KR860002863A - 진공 처리 장치 - Google Patents

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소오스께(외 1) 가와시마
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미다 가쓰시게
가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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Abstract

내용 없음

Description

진공 처리 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 본 발명에 의한 진공 처리장치의 일실시예를 나타내는 연속스패터 장치의 요부 평면 구성도.
제 2도는 제1도의 A-A사시 단면도.
제 3도는 제2도의 캐리어의 정면도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10:주진공실, 11:회전드럼, 12:개구, 21:반송버퍼실, 22:로드실, 23:언로드실, 30:기판, 40,50,60:반송수단, 41,42,83,132:푸셔, 43,44:홈 51,52,53,100,101 :로울러컨베이어, 54:안내로울러, 55,56:캐리어, 61:아암, 64,65,122:조, 70,71,72,73:게이트밸브, 80:기판설치수단 81:기판대, 82,121:스프링, 90:로드카셋트, 91:언로드카셋트, 110,113,116:로울러, 111,114,117:체인, 112,115,118:DC모우터, 120:캐리어본체, 123:요부, 125:구멍, 140,141:축, 142,143:구동장치.

Claims (8)

  1. 주진공실과, 이 주진공실에 진공간 차단수단을 개재시켜 구비 설치된 제1의 진공예비실과, 이 제1의 진공 예비실에 진공간 차단수단을 개재시켜 구비 설치된 제2의 진공 예비실과, 이 제2의 진공 예비실과 외부와의 사이에 진공, 대기간 차단수단을 개재시켜 시료를 피처리면 수직자세로 유지하여 반송하는 제1의 반송수단과 상기 제1의 진공예비실과, 제2의 진공예비실과의 사이에 상기 진공 차단수단을 개재시켜 시료를 피처리면 수직 자세로 유지하여 반송하는 제2의 반송수단과, 상기 주진공실과 제1의 진공예비실과의 사이에서 상기 진공간 차단수단을 개재시켜 시료를 리처리면 수직자세로 유지하여 반송하는 제3의 반송수단을 구비한 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 주진공실에 제1의 진공예비실을 수평방향으로 구비 설치하고, 상기 제1의 진공예비실에 제2의 진공예비실을 수평방향으로 구비 설치한 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 주진공실에 상기 제1의 진공예비실을 구비설치하고, 상기 제1의 진공예비실에 제2의 진공예비실을 높이 방향으로 구비 설치한 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1의 반송 수단이 시료를 피처리면 수직자세로 유지하는 푸셔와, 이 푸셔를 상하 방향으로 왕복운동시켜 푸셔에 유지된 시료를 외부와 상기 제2의 진공예비실과의 사이에서 상기 진공, 대기간 차단 수단을 개재시켜 반송하는 구동장치로 구성되고, 상기 제2의 반송수단이 시료를 피처리면 수작지세로 유지하는 캐리어와, 이 캐리어를 상기 제1의 진공예비실내와 상기 제2의 진공예비실내에서 이동시키는 수단으로 구성되고, 제3의 반송수단이 상기 제1의 진공 에비실내에서 신축가능하고 회전 가능한 아암과, 이 아암을 신축 및 회전운동시키는 구동장치와, 상기 아암에 설치되고 시료를 피처리면 수직자세로 유지하는 유지대로 구성된 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 푸셔의 진공, 대기간 차단수단과 대응하는 면에 상기 시료를 피처리면 수직자세로 유지할 수 있는 홈을 형성한 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 캐리어를 제1의 진공 예비실내와 제2의 진공예비실내에서 이동시키는 수단이 로울러 컨베이어와 이 로울러 컨베이어에 의한 캐리어의 이동을 안내하는 안내로울러로서 구성된 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  7. 제4항에 있어서, 상기 캐리어를 제1의 진공예비실내와 제2의 진공예비실내에 이동시키는 수단이 캐리어가 설치된 축과, 이 축을 왕복운동시키는 구동장치로 구성된 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  8. 제4항에 있어서, 상기 캐리어가 시료를 수납함과 동시에 시료를 반입. 출하기 위한 요(凹)부와, 이 요부의 일부를 포함하는 구멍이 동일원주상에서 복수개가 뚫어 설치된 캐리어 본체와, 상기 요부가 형성된 면과 반대면에서 캐리어 본체에 설치된 스프링과, 이 스프링에 일단이 설치되고 타단부가 상기 구멍을 거쳐 상기 요부내에 돌출된 조(瓜)로 구성된 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850006693A 1984-09-14 1985-09-13 진공 처리장치 KR900003469B1 (ko)

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2199022B (en) * 1986-11-20 1991-01-02 Shimizu Construction Co Ltd Dust tight storage cabinet apparatus for use in clean rooms
DE3716498C2 (de) * 1987-05-16 1994-08-04 Leybold Ag Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer
JP2626782B2 (ja) * 1988-01-29 1997-07-02 アネルバ株式会社 真空処理装置
JP2704309B2 (ja) * 1990-06-12 1998-01-26 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置及び基板の熱処理方法
WO1994000868A1 (en) 1992-06-26 1994-01-06 Materials Research Corporation Transport system for wafer processing line
US5643366A (en) * 1994-01-31 1997-07-01 Applied Materials, Inc. Wafer handling within a vacuum chamber using vacuum
US5882171A (en) * 1996-10-01 1999-03-16 Balzers Aktiengesellschaft Transport and transfer apparatus
EP0870850B1 (de) * 1997-04-11 2002-09-18 Leybold Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer
DE19715151A1 (de) * 1997-04-11 1998-10-15 Leybold Systems Gmbh Verfahren zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer und Handlingsvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19835154A1 (de) 1998-08-04 2000-02-10 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten in einer Vakuumkammer
US6264804B1 (en) 2000-04-12 2001-07-24 Ske Technology Corp. System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system
US6413381B1 (en) 2000-04-12 2002-07-02 Steag Hamatech Ag Horizontal sputtering system
US8936425B2 (en) * 2012-01-23 2015-01-20 Tera Autotech Corporation Ancillary apparatus and method for loading glass substrates into a bracket

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3340176A (en) * 1965-07-28 1967-09-05 Western Electric Co Vacuum processing machine
US4208159A (en) * 1977-07-18 1980-06-17 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Apparatus for the treatment of a wafer by plasma reaction
JPS5493363A (en) * 1977-12-31 1979-07-24 Tokyo Ouka Kougiyou Kk Improved plasma reactive processor
US4756815A (en) * 1979-12-21 1988-07-12 Varian Associates, Inc. Wafer coating system
US4405435A (en) * 1980-08-27 1983-09-20 Hitachi, Ltd. Apparatus for performing continuous treatment in vacuum
US4498832A (en) * 1982-05-21 1985-02-12 The Boc Group, Inc. Workpiece accumulating and transporting apparatus
US4553069A (en) * 1984-01-05 1985-11-12 General Ionex Corporation Wafer holding apparatus for ion implantation
US4584045A (en) * 1984-02-21 1986-04-22 Plasma-Therm, Inc. Apparatus for conveying a semiconductor wafer
US4548699A (en) * 1984-05-17 1985-10-22 Varian Associates, Inc. Transfer plate rotation system

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KR900003469B1 (ko) 1990-05-19
US4699554A (en) 1987-10-13

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