KR910019134A - 이온주입장치 - Google Patents

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KR910019134A
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마사오 나이도우
데쓰야 나가니시
시게오 사사끼
스스무 가도우
마사야쓰 단조우
가즈히로 쇼노우
나오미쓰 후지시다
가즈히꼬 노구찌
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시기 모리야
미쓰비시 뎅끼 가부시끼가이샤
고마쓰 신
닛신 뎅끼 가부시끼가이샤
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Abstract

내용 없음

Description

이온주입장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이 발명의 제1의 실시예에 의한 이온주입 장치의 구성을 표시하는 도면, 제2도는 빔 인출부에서의 규격화 퍼비언스(perveance)개념을 사용한 이론계산에 의거하여 아크챔버와 빔 인출전극간의 거리를 조정하여 이온 빔 제어를 행하는 제어 알고리즘의 일예를 표시하는 도면, 제3도는 아크챔터와 빔 인출 전극간의 거리 및 질량 분리기의 입사각, 출사각의 조정을 하여 이온빔 제어를 행하는 제어 알고리즘의 한 예를 표시하는 도면.

Claims (4)

  1. 이온을 발생하는 아크챔버 및 해당 아크챔버에서 이온을 인출하는 인출전극을 구비한 이온원과 인출된 이온중에서 주입에 필요한 이온만을 추출하여 이온주입의 대상으로 되는 피처리물에 수송하는 질량분리기와, 상기피처리물을 얹어 놓는 이온주입실과를 가지는 이온주입장치에 있어서 주입하는 이온종류, 가속전압, 전류량등의설정에 응하여 상기 아크챔버와 상기 인출전극간의 거리를 빔 인출부에서의 규격화 파비언스의 개념을 사용한이론계산에 의거한 정량화에 의하여 자동제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 이온주입장치.
  2. 제1항에 있어서 이온빔 전류밀도 분포측정장치, 해당측정장치의 측정결과를 기초로하여 설정최대전류밀도를 이르키지 못하는 최대주입전류량이 얻어지도록 아크챔버와 인출전극간거리를 자동제어 하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 이온주입장치.
  3. 이온을 발생하는 아크챔버 및 해당 아크챔버에서 이온을 인출하는 인출전극을 구비한 이온원과 인출된 이온중 주입에 필요한 이온만을 추출하여 이온주입의 대상으로 되는 피처리물에 수송하는 질량분리기와, 상기 피처리물을 얹어 놓는 이온주입실과를 가지는 이온주입장치에 있어서 상기 질량분리기의 빔 입사각·출사각의 양쪽을 이론 계산에 의거한 정량화에 의하여 자동제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 이온주입장치.
  4. 제1항에 있어서 이온빔 전류밀도 분포측정장치와 해당측정장치의 측정결과를 기초로하여 설정최대전류밀도를 일으키지 못하는 최대주입전류량이 얻어지도록 질량분리기의 빔 입사각·출사각의 양쪽을 동시에 피드백제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 이온주입장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR9012670A 1989-08-17 1990-08-17 Ion implantation apparatus KR940001755B1 (en)

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JP2-114307 1990-04-27

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EP0701269B1 (en) 1997-03-26
EP0701268A1 (en) 1996-03-13
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