,56 : 배관 58,60,62 : 배기가스 바이패스
64 : 로울러 컨베이어 66 : 수용기
68,70,72,74,76,78 : 셔트 160 : 제1가열영역
162 : 제2가열영역 164 : 균열 영역
본 발명은 넓게는 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성 처리하는데 관한 것으로 특히 흑색 산화막의 형성처리를 실제로 하기 위해 이용되는 노와 이 노를 사용하여 새도우마스크 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법에 관한 것이다.
종래부터 브라운관 내의 새도우마스크는 예를 들면 림드강(rimmed steel)이나 알루미늄 킬드 강(aluminum killed steel)등 고순도의 저탄소강을 소재로 하여 제조되고 있다.
그리고 이 새도우마스크가 되는 금속박판의 표면에는 치밀하고 밀착성이 양호한 흑색 산화막(Fe3O4)을 형성하고 있다.
이와 같이, 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성하면 제조과정에서 가열에 의한 적청(赤
Figure kpo00001
)(α-Fe2O3)의 발생방지, 전자비임의 산란방지, 방열성의 개선, 2차 전자의 방출 저감, 브라운관 내면에 카본 등을 포토리소그래피로 형성할때의 자외선광의 산란 방지등이 가능하다.
일반적으로 흑색 산화막을 새도우마스크가 될 금속박판의 표면에 형성하는 방법으로서는 예를 들면 다음과 같은 것이 알려져 있다.
그 한예로서 새도우마스크 재를 먼저 550-600℃의 질소, 이산화탄소, 수증기의 혼합가스 분위기중에서 흑화 처리를 하고 다음으로 550-600℃의 질소, 이산화탄소, 산소, 수증기의 혼합 가스 분위기 중에서 흑화 처리를 하는 방법이 있다(일본 특개소 54-139463호 공보).
또한 다른 예로서 새도우마스크재를 먼저 질소와 수증기의 혼합가스 분위기 또는 질소와 이산화탄소의 혼합가스 분위기 중에서 흑화처리를 하고 다음으로 질소와 이산화탄소와 산소의 혼합가스 분위기 중에서 흑화 처리를 하는 방법이 있다(일본 특개소 57-57448호 공보).
또한 다른 예로서 새도우마스크재와 프레임을 조립한 후 이것을 질소와 산소, 일산화탄소의 혼합가스 분위기 중에서 흑화처리를 하는 방법이 있다(일본 특개소 57-121128호 공보).
그런데 최근 새도우마스크에 있어서 표시 화상의 해상도를 향상시킬 목적으로 전자비임 통과구멍의 피치를 축소시키는 것이 이루어지고 있다.
그러나 이와 같이 전자비임 통과구멍의 피치를 줄이면 전자총에서 발사된 전자비임이 전자비임 통과구멍을 지나 형광체층에 충돌하는 양은 15-29%로 나머지는 새도우마스크에 충돌하므로 새도우마스크 자체의 온도상승을 초래한다. 그러므로 새도우마스크자체가 열 팽창으로 변형되어 전자비임의 궤도상에 있어야할 전자비임 통과구멍과 형광체층의 상대적 위치관계가 무너진다. 그 결과 전자비임 통과구멍의 피치가 줄어든 것은 통과구멍의 피치가 거칠은 것과 비교해서 전자비임 통과구멍을 지난 전자비임이 목적으로 하는 색의 형광체층에서 벗어나 충돌하는 비율이 늘어나 칼라 수상관에 색편차가 발생한다. 그러므로 새도우마스크의 소재로서 링드강이나 알루미늄 킬드강등 고순도의 저탄소강 대신 Fe 혹은 Ni를 주성분으로 하는 저열 팽창재인 인바아(inver) 합금이 사용되게 되었다.
그리고 이 인바아 합금으로 된 새도우마스크재에도 표면에 Fe3O4를 주 성분으로 하는 흑색 산화막을 형성하고 있다.
그런데 이 인바아 합금으로 된 새도우마스크 표면에 흑색 산화막을 형성할 경우 인바아 합금이 Ni의 존재로 인해 뛰어난 내식성을 지니고 있으므로 특별한 조건을 결정한 노 안에서 산화처리를 할 필요가 있다. 그 한예를 들면, 연소노의 형식(型式)으로 구성된 노안에서 새도우마스크재를 이산화탄소와 일산화탄소의 혼합가스 분위기 중에서 580℃ 정도로 가열하는 방법이 있다. 이 방법으로는 처리재 표면의 산화를 한결같이 고르게 진행시킬 수 있고 더구나 연속노 이므로 효율이 좋게 처리재 표면에 흑색 산화막을 형성시킬 수 있다.
그러나 그 반면 충분한 두께의 흑색 산화막을 형성할 수는 없다. 기타예로서, 배치(batcH)로 형식으로 구성된 노아에서 새도우마스크재를 수증기 또는 공기등의 분위기 중에서 500-750℃로 가열 하면서 그 수증기량을 단계적으로 제어하는 방법에 있다. 이 방법으로 새도우마스크재의 표면에 충분한 두께의 흑색 산화막을 얻을 수 있게 되었다. 그런데 이 방법은 배치로 방식이므로 생산성이 뒤떨어진다. 더구나 새도우마스크재의 표면에 형성된 흑색 산화막의 두께가 새도우마스크재를 상하 에러단으로 증복하여 수납한 용기내의 상단부와 하단부, 나아가서는 주변부와 중앙부에서 차이가 생긴다.
또한 처리 롯트 별도로 흑색 산화막의 품위가 고르지 않다는 결점이 있었다.
또한 다른 예로서 예를 들면 일본 특개소 59-56345호 공보, 일본 특개소 59-149635호 공보, 일본 특개소 59-149636호 공보 등에 개시 되어 있는 바와 같이 새도우마스크재의 표면을 전해 연마, 화학 약품 처리 혹은 Fe 도금 등으로 Fe를 풍부하게하여 흑화처리를 하는 방법이 있다.
그러나 이 방법으로는 공정수가 많아져서 결국 생산코스트가 높아진다는 문제가 있었다.
따라서 본 발명이 목적으로 하는 바는 금속박판의 표면에 충분하고 균일한 두께의 흑색 산화막을 높은 생산성하에서 형성할 수 있는 노를 제공하눈데 있다.
또한 금속박판의 표면에 치밀하고 밀착성이 좋으며 흑색도가 높은 흑색 산화막을 형성할 수 있는 노를 제공하는데 있다.
그리고 인바아 합금으로 된 금속박판의 표면에 충분하고 균일한 두께의 흑색 산화막을 높은 생산성 하에서 형성할 수 있는 노를 제공하는데 있다.
또한 인바아 합금으로 된 새도우마스크재의 표면에 충분하고 균일한 두께의 혹색 산화막을 높은 생산성 하에서 형성할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.
그리고 인바아 합금으로 된 새도우마스크재의 표면에 고품위의 흑색 산화막을 형성하므로서 방사율이 높은 안정된 기능을 지닌 새도우마스크를 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
또한 새도우마스크재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 새도우마스크 제조과정에서의 원료의 손실을 줄이므로서 코스트 다운을 꾀할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.
그리고 이들 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성하기 위한 노에서, 한쪽끈에 입구 다른쪽 끝에 출구를 지닌 터널 형상의 노 본체와, 이 노 본체의 입구에서 출구에 걸쳐 설치되어 금속박판을 입구에서 출구까지 반송하는 반송장치와, 노 본체를 적어도 금속박판의 반송방향 전후의 제1과 제2영역으로 구획하는 개폐 가능한 셔터 장치와, 셔터 장치로 구획된 노 본체의 입구쪽 제1영역안에 이산화탄소와 일산화 탄소를 함유하여 실질적으로 산소를 함유하지 않은 혼합가스 혹은 이산화탄소, 일산화탄소와 수증기를 함유하고 실질적으로 산소를 함유하지 않은 혼합가스를 제공하는 제1가스 공급장치와, 셔터장치로 구획된 노 본체의 출구쪽 제2영역안에 이산화탄소, 일산화탄소와 산소를 함유하고 실질적으로 수증기를 함유하지 않은 혼합가스를 공급하는 제2가스 공급장치와, 제1영역을 500-650℃의 온도로 가열하고 또한 제2영역을 100-300℃의 온도로 가열하는 가열장치를 구비하고 있다.
본 발명과 관련되는 실시예를 도면에 의거하여 설명하기로 하겠다. 제1도와 제2도에 나타낸 바와 같이 본 실시예의 노 본체(10)는 화살표로 나타낸 처리재(새도우마스크재)의 반송 방향을 따라 예열실(12), 배열 퍼어즈(purge)실(14), 가열실(16), 냉각실(18), 냉각 퍼어즈(20)를 설치하고 있다. 예열실(12)은 처리재(새도우마스크재)에 소정 온도의 예열을 부여하는 곳이다. 이 예열실(12)에는 예열 공기 발생장치(30)로 생성된 예열 공기가 제어밸브(32)를 통해서 도입 되도록 되어 있다. 가열실(16)은 그 내부가 제1가열영역(160), 제2가열영역(162)과 균열 영역(164)의 3영역으로 나누어져 있다. 이들 영역 중 제1가열영역(160)과 제2가열영역(162)의 천정 혹은 바닥에는 예를 들면 천연가스를 연소시키므로써 발열하는 튜브 버어너등을 이용한 가열장치(34)(36)가 각각 설치되어 있다. 이들 가열장치(34)(36)의 제어는 각각 도시하지 않은 가열 제어장치로 이루어진다.
또한 이 가열실(16)에는 가스 발생장치(38)로 생성된 CO2와 CO의 혼합가스가 제어밸브(40)를 통해서 도입 되도록 되어있다.
또한 이 가열실(16)에는 수증기 발생장치(42)로 생성된 수증기를 제어밸브(44)를 통해서 도입하는 것도 가능하게 되어있다. 냉각실(18)의 천정 혹은 바닥에는 가열실(16)에서 가열된 처리재를 원하는 온도까지 냉각할 수 있도록 실온조건을 설정하기 위한 튜브 버어너등을 이용한 가열장치(46)가 설치되어 있다. 이 가열장치(46)의 제어는 도시하지 않은 가열 제어장치로 행해진다.
또한 냉각실(12)에는 공기 공급장치(48)로 생성된 공기가 제어밸브(50)를 통해서 도입 되도록 되어있다.
그리고 이 냉각실(12)에는 전술한 가스발생장치(38)로 부터의 CO2와 CO의 혼합가스가 제어밸브(52)를 통해서 도입 되도록 되어있다.
또한 예열 퍼어즈실(14)과 가열실(16)은 노 본체(10)의 외부에서 배관(54)으로 연결되므로서 가열실(16)의 분위기 가스가 예열 퍼어즈실(14)에도 도입되도록 되어있다.
또한 냉각 퍼어즈실(20)과 냉각실(18)은 노 본체(10)의 외부에서 배관(56)에 의해 연결되므로서 냉각실(18)안의 분위기 가스가 냉각 퍼어즈실(20)에도 도입되도록 되어있다.
그리고 예열실(12), 예열 퍼어즈실(14)과 냉각 퍼어즈실(20)에 도입된 예열 공기나 혼합가스는 각각 배기가스 바이패스(58)(60)(62)를 통하여 외부의 배기가스 축적용 탱크(도시하지 않음)로 배출되도록 되어있다.
또한 노 본체(10)의 내부에는 처리재를 노의 입구에서 출구로 반송하기 위한 로울러 컨베이어(64)가 설치되어 있다. 이 로울러 컨베이어(64)는 각 실마다 독립하여 구동할 수 있도록 개개로 독립된 구동계를 지니고 있다.
또한 이 노를 이용하여 처리재인 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성 처리할 경우에는 제3도에 나타낸 바와 같이 처리재(새도우마스크재)(K)를 K자형상의 수용기(66)안에 상하 에러단으로 복수개 수용하여 이루어진다.
그리고 이 수용기(66)를 로울러 컨베이어(64)위에 실어 노 본체(10)의 각 실을 소정시간 동안 경과시키므로서 처리계(K)에 대한 흑색 산화막 형성을 처리한다.
또한 각 실 사이와 노 본체(10)의 출입구에서는 각각 개폐동작이 자동적으로 이루어지는 제1 내지 제6셔터(68)(70)(72)(74)(76)(78)가 설치되어 있다. 이들 셔터(68)(70)(72)(74)(76)(78)는 로울러 컨베이어(64)위에서 반송된 수용기(66)가 접근한 것을 셀서등 검출장치(도시하지 않음)를 이용하여 검출하므로서 개방된다.
또한 이와 같은 동작과 동시에 실내부분의 로울러 컨베이어(64)의 구동속도가 빨라지게 되어 있으며 이로서 실내의 분위기 가스가 가능한한 유출 되지 않도록 신속하게 수용기(66)를 다음 실로 보내고 있다. 이어서 이 노를 이용하여 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성할 경우 각실의 조건에 대하여 설명하기로 하겠다. 가열실로 도입되는 CO, CO2및 수증기의 가스 조성(체적비)은 처리재(K)가 인바아 합금으로 된 금속박판일 경우 CO : CO2: 수증기=1 : 5-20 : 30-50의 범위인 것이 바람직하며, CO : CO2: 수증기=1 : 8-18 : 34-46의 범위인 것이 더욱 바람직 하다.
또한 처리재(K)가 알루미늄 킬드강이나 림드강등의 금속박판일 경우는 수증기는 도입되지 않고 CO와 CO2의 혼합가스만이 도입된다. CO와 CO2로서는 천연가스 혹은 기타 가소성 가스를 연소 시켜서 얻은 연소가스가 적합하다.
또한 가열실(16)에는 불가피하게 혼입되는 수소나 기타 가스, 연소에 공기가 사용한 경우 혼합되는 질소 가스, 셔터 개폐시에 침입 하는 대기중의 산소등이 존재해도 괜찮다. 단지 이들 혼합가스는 질소가스가 전체조성의 70% 이하, 기타 혼입가스가 전체 조성의 1% 이하, 산소는 2% 이하일 필요가 있다. 냉각실(18)로 도입되는 CO,CO2의 가스조성(체적비)은 처리재(K)가 알루미늄 킬드강 혹은 인바아 합금으로된 금속박판 중에서도 CO : CO2=1 : 5-10의 범위인 것이 바람직하며, CO : CO2=1 : 6-9의 범위인 것이 가장 적당하다.
또한 이 냉각실로 도입되는 O2성분으로서는 공기가 적합하다. 이 공기를 이용할 경우 공기의 공급량은 CO와 CO2에 대하여 (CO+CO2) : 공기=1 : 10-30의 범위가 바람직하며, (CO+CO2) : 공기=1 : 15-25의 범위가 가장 적당하다.
또한 예열실(12)의 예열 온도는 200℃ 전후, 가열실(16)의 온도는 500-650℃의 범위, 냉각실(18)의 온도는 200℃ 전후로 설정하는 것이 바람직하다. 이어서 이들 조건을 설정한 노를 이용하여 인바아 합금이나 알루미늄 킬드강 등으로 된 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성할 경우의 동작에 대하여 제4도를 참조로 하면서 설명하기로 하였다.
또한 도면에서 “L”은 알루미늄 킬드강으로 된 금속박판의 온도변화 라인을 나타내고 있다. 우선 복수의 처리재(K)를 수용기(66)에 수용한다. 이어서 이 수용기(66)를 노 본체(10)의 입구측 로울러 컨베이어(64)위에 싣는다. 이로서 수용기(66)는 노 본체(10)의 제1셔터(68)를 향하여 반송된다.
그후 제1셔터(68)는 수용기(66)의 접근이 검출장치로 검지되면 개방하고, 동시에 입구부분의 로울러 컨베이어(64)가 고속으로 구동하여 수용기(66)가 신속하게 예열실(12)안으로 반입된다.
그리고 이 예열실(12)속에서 수용기(66)를 소정의 속도로 반송하면서 처리재(K)에 200℃ 전후의 예열을 부여한다. 그후 제2셔터(70)을 개방하여 수용기(66)를 예열 퍼즈실(14)로 반송하고 또한 제3셔터(72)를 개방하여 수용기(66)를 가열실(16)로 반송한다. 이 예열 처리에 걸리는 시간은 15분 정도이다.
또한 여기서 처리재(K)가 예를 들면 알루미늄 킬드강 이나 림드 강으로 된 금속박판인 경우는 가열실(16)안에서 수용기(66)를 소정의 속도로 반송하면서 CO2와 CO를 포함하여 실질적으로 O2를 함유하지 않는 혼합가스의 분위기 중에서 처리재(K)를 약 500-650℃의 온도로 35분 정도 가열한다.
또한 처리재(K)가 인바아 합금으로 된 금속박판일 경우는 CO2, CO와 수증기를 포함하고 실질적으로 O2를 함유하지 않은 혼합가스 분위기 중에서 처리재(K)를 약 500-650℃의 온도로 35분 정도 가열한다. 여기서 제3셔터(72)와 제4셔터(74)의 개방시에는 이 가열실(16)에 위기가 약간 도입되는데 가열실(16)에서의 가열처리시 이로인한 영향은 거의 받지 않는다. 이 처리에서 의도하는 바는 특히 처리재(K)가 인바아 합금으로 된 금속박판일 경우 수증기를 함유하는 혼합가스 분위기 중에서 :CO의 환원성 가스를 도입하여 O2양을 감소시키므로서 금속박판 표면이 급격한 산화를 억제하는데 있다. 이로서 금속박판의 표면에 흑색도는 충분치 않지만 부착력이 좋은 치밀한 Fe3O4의 얇은 막을 형성할 수 있다. 이 처리를 하면서 수증기(660가 제4셔터(74)에 근접하면 제4셔터(74)가 개방되어 수용기(66)는 신속하게 냉각실(18)로 보내진다.
그리고 이 냉각실(18)에서 수용기(66)안의 처리재(K)을 CO2, CO 및 O2를 함유하는 혼합가스 분위기 중에서 200℃ 전후의 온도로 25분 정도 냉각한다. 이로서 처리재(K)의 온도는 급속하게 저하하는데 CO2의 도입으로 금속박판의 표면에는 Fe3O4의 비교적 두꺼운 막이 실내 온도가 400℃ 전후에 이르기까지의 짧은 시간에 형성된다. 이렇게 형성된 산화막의 방사율은 완전 흑체의 방사율을 1이라 한 경우 0.5-0.7 정도이다. 이 정도의 방사율(흑색도)이 있으면 실용상의 문제는 없어진다.
따라서 이 노를 이용하면 알루미늄 필드강, 핌드강 또는 인바아 합금등으로 된 금속박판의 표면에 치밀하고 밀착성이 좋으며 또한 두께가 균일한 흑색 산화막을 효율이 좋게 형성할 수 있다.
다음으로 이 노를 사용하면 인바아 합금으로 된 새도우마스크재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법을 설명하기로 하겠다. 먼저 이 노를 사용하여 처리하기 전에 예를 들면 36Ni-Fe와 같은 인바아 합금으로 된 금속박판에 통상의 포토에칭법으로 다수와 전자비임 토오가구멍을 뚫어서 설치한다. 이어서 이 금속박판을 소돌(소(炤潞)하고 프레스 성형하여 원하는 국면형상을 지닌 외형을 성형한다. 그 후 유분을 제거하기 위하여 세정한다.
다음으로 처리재(새도우마스크재)(K)를 수용기(66)속에 상하 다단으로 수용한다. 이어서 이 수용기(66)를 노 본체(10)의 입구측에서 로울러 컨베이어(64) 위에 싣는다.
또한 이 로울러 컨베이어(64) 위에서 각 실 사이를 통과시키는 수용기(66)의 반송방법은 전술한 바와 마찬가지이다. 이 노를 이용하여 처리재(K)의 표면에 흑색 산화막을 형성시키는 공정은 먼저 130-220℃의 온도로 가열된 예열실(12)에서 처리재(K)의 예열을 약 13분 정도 행한다.
그리고 수용기(66)를 예열 피어즈실(14)로 반송하고 이 예열 피어즈실(14)을 3분 정도 통과시켜 가열실(16)로 반송한다.
그리고 이 가열실(16)에서 처리재(K)를 CO2, CO와 수증기를 함유한 혼합가스의 분위기 중에서 550-650℃ 정도로 약 35분간 가열한다. 이렇게 하여 처리재(K)의 표면에 치밀한 Fe3O4의 얇은 막이 형성된다. 다만 이 단계에 있어서 흑색 산화막의 방사율은 완전 흑체를 1일 하면 0.3-0.5 정도이다.
또한 여기서 가열실(16)내의 분위기 주의 가스조성(체적비)은 CO를 1이라 한 경우 CO2는 5-20, 수증기는 30-50 정도가 가장 적당한다.
또한 이 분위기 중에 N2, H2가 함유되어 있어도 문제는 없다. 그후 처리재(K)는 실온이 200℃ 전후로 유지된 냉각실(18)로 반송되어 냉각실(18)만의 CO2, CO 및 O2를 함유한 400℃ 전후의 혼합가스 분위기에 접하면 처리재(K)의 표면에 방사율이 충분히 높으며 충분한 두께의 흑색 산화막이 형성된다.
그리고 이 혼합가스 분위기 중에서 약 25분 정도 냉각시킨다.
또한 여기서 냉각실(18)만의 분위기 중에서 CO와 CO3와 가스조성(체적비)은 CO를 1이라 한 경우 CO2는 5-10 정도이다.
그리고 냉각실(18)안의 분위기 중 O2성분으로서는 공기가 이용되고 이 공기의 체적비는 CO와 CO2체적의 합계를 1이라 한 경우 10-30이 적당하다.
또한 이 혼합가스 분위기 중에는 N2, H2H2O가 함유되어 있어도 문제는 없다. 그후 수요기(66)를 실온이 180℃ 정도로 유지된 냉각 피어즈실(20)로 반송하고 이 냉각 피어즈실(20)을 5분 정도로 통과시켜 노 본체(10)의 외부로 보낸다. 따라서, 이 새도우마스크의 제조방법을 이용하면 인바아 합금을 소재로 한 처리재(K)의 표면에 치밀하고 밀착성이 좋으며 균일할 두께의 흑색 산화막을 높은 생산성으로 형성할 수 있다.
또한 이 노를 이용하여 형성된 후에 흑색 산화막의 흑색도는 완전 흑체의 방사율을 1로 한 경우 0.5-0.7 정도가 되어 칼라 수상관에 필요한 특성이 도핑(doming) 내성을 충분히 얻을 수 있다.

Claims (9)

  1. 철과 니켈을 주성분으로 하는 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성하기 위한 노(10)에 있어서, 한쪽 끝에 입구, 다른쪽끝에 출구를 구비하는 터널형상의 노 본체와, 이 노 본체의 입구에서 출구에 걸쳐 설치되어 금속박판을 입구에서 출구까지 반송하여 각실 독립으로 구동되는 반송장치(64)와, 노 본체를 적어도 금속박판의 반송방향 전후의 가열실(16)과 냉각실(18)로 구획하는 개폐가능한 셔터장치(68,70,72,74,76,78)와, 셔터장치로 구획된 노 본체 입구측의 가열실(16)내에 일산하탄소, 이산환탄소 및 수증기를 함유하여 실질적으로 산소를 함유하지 않은 혼합가스를 공급하는 제1가스공급 장치(38)와, 셔터장치로 구획된 노 본체 출구측의 냉각실(18)내에 일산화탄소, 이산화탄소 및 산소를 함유하며 실질적으로 수증기를 함유하지 않은 혼합가스를 공급하는 제2가스공급 장치(38)와, 가열실(16)을 500~650℃의 온도로 가열하고 냉각실(18)을 100-300℃의 온도로 가열하는 가열장치(34,36,46)를 구비하고 있으며, 상기 제1의 가스공급장치(38)에 의해 상기 가열실(16)내에 공급된 일산화탄소, 이산화탄소 및 수증기를 포함하며 실질적으로 산소를 포함하지 않은 혼합가스의 체적비가 일산화탄소를 1로 했을 경우 이산화탄소가 5~20, 수증기가 30~50의 범위이고 제2의 가스공급장치에 의해 냉각실(18)에 공급되는 혼합가스속의 일산화탄소와 이산화탄소와의 체적비가 일산화탄소를 1로 했을 경우 이산화탄소가 5~10의 범위인 것을 특징으로 하는 노.
  2. 제1항에 있어서, 제2가스공급장치(38)에 의해 냉각실(18)로 공급되는 산소 성분으로서 공기가 이용되고, 이 공기의 체적비가 제2가스공급장치(38)에 의해 동시에 공급되는 일산화탄소와 이산화탄소의 체적비의 합계로 1로 했을때 10~30의 범위인 것을 특징으로 하는 노.
  3. 제1항에 있어서, 반송장치가 로울러 컨베이어이고, 이 로울러 컨베이어는 금속박판을 가열실(16)에서 냉각실(18)로 보낼때 보내는 쪽의 로울러 콘베이어(64)의 구동속도를 상승시키는 것을 특징으로 하는 노.
  4. 제1항에 있어서, 셔터장치(68,70,72,74,76,78)가 반송장치에 의해 반송된 금속박판의 접근을 소정의 위치에서 검출하는 검출장치를 구비하며, 이 검출장치로 금속박판의 접근을 검출했을때 자동적으로 개방되고 금속박판이 통과한 후 자동적으로 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 노.
  5. 제1항에 있어서, 노 본체의 입구와 가열실(16)과의 사이에 각각 셔터장치를 통해서 금속박판에 예열을 투여하기 위한 예열영역과, 이 예열영역에서 예열이 부여된 금속박판을 가열실(16)내의 혼합가스 분위기를 바꾸지 않고 가열실(16)에 반송하기 위한 퍼어즈영역이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 노.
  6. 제1항에 있어서, 노 본체의 출구와 냉각실(18)과의 사이에 각각 셔터장치를 통해서 냉각실(18)내의 혼합가스 분위기를 바꾸지 않고 노 본체의 외부로 내보내기 위한 퍼어즈영역을 설치한 것을 특징으로 하는 노.
  7. 금속박판의 표면에 흑색 산화막을 형성하기 위한 노를 사용하여 철과 니켈을 주성분으로 하는 새도우 마스크재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법에 있어서, 새도우마스크제를 일산화탄소, 이산화탄소와 수증기를 함유하며 실질적으로 산소를 함유하지 않은 혼합가스 분위기중에서 550~650℃의 온도로 가열하는 가열공정과, 이 가열 공정에서 가열된 새도우마스크제에 일산화탄소, 이산화탄소 및 산소를 함유하며 실질적으로 수증기를 함유하지 않은 혼합가스 분위기중에서 200~300℃의 온도까지 냉각시키는 냉각공정을 갖고 있으며 상기 가열공정에서 사용된 일산화탄소, 이산하탄소 및 수증기를 함유하며 실질적으로 산소를 포함하지 않은 혼합가스이 체적비가 일산화탄소를 1로 했을 경우 이산화탄소는 5~20, 수증기는 30~50의 범위이고 상기 냉각공정에서 사용된 일산화탄소와 이산화탄소의 체적비가 일산화탄소를 1로한 경우 이산화탄소는 5~20의 범위인 것을 특징으로 하는 새도우마스크재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 냉각공정에서 이용되는 산소의 성분으로서 공기가 이용되고 이 공기의 체적비가 상기 냉각공정에서 동시에 사용된 일산화탄소와 이산화탄소의 체적의 합계를 1로한 경우 10~30의 범위인 것을 특징으로 하는 새도우마스트재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 가열공정전에 상기 새도우마스크에 130~220℃의 범위의 예열을 부과하는 예열공정을 갖는 것을 특징으로 하는 새도우마스크재의 표면에 흑색 산화막을 형성하는 방법.
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