KR920003426A - 처리장치 - Google Patents
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- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 4
- 239000010979 ruby Substances 0.000 claims 3
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims 3
- OVBPIULPVIDEAO-LBPRGKRZSA-N folic acid Chemical compound C=1N=C2NC(N)=NC(=O)C2=NC=1CNC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(O)=O)C=C1 OVBPIULPVIDEAO-LBPRGKRZSA-N 0.000 claims 2
- 229940014144 folate Drugs 0.000 claims 1
- 235000019152 folic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 239000011724 folic acid Substances 0.000 claims 1
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- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 본 발명에 관한 토글식 게이트 장치를 조립한 마그네트론 플라즈마 에칭 시스템의 레이아웃을 나타내는 일부 절결 개략 평면도,
제 2도는 제1도에 도시한 시스템에 조립한 마그네트론 플라즈마 에칭 장치의 횡단면도로서, 제1도의 Ⅱ-Ⅱ선 단면도.
Claims (11)
- 진공실에 통하는 게이트구를 개폐하는 게이트 장치를 개재하여 피처리체를 반입 또는 반출하는 처기장치로서, 상기 게이트구(12)를 규정하는 벽수단과, 상기 게이트구 주위의 상기 벽수단과 걸어맞춤하여 상기 게이트구(12)를 피복하는 게이트 수단(50)과, 상기 게이트 수단(50)을, 상기 게이트구(12)에 대하여 접근 및 이반(離反)하는 제1의 방향에서 가동을 지지하는 지지수단(30)과, 상기 지지수단(30)을 상기 제1의 방향과 대체로 직교하는 제2의 방향으로 작동시키는 구동수단(18)과, 상기 게이트 수단(59)의 상기 제2방향에서의 끝단부의 배열 형성된스톱퍼 플레이트(56)와, 상기 스톱퍼 플레이트(56)의 표면이 상기 게이트구를 향하여 분기(diverge)하도록 경사함과 동시에, 상기 스톱퍼 폴레이트(56)가 사파이어, 루비. 및 철 또는 니켈중 적어도 1종을 베이스트하는 복붕화물계 정질 합금으로 구성되는 군으로부터 선택된 재료에 의하여 형성됨과 동시에 상기 스톱퍼 플레이트(56)의상기 표면에 맞닿음 가능하게 배치된 로울러(24)와, 상기 로울러의 회전측이 상기 벽수단에 대하여 상대적으로 고정되어 있음과 동시에, 상기 스톱퍼 플레이트(56)를 개재하여 상기 로울러(24)에 부여되는 상기 게이트 수단(50)의 상기 제2방향에서의 가해지는 힘의 일부를, 상기 벽수단을 향하는 상기 게이트 수단(50)의 상기 제1방향에서의 이동 및 가해지는 힘으로 변환하는 변환수단(40), (42), (44), (58)과를 구비하는 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 마찰 미끄러 움직임부가, 상기 게이트 수단(50)의 상기 제2방향에서의 끝단부에 배열형성된 스톱퍼 플레이트(56)와, 상기 스톱퍼 플레이트(56)에 맞닿음 가능하게 배치된 로울러(24)와, 상기 로울러의 회전축이 상기 벽수단에 대하여 상대적으로 고정되어 있는 것을 구비하는 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 마찰 미끄러 움직임부가 사기 벽수단에 대하여 상대적으로 고정되고, 상기 제2방향에서의 상기 지지부재(30)의 괘도를 규정하는 레일(32)과, 상기 레일(32)에 걸어맞춤하는 상기 지지부재에 고정되는 베어링 수단(34)과를 구비하는 처리장치.
- 진공실에 통하는 게이트구(12)를 개폐하는 게이트 장치를 개재하여 피처리체를 반입 또는 반출하는 처리장치로서, 상기 게이트구(12)를 규정하는 벽수단과, 상기 게이트구 주위의 상기 벽수단과 걸어맞춤하여 상기 게이트구(12)를 피복하는 게이트 수단(50)과, 상기 게이트 수단(50)을, 상기 게이트구(12)에 대하여 접근 및 이반하는 제1의 방향에서 가동을 지지하는 지지수단(30)과, 상기 지지수단을 상기 제1의 방향과 대체로 직교하는 제2의 방향으로 작동시키는 구동수단(18)과, 상기 지지수단(30)의 상기 제2방향에서의 이동 동작을, 상기 게이트구(12)를 개폐하는 상기 게이트 수단(50)의 상기 제1방향에서의 이동 동작으로 변환하는 수단(24), (40), (42), (44), (56), (58)과, 를 구비하며, 여기서, 상기벽 수단에 대하여 상대적으로 고정되는 고정부분과, 상기 벽수단에 대하여 상대적으로 가동하는 가동부분이 직접 접촉하는 마찰 미끄러 움직임부의 일부 또는 전부가, 사파이어, 루비, 및 철 또는 니켈 중 적어도 1종을 베이스로 하는 복붕화물계 경질 합금으로 구성되는 군으로부터 선택된 재료에 의해서 형성되는 처리장치.
- 제4항에 있어서, 상기 스톱퍼 플레이트(56)가 철 또는 니켈을 베이스로 하는 복붕화물계 경질합금으로 구성되는 처리장치.
- 제4항에 있어서, 상기 로울러(24)가 사파이어, 루비 및 철 또는 니켈을 베이스로 하는 복붕화물계 경질 합금으로 구성되는 군으로부터 선택된 재료에 의하여 형성되는 처리장치.
- 제6항에 있어서, 상기 로울러(24)가 철 또는 니켈을 베이스로 하는 복붕화물계 경질 합금으로 구성되는 처리장치.
- 제6항에 있어서, 상기 장치가, 상기 벽수단(50)에 대하여 상대적으로 고정되고, 상기 제2방향에서의 상기 지지부재(30)의 괘도를 규정하는 레일(32)과, 상기 레일(32)에 걸어맞춤하는, 상기 지지부재(30)에 고정된 베어링 수단(34)과를 또한 구비하고, 상기 베어링 수단(34)이, 철또는 니켈을 베이스로 하는 복붕화물계 경질 합금으로 구성되는 군으로부터 선택된 재료에 의하여 형성되는 처리장치.
- 제8항에 있어서, 상기 장치가 마그네트론 플라즈마 에칭 장치로의 게이트구를 개폐하는 처리장치.
- 제9항에 있어서, 상기 장치가 토글식 게이트 장치인 처리장치.
- ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2192472A JPH0478377A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | トグル式ゲート |
JP90-192472 | 1990-07-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920003426A true KR920003426A (ko) | 1992-02-29 |
KR0168322B1 KR0168322B1 (ko) | 1999-02-01 |
Family
ID=16291864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910012271A KR0168322B1 (ko) | 1990-07-20 | 1991-07-18 | 로우드록 게이트 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5150882A (ko) |
EP (1) | EP0467356B1 (ko) |
JP (1) | JPH0478377A (ko) |
KR (1) | KR0168322B1 (ko) |
DE (1) | DE69106614T2 (ko) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960002534A (ko) * | 1994-06-07 | 1996-01-26 | 이노우에 아키라 | 감압·상압 처리장치 |
US5579718A (en) * | 1995-03-31 | 1996-12-03 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door |
US6216328B1 (en) | 1996-07-09 | 2001-04-17 | Lam Research Corporation | Transport chamber and method for making same |
US5667197A (en) * | 1996-07-09 | 1997-09-16 | Lam Research Corporation | Vacuum chamber gate valve and method for making same |
US5746434A (en) * | 1996-07-09 | 1998-05-05 | Lam Research Corporation | Chamber interfacing O-rings and method for implementing same |
US6095741A (en) | 1999-03-29 | 2000-08-01 | Lam Research Corporation | Dual sided slot valve and method for implementing the same |
US6267545B1 (en) | 1999-03-29 | 2001-07-31 | Lam Research Corporation | Semiconductor processing platform architecture having processing module isolation capabilities |
JP4331430B2 (ja) * | 1999-06-02 | 2009-09-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体処理システムのゲートバルブ |
US6263542B1 (en) | 1999-06-22 | 2001-07-24 | Lam Research Corporation | Tolerance resistant and vacuum compliant door hinge with open-assist feature |
US6244811B1 (en) | 1999-06-29 | 2001-06-12 | Lam Research Corporation | Atmospheric wafer transfer module with nest for wafer transport robot |
US6347919B1 (en) * | 1999-12-17 | 2002-02-19 | Eaton Corporation | Wafer processing chamber having separable upper and lower halves |
US6390448B1 (en) | 2000-03-30 | 2002-05-21 | Lam Research Corporation | Single shaft dual cradle vacuum slot valve |
US6913243B1 (en) * | 2000-03-30 | 2005-07-05 | Lam Research Corporation | Unitary slot valve actuator with dual valves |
US7908934B2 (en) * | 2008-02-29 | 2011-03-22 | Dionex Corporation | Valve assembly |
CN105056861B (zh) * | 2015-09-15 | 2017-06-23 | 上海屹尧仪器科技发展有限公司 | 一种自泄压式单模微波反应系统 |
RU177844U1 (ru) * | 2017-06-26 | 2018-03-14 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак" | Высоковакуумный затвор вакуумной установки |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU136990A1 (ru) * | 1958-04-02 | 1960-11-30 | И.Р. Киричек | Задвижка дл вакуумных систем |
JPS6057499B2 (ja) * | 1981-10-19 | 1985-12-16 | 東洋鋼鈑株式会社 | 硬質焼結合金 |
SU1093854A1 (ru) * | 1983-01-11 | 1984-05-23 | Специальное Проектно-Конструкторское И Технологическое Бюро Электротермического Оборудования Саратовского Завода Электротермического Оборудования | Вакуумный шиберный затвор |
US4584045A (en) * | 1984-02-21 | 1986-04-22 | Plasma-Therm, Inc. | Apparatus for conveying a semiconductor wafer |
US4640223A (en) * | 1984-07-24 | 1987-02-03 | Dozier Alfred R | Chemical vapor deposition reactor |
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US4923584A (en) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Eaton Corporation | Sealing apparatus for a vacuum processing system |
US5002255A (en) * | 1989-03-03 | 1991-03-26 | Irie Koken Kabushiki Kaisha | Non-sliding gate valve for high vacuum use |
JPH0766768B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1995-07-19 | 株式会社日立製作所 | 粒子線を用いた表面分析装置 |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP2192472A patent/JPH0478377A/ja active Pending
-
1991
- 1991-07-17 US US07/731,474 patent/US5150882A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-18 DE DE69106614T patent/DE69106614T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-18 EP EP91112019A patent/EP0467356B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-18 KR KR1019910012271A patent/KR0168322B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0467356A2 (en) | 1992-01-22 |
JPH0478377A (ja) | 1992-03-12 |
US5150882A (en) | 1992-09-29 |
DE69106614D1 (de) | 1995-02-23 |
KR0168322B1 (ko) | 1999-02-01 |
EP0467356B1 (en) | 1995-01-11 |
EP0467356A3 (en) | 1992-05-20 |
DE69106614T2 (de) | 1995-06-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20030924 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |