KR910010241A - 노출된 네가티브-작용성 재생층용 현상 농축액, 이로부터 제조된 현상액 및 인쇄형의 제조방법 - Google Patents
노출된 네가티브-작용성 재생층용 현상 농축액, 이로부터 제조된 현상액 및 인쇄형의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR910010241A KR910010241A KR1019900018394A KR900018394A KR910010241A KR 910010241 A KR910010241 A KR 910010241A KR 1019900018394 A KR1019900018394 A KR 1019900018394A KR 900018394 A KR900018394 A KR 900018394A KR 910010241 A KR910010241 A KR 910010241A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- concentrate
- developing
- weight
- concentrate according
- acid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (21)
- 물, 하나 이상의 유기용매, 하나 이상의 알칼리성 반응시약, 하나이상의 음이온성 계면활성제, 하나 이상의 n-알카노산 및/또는 이의 염, 하나 이상의 유화제, 하나 이상의 완충물질 및 올리고머성 인산염 및/또는 N-(2-하이드록시에틸)에틸렌디아미노트리아세트산의 알칼리 금속염인 하나 이상의 착물생성제의 혼합물로 이루어진 현상 농축액.
- 제1항에 있어서, 농축액중에서 착물생성제의 함량이 0.1 내지 9.0 중량%, 바람직하게는 0.6 내지 6.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 착물생성제가 인 단위를 2내지 10개, 특히 2 내지 6개 함유하는 올리고포스페이트의 알칼리 금속염인 현상 농축액.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 착물생성제가 N-(2-하이드록시에틸) 에틸렌디아미노트리아세트산의 나트륨염인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, n-알카노산 및/또는 이의 염의 탄소원자를 8 내지 22개를 갖는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 농축액에서 n-알카노산 함량이 1.0 내지 16중량%, 바람직하게는 1.5 내지 14.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, n-알카노산 및/또는 이의 염이 카프릴산, 펠라르곤산, 카프르산 및 라우르산으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 농축액 중에서 음이온성 계면활성제의 함량이 0.2 내지 15.0중량%, 바람직하게는 1.0 내지 8.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 음이온성 계면활성제의 알칼리 금속(바람직하게는 나트륨) 옥틸 설페이트, 도데살벤젠설포네이트, 알킬 페놀 에테르 셀페이트, 나프탈렌셀포네이트, 설포석시네이트, 알킬 에테르 포스페이트 또는 알칼리 금속(바람직하게는 나트륨)올레산 메틸 타우라이드로 이루어진 그룹중에서 선택되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 농축액 중의 유화제의 함량이 0.1 내지 10.0중량%, 바람직하게는 0.2 내지 6.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 유화제가 폴리-N-비닐-N-메틸아세트아미드, N-비닐-N-메틸아세트아미드의 수용성 공중합체, 폴리비닐 알코올, 덱스트린, 아라비아 고무 및 셀룰로오즈 에테르, 특히 카복시메틸 셀룰로오즈로 이루어진 그룹중에서 선택되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, 농축액의 유기용매의 함량이 0.5 내지 15.0중량%, 바람직하게는 1.0 내지 10.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 유기용매가 벤질 알코올, 펜옥시에탄올, 1-페닐에탄올, 2-페닐에탄올 및 프로필렌 글리콜 모노메틸 및 -페닐 에테르로 이루어진 그룹중에서 선택되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 농축액 중의 완충물질의 함량이 0.5 내지 20.0중량%, 바람직하게는 0.7 내지 10.0중량%인 현상 농축액.
- 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 완충물질이 탄산염, 인산염, 붕산염, 글리신의 알칼리 금속염 및 아민, 바람직하게는 디에탄올아민과 트리에탄올아민으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, 알칼리 금속 수산화물이 알칼리성 반응시약으로서 사용되는 현상 농축액.
- 제1항 내지 제16항중의 어느 한 항에 따르는 농축액이 수도물에 의해 희석된, 기재위의 노출된 네가티브-작용성 재생층을 현상하기 위한 현상 농축액.
- 제17항에 있어서, 수도물에 대한 농축액의 희석비가 1:0.5 내지 1:6인 현상액.
- 디아조늄염 증축합 수지를 함유하는 네가티브-작용성 층을 기재위에 처리하고, 당해 층을 상에 노출시킨 다음, 제17항 또는 제18항에서 청구한 현상액으로 현상시킴을 특징으로 하여 인쇄형을 제조하는 방법.
- 광중합성 화합물을 함유하는 네가티브-작용성 층의 기재위에 처리하고, 제19항에서 청구한 바와 같이 추가로 처리함을 특징으로 하여 인쇄형을 제조하는 방법.
- 디아조늄염 증축합 수지와 광중합성 화합물을 모두 함유하는 네가티브-작용성 층을 기재위에 처리하고, 제19항에서 청구한 바와 같이 추가로 처리함을 특징으로 하여 인쇄형을 제조하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP39381072 | 1989-11-16 | ||
DE3938107A DE3938107A1 (de) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910010241A true KR910010241A (ko) | 1991-06-29 |
Family
ID=6393649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900018394A KR910010241A (ko) | 1989-11-16 | 1990-11-14 | 노출된 네가티브-작용성 재생층용 현상 농축액, 이로부터 제조된 현상액 및 인쇄형의 제조방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5155012A (ko) |
EP (1) | EP0432451B1 (ko) |
JP (1) | JPH03172850A (ko) |
KR (1) | KR910010241A (ko) |
BR (1) | BR9005803A (ko) |
CA (1) | CA2029968A1 (ko) |
DE (2) | DE3938107A1 (ko) |
FI (1) | FI905637A (ko) |
ZA (1) | ZA909159B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100364291B1 (ko) * | 2000-03-06 | 2002-12-18 | 주식회사 프리챌홀딩스 | 기체 필터용 부직포 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5431847A (en) * | 1991-07-17 | 1995-07-11 | Charles B. Barris | Aqueous cleaning concentrates |
US5433885A (en) * | 1991-07-17 | 1995-07-18 | Church & Dwight Co., Inc. | Stabilization of silicate solutions |
US5234505A (en) * | 1991-07-17 | 1993-08-10 | Church & Dwight Co., Inc. | Stabilization of silicate solutions |
US5234506A (en) * | 1991-07-17 | 1993-08-10 | Church & Dwight Co., Inc. | Aqueous electronic circuit assembly cleaner and method |
US5264047A (en) * | 1991-07-17 | 1993-11-23 | Church & Dwight Co., Inc. | Low foaming effective hydrotrope |
US5279927A (en) * | 1992-07-23 | 1994-01-18 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability |
EP0874284B1 (en) * | 1993-04-28 | 2002-07-10 | Toray Industries, Inc. | Developer for a positive electron beam resist composition |
US5753421A (en) * | 1994-03-31 | 1998-05-19 | Tokyo Ohka Kogya Co., Ltd. | Stock developer solutions for photoresists and developer solutions prepared by dilution thereof |
DE69704298T2 (de) * | 1996-05-31 | 2001-09-27 | Atofina | Abbeizmittelzusammensetzung auf Basis von einem polaren, aprotischen Lösungsmittel, einem Ether und Wasser |
FR2749315B1 (fr) * | 1996-05-31 | 1998-08-14 | Atochem Elf Sa | Composition decapante a base d'eau et d'anisole |
DE19811330A1 (de) * | 1998-03-16 | 1999-09-23 | Du Pont Deutschland | Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen |
DE19845605A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-06 | Agfa Gevaert Ag | Konzentrat und daraus hergestellter wäßriger Entwickler für bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterialien |
US6383717B1 (en) | 2000-10-11 | 2002-05-07 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Aqueous developer for negative working lithographic printing plates |
US6756183B2 (en) * | 2001-08-24 | 2004-06-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing lithographic printing plate |
EP1361480A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-12 | Shipley Co. L.L.C. | Residue reducing stable concentrate |
DE10310168B4 (de) * | 2003-03-08 | 2007-07-19 | Huber Gmbh | Wässrige Entwicklerlösung für Offset-Druckplatten |
US7157213B2 (en) * | 2004-03-01 | 2007-01-02 | Think Laboratory Co., Ltd. | Developer agent for positive type photosensitive compound |
EP1574907A1 (en) * | 2004-03-08 | 2005-09-14 | Think Laboratory Co., Ltd. | Developing agent for positive-type photosensitive composition |
JP4900913B2 (ja) * | 2006-02-01 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
JP2008249874A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 平版印刷版の現像処理液および現像処理方法 |
JP5264427B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US20100216067A1 (en) * | 2009-02-20 | 2010-08-26 | Miller Gary R | Lithographic printing plate developing compositions |
JP5771361B2 (ja) * | 2010-04-22 | 2015-08-26 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜 |
WO2012111238A1 (ja) * | 2011-02-16 | 2012-08-23 | 東洋紡績株式会社 | 印刷版用現像液組成物、現像液および印刷原版の製造方法 |
EP3542221B1 (en) * | 2016-11-16 | 2021-03-17 | Miraclon Corporation | Flexographic developers and methods of use |
US11633948B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-04-25 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
JPS5854341A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像方法および現像液 |
JPS58190952A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版の現像液 |
US4588836A (en) * | 1982-09-01 | 1986-05-13 | Toyo Jozo Kabushiki Kaisha | Novel synthetic substrate and assay method using the same |
DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
US4851324A (en) * | 1987-07-27 | 1989-07-25 | Hoechst Celanese Corporation | Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH |
-
1989
- 1989-11-16 DE DE3938107A patent/DE3938107A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-11-07 DE DE59010623T patent/DE59010623D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-07 EP EP90121283A patent/EP0432451B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-14 KR KR1019900018394A patent/KR910010241A/ko not_active Application Discontinuation
- 1990-11-14 BR BR909005803A patent/BR9005803A/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-11-14 FI FI905637A patent/FI905637A/fi not_active Application Discontinuation
- 1990-11-14 CA CA002029968A patent/CA2029968A1/en not_active Abandoned
- 1990-11-15 ZA ZA909159A patent/ZA909159B/xx unknown
- 1990-11-15 US US07/613,010 patent/US5155012A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-15 JP JP2310160A patent/JPH03172850A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100364291B1 (ko) * | 2000-03-06 | 2002-12-18 | 주식회사 프리챌홀딩스 | 기체 필터용 부직포 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5155012A (en) | 1992-10-13 |
BR9005803A (pt) | 1991-09-24 |
EP0432451A2 (de) | 1991-06-19 |
DE59010623D1 (de) | 1997-02-13 |
CA2029968A1 (en) | 1991-05-17 |
JPH03172850A (ja) | 1991-07-26 |
EP0432451A3 (en) | 1991-09-18 |
DE3938107A1 (de) | 1991-05-23 |
FI905637A0 (fi) | 1990-11-14 |
EP0432451B1 (de) | 1997-01-02 |
ZA909159B (en) | 1991-08-28 |
FI905637A (fi) | 1991-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910010241A (ko) | 노출된 네가티브-작용성 재생층용 현상 농축액, 이로부터 제조된 현상액 및 인쇄형의 제조방법 | |
KR910010242A (ko) | 상부층을 갖는 노출된 네가티브-작용성 재생층용 현상 농축액 및 이로부터 제조된 현상액, 및 인쇄 금형의 제조 방법 | |
US4716098A (en) | Developer for preparing printing forms and process therefor | |
US3669660A (en) | Lithographic plate developing composition and process of use thereof | |
MY124702A (en) | Process and equipment for recovering developer from photoresist development waste and reusing it. | |
GB1532340A (en) | Method of developing a lithographic printing plate | |
KR100326617B1 (ko) | 현상제 잔류물을 감소시키기 위한 수성 현상 용액 | |
KR860003533A (ko) | 양성 포토레지스터 현상방법 | |
FI71024C (fi) | Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt | |
CN101963758A (zh) | 杯芳烃混合分子玻璃光致抗蚀剂及使用方法 | |
DE3162577D1 (en) | Method and developer solution for developing exposed negatively working diazonium salt layers | |
US4147545A (en) | Photolithographic developing composition with organic lithium compound | |
KR840000709A (ko) | 폐지의 부유탈잉크법 | |
GB2107891A (en) | Developer for positive photolithographic articles | |
TW353159B (en) | Method of developing positive photoresist and compositions therefor | |
FI69716C (fi) | Foerfarande foer framkallning av exponerade ljuskaensliga positivtryckplattor pao basis av o-naftokinondiazider | |
EP0097282A2 (en) | Developer compositions for photoresists | |
US3891438A (en) | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates | |
KR860003532A (ko) | 포토레지스터 현상액 | |
US6063550A (en) | Aqueous developing solutions for reduced developer residue | |
JPS55120032A (en) | Treating solution for photosensitive laminate having alcohol-soluble polyamide layer | |
EP1723471A2 (en) | Stable high ph developer | |
KR880005486A (ko) | 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물 | |
EP0597100A4 (en) | Developing solution and developing method. | |
IE61183B1 (en) | Development of radiation sensitive compositions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |