KR920003543A - 도포패턴발생장치 및 그 장치를 이용한 패턴도포방법 - Google Patents

도포패턴발생장치 및 그 장치를 이용한 패턴도포방법 Download PDF

Info

Publication number
KR920003543A
KR920003543A KR1019910011231A KR910011231A KR920003543A KR 920003543 A KR920003543 A KR 920003543A KR 1019910011231 A KR1019910011231 A KR 1019910011231A KR 910011231 A KR910011231 A KR 910011231A KR 920003543 A KR920003543 A KR 920003543A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
data
memory area
outline
pattern
line direction
Prior art date
Application number
KR1019910011231A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950006476B1 (ko
Inventor
츠토무 미나가와
나오유키 가이
마사히데 오하시
Original Assignee
아오이 죠이치
가부시키가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아오이 죠이치, 가부시키가이샤 도시바 filed Critical 아오이 죠이치
Publication of KR920003543A publication Critical patent/KR920003543A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950006476B1 publication Critical patent/KR950006476B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
    • G06T11/40—Filling a planar surface by adding surface attributes, e.g. colour or texture
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34

Abstract

내용 없음

Description

도포패턴발생장치 및 그 장치를 이용한 패턴도포방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 실시한 도포패턴발생장치의 블록도.
제2도는 본 발명을 실시한 도포패턴 방법을 나타낸 설명도.
제3도는 제1도에 도시된 장치의 연산기의 구체적인 구성을 나타낸 회로도.

Claims (5)

  1. 여러종류의 아웃라인데이터에 기초하여 그 아웃라인의 임의 내부의 도포된 패턴을 발생하기 위해 상기 아웃라인데이터를 묘화하는 제1메모리영역(A)과 도포를 위해 이용되는 플래그데이터를 묘화하는 제2메모리영역(B)을 갖추고서, 상기 제1 및 제2메모리영역에 묘화된 데이터를 사용해서 상기 아웃라인의 내부를 도포하는 도포패턴 발생장치에 있어서, 상기 제1 및 제2메모리영역에 묘화된 데이터를 독출하여 상기 제2메모리영역으로부터의 미리 결정된 주사선방향을 따라 인접하는 플래그데이터끼리 상기 주사선방향을 따라 배타적 논리화(XOR)연산함과 더불어, 상기 배타적 논리화연산의 결과와 상기 제1메모리영역으로부터의 아웃라인데이타와의 소정의 논리연산을 상기 주사선방향을 따라 모든 폐곡선상의 주사선에 대해 수행함으로써 상기 아웃라인의 내부의 도포된 패턴데이터를 얻기위한 연산수단(21)과, 이 연산수단에 의해 얻어진 도포된 패턴데이터를 상기 제1메모리 영역에 기입함과 더불어 후속의 아웃라인데이터를 상기 도포된 패턴데이터의 기입된 제1메모리영역에 더 기입하는 수단(20)이 구비된 것을 특징으로 하는 도포패턴발생장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 연산수단(21)에 의한 논리연산동작과 병행하기 상기 제2메모리영역(B)의 내용을 클리어하는 수단이 더 구비된 것을 특징으로 하는 도포패턴발생장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 기입수단(20)이 상기 클리어된 제2메모리영역에다 상기 후속의 아웃라인데이터의 플래그데이터를 묘화하는 형태로 구성되고, 상기 연산수단(21)이 상기 제1 및 제2메모리영역에 묘화된 데이터를 독출하여 상기 제2메모리영역으로부터의 미리 결정된 주사선방향을 따라 인접하는 상기 후속의 아웃라인데이터의 플래그데이터끼리 상기 주사선방향을 따라 배타적 논리화(XOR)연산함과 더불어, 상기 배타적 논리화연산의 결과와 상기 제1메모리영역으로부터의 전번회에 도포된 패턴데이터와의 소정논리연산을 상기 주사선방향을 따라 모든 폐곡선상의 주사선에 대해 수행함으로써 상기 후속의 아웃라인의 내부도 도포된 패턴데이터를 얻는 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 도포패턴발생장치.
  4. 여러종류의 아웃라인데이터에 기초하여 그 아웃라인의 임의 내부의 도포된 패턴을 얻기 위한 패턴도포방법에 있어서, (A)제1메모리영역(A)에 최초의 아웃라인데이터를 묘화하는 한편, 제2메모리영역(B)에 그 최초의 아웃라인의 도포를 위한 플래그데이터를 묘화하는 단계와, (b)상기 제1 및 제2메모리영역에 묘화된 데이터를 독출하여 상기 제2메모리영역으로부터의 미리 결정된 주사선방향을 따라 인접하는 상기 플래그데이터끼리 상기 주사선방향을 따라 배타적 논리화(XOR)연산함과 더불어, 상기 배타적 논리화연산의 결과와 상기 제1메모리영역으로부터의 아웃라인데이타와의 소정의 논리연산을 상기 주사선방향을 따라 모든 폐곡선상의 주사선에 대해 수행함으로써 상기 아웃라인 내부의 도포된 패턴데이터를 얻는 단계, (c)상기 단계(b)에서의 논리연산동작과 병행하여 제2메모리 영역의 내용을 클리어하는 단계, (d)상기 단계(b)에서 얻어진 도포된 패턴데이터를 상기 제1메모리영역에 기입하는 단계, (e)후속의 아웃라인데이터를 상기 도포된 패턴데이터가 기입된 제1메모리영역에 더 기입함과 더불어, 상기 후속의 아웃라인데이터의 플래그데이터를 상기 클리어된 제2메모리영역에 묘화하는 단계, (f)상기 제1 및 제2메모리 영역에 묘화된 데이터를 독출하여 상기 제2메모리영역으로부터의 미리 결정된 주사선방향을 따라 인접한 상기 후속의 아웃라인데이터의 플래그데이터끼리 상기 주사선방향을 따라 배타적 논리화 (XOR) 연산함과 더불어, 상기 배타적 논리화연산의 결과와 상기 제1메모리영역으로부터의 도포된 패턴데이터와의 소정의 논리연산을 상기 주사선방향을 따라 모든 폐곡선상의 주사선에 대해 수행함으로써 상기 아웃라인내부의 도포된 패턴데이터를 얻는 단계, (g)상기 단계(f)에서 얻어진 패턴데이터를 상기 제1메모리영역에 기입하는 단게 및, (h)상기 단계(e)∼(g)를 소정회수만큼 수행함으로써 임의 내부의 완전히 도포된 패턴을 얻은 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 패턴도포방법.
  5. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910011231A 1990-07-03 1991-07-03 도포패턴발생장치를 이용한 패턴도포방법 KR950006476B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2174374A JP2982973B2 (ja) 1990-07-03 1990-07-03 パターン塗り潰し方法
JP02-174374 1990-07-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR920003543A true KR920003543A (ko) 1992-02-29
KR950006476B1 KR950006476B1 (ko) 1995-06-15

Family

ID=15977499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910011231A KR950006476B1 (ko) 1990-07-03 1991-07-03 도포패턴발생장치를 이용한 패턴도포방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5386502A (ko)
EP (1) EP0464794B1 (ko)
JP (1) JP2982973B2 (ko)
KR (1) KR950006476B1 (ko)
DE (1) DE69132756T2 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3332165B2 (ja) * 1992-08-08 2002-10-07 株式会社リコー 画像処理装置
US5600768A (en) * 1995-06-06 1997-02-04 Apple Computer, Inc. Image generation with dynamically consolidated list of image data
US5671345A (en) * 1995-06-06 1997-09-23 Apple Computer, Inc. System and method for intercepting and reconstructing graphics management tool marking instructions
JP4100945B2 (ja) * 2002-03-27 2008-06-11 富士通株式会社 図形描画装置
US7030881B2 (en) * 2003-03-25 2006-04-18 Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. Method for converting two-dimensional objects to distance fields
US7106332B2 (en) * 2003-03-25 2006-09-12 Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. Method for converting two-dimensional pen strokes to distance fields
US20060103857A1 (en) * 2004-11-17 2006-05-18 Lexmark International, Inc. Method of reducing a consumption of imaging substance when forming an image

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2641708C3 (de) * 1976-09-16 1980-02-21 Paul 6456 Langenselbold Gutermuth Unterdecke, insbesondere für gewerbliche Küchen, Schlachthauser, Waschkuchen u.dgl
EP0145821B1 (en) * 1983-12-22 1988-05-11 International Business Machines Corporation Area filling hardware for a colour graphics frame buffer
JPS63135461U (ko) * 1987-02-23 1988-09-06
JPH01100590A (ja) * 1987-10-13 1989-04-18 Fujitsu Ltd 表示制御方式
CA1317041C (en) * 1987-12-24 1993-04-27 Ncr Corporation Apparatus for creating a cursor pattern by strips related to individual scan lines
JPH01196675A (ja) * 1988-01-30 1989-08-08 Toshiba Corp パターンデータ生成方式
JPH0736163B2 (ja) * 1988-08-26 1995-04-19 株式会社東芝 塗潰しパターン発生装置
US4982343A (en) * 1988-10-11 1991-01-01 Next, Inc. Method and apparatus for displaying a plurality of graphic images

Also Published As

Publication number Publication date
DE69132756D1 (de) 2001-11-15
US5386502A (en) 1995-01-31
JP2982973B2 (ja) 1999-11-29
EP0464794A2 (en) 1992-01-08
DE69132756T2 (de) 2002-06-20
EP0464794B1 (en) 2001-10-10
JPH0464182A (ja) 1992-02-28
KR950006476B1 (ko) 1995-06-15
EP0464794A3 (en) 1993-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910006033A (ko) 문자 패턴 발생 방식 및 문자 데이타 격납 방법
KR890012244A (ko) 패턴데이터생성 시스템
ATE350726T1 (de) Verfahren, gerät und rechnerprogramprodukt zur erzeugung von perspektivkorrigierten daten aus gekrümmter information
DE68914045D1 (de) Verfahren zur Kodierung von Hilfsdaten für die Rekonstruktion eines unterabgetasteten, elektronischen Bildes.
KR960024989A (ko) 컴퓨터 메모리에 정보를 기억하는 방법 및 장치
DE69016765T2 (de) Verfahren zur Erzeugung einer Pseudozufallszahl in einem Datenbearbeitungssystem und ein System zur Ausführung dieses Verfahrens.
SE8405757L (sv) Metod och anordning for tilldelning av fergverden till bitavbildade minneslegen
KR920003543A (ko) 도포패턴발생장치 및 그 장치를 이용한 패턴도포방법
TW330273B (en) The image-processing device and method for mapping image memory
DE50005595D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum erzeugen eines datenstroms und vorrichtung und verfahren zum lesen eines datenstroms
KR920015923A (ko) 신호 처리 시스템
JPS54142938A (en) Pattern generation system for display unit
DE68923531T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum speicherselbsttest.
KR920003159A (ko) 프로그램 가능 논리 장치들의 고속 테스팅
US4185271A (en) Character reading system
KR900000768A (ko) 곡면생성 방식
JPS6421557A (en) Method for testing memory
JPS5651678A (en) Testing method for memory element and pattern generator for test
JPS60245085A (ja) 塗潰し処理方式
KR850006086A (ko) 문자처리 방식
KR910010338A (ko) 데이터 처리장치
KR920010495A (ko) 패턴매칭방식
JPH0573693A (ja) 輪郭塗り潰し方式
KR850007507A (ko) 전자데이타 리이터/라이터
KR940002850A (ko) 문자영상의 트래킹 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030530

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee